選択的なバックバイアスを使用する動的リーク制御回路

    【発明の詳細な説明】
    【技術分野】
    【0001】
    本発明は一般に電子回路に関し、より具体的にはトランジスタ回路におけるリーク電力を低減する技術に関する。
    【背景技術】
    【0002】
    マイクロプロセッサ回路は、典型的には、2つの主要な動作状態、すなわちアクティブモードとスタンバイ(待機)モードで動作する。アクティブモードでは、回路は、プロセスまたはタスクを実行しており、通常、その回路の仕様に定められた動作周波数で実行されている。アクティブモードの間は、ほとんどのトランジスタゲートがスイッチングを行っており、比較的高い動作周波数が必要とされる。スタンバイモードまたはスリープモードの間は、処理タスクは、通常アイドル(待機)状態で、比較的少数のゲートしかスイッチングを行っておらず、このため、より低い動作周波数が要求される。トランジスタ回路で消費される電力は、スイッチング電力とリーク電力の双方の関数である。回路がスタンバイモードにあっても、トランジスタにおける電力リークにより潜在的にかなりの量の電力が消費されることがある。それ故、アクティブモードで動作している回路の電力は、動的(スイッチング)電力とリーク電力の組み合わせであり、動的電力が支配的ファクタであるのに対し、ほとんどのゲートがスイッチングを行っていないスタンバイモードでは、電力消費量は、主としてリーク電力の関数である。
    【発明の概要】
    【発明が解決しようとする課題】
    【0003】
    デバイスデザインがより微細な構造にスケールダウン(例えば90nm乃至65nm、あるいはそれ未満)するにつれ、回路は、所与の動作周波数に対してより低い電圧で、従って、低減した動的電力消費量で、動作することが可能となる。しかしながら、デバイス構造が微細化するにつれてリーク電力は指数関数的に増大する。これはトランジスタの寸法が変わるにしたがって、トランジスタの動作特性が、特にトランジスタの状態が切り替わる電圧である閾値電圧VTHの効果に関して、変化するという事実に起因する。一般に、トランジスタの寸法が減少すると、供給電圧に関して閾値電圧VTHのスケーリング(すなわち拡大または縮小)が起こり、その結果、リーク電力の増大がもたらされる。スタンバイモードの間は、リーク電力が電力消費の支配的要因であるので、回路の寸法がスケールダウンするにつれ、リーク電力の影響はこの動作モードにとってずっとより重大になる。この影響は、電源容量が限られており、スタンバイモードまたはスリープモードでかなり長い時間を費やす可能性のある、例えば携帯電話機、PDA(Personal Digital Assistants)、ノート型コンピュータその他の類似デバイスといった、携帯型またはバッテリ駆動のデバイスにとって重要な問題となり得る。
    【0004】
    現在使用されている、リーク電力に起因する電力消費量を低減するシンプルな方法は、回路自体の動作電圧を下げるものであるが、しかしこれは明らかに回路の性能を低下させ、プロセッサおよび回路の動作速度が絶え間なく増大し続けるというトレンドに逆行する。スタンバイ電力の消費量を低減する別の既知の方法は、トランジスタの閾値電圧レベルをシフトするというものである。一般に、閾値電圧を増大させると、リーク電力は低下し、その結果、スタンバイ電力の消費が減少する。しかしながら、閾値電圧を増大させると、トランジスタのスイッチング速度も低下し、結果として、回路がアクティブモードで動作するときの回路性能が低下する。従ってリーク電力を低減する現行の方法は、一般的には不利であり、回路の動作モードと他の関連パラメータに応じてトランジスタの閾値電圧を動的かつフレキシブルに変更するような形にはなっておらず、回路の動作モードを十分に活かしきれていない。
    【0005】
    以下、本発明の実施形態を、添付図面を参照しながら詳細に説明する。これらの実施形態は例示的なものであり、限定的なものではない。なお添付図面には、類似の構成要素には類似の符号が付されてある。
    【図面の簡単な説明】
    【0006】
    【図1A】本発明の実施の一形態による、リーク電流を低減するためのバックバイアス方法を実行するMOS(metal-oxide semiconductor)トランジスタを示す図。
    【図1B】本発明の実施の一形態による、図1Aのトランジスタにおけるリーク電流を低減するためにバックバイアス技術を使用した結果のグラフを示す図。
    【図2A】本発明の実施の一形態による、回路閾値電圧を動的に変更するための基板バイアス電圧源を含むトランジスタ回路の回路図。
    【図2B】図2Aの回路図の製造後のトランジスタ回路の側面図。
    【図3】本発明の実施の一形態による、ステータス回路状態に基づいてトランジスタ回路の閾値電圧を変更するための電圧制御回路の回路図。
    【図4】本発明の実施の一形態による、画面表示の状況に基づいてリーク電流を動的に低減する方法を示すフローチャート。
    【図5】本発明の実施の一形態による、画面表示の状況に基づいてグラフィックスプロセッサへのドレイン電圧を制御するための電圧制御回路を示す回路図。
    【図6】本発明の実施の一形態による、画面表示の状況に基づいてバックバイアスをトリガーする方法を示すフローチャート。
    【図7】本発明の実施の一形態による、画面表示の状況に基づいてグラフィックスプロセッサへのバックバイアス電圧の印加を制御するための電圧制御回路を示す回路図。
    【発明を実施するための形態】
    【0007】
    グラフィックスプロセッサ回路に使用される動的リーク制御回路の実施形態について説明する。本動的リーク制御回路は、グラフィックスプロセッサ回路を構成するトランジスタのバックバイアス(back biasing)を、特定の動作モードの間に選択的に有効(イネーブル)にする。バックバイアスレベルは、2つの別々の電力レール(power rail)によって制御される。第1の電力レールは既存電源に結合され、第2の電力レールは別個の調整可能電圧レギュレータに結合される。第1の電力レールにも別個の電圧レギュレータが提供される場合がある。ハードウェアベースの状態機械またはソフトウェアプロセスは、1以上の動作モードの発生を検出し、第1および第2の電力レールの電圧レギュレータを調整して、回路のバックバイアス状態を有効もしくは無効(ディスイネーブル)にするか、または回路の閾値電圧を特定の電圧範囲内で変更をするようにプログラムされる。
    【0008】
    以下の説明では、本発明の動的リーク制御回路の実施形態を深く理解するとともに、説明を効果的なものにするために、多数の具体的な細部にまで言及される。しかしながら、当業者であれば、これらの実施形態は、そうした具体的な細部の1以上がなくとも、あるいは他のコンポーネント、システム等々が付け加わっても実施可能であることは理解されよう。他の事例では、開示された実施形態の特徴を曖昧にすることを避ける意味で、周知の構造または動作は示されず、あるいは詳述されない。
    【0009】
    実施の一形態において、バックバイアススキームが使用され、それにより回路内の1以上のトランジスタの閾値電圧を増大させて、単数または複数のトランジスタを流れるリーク電流を、阻止または低減する。実施の一形態において、1以上の電源レールが電圧レギュレータを通して提供され、それにより、トランジスタのバックバイアスを有効もしくは無効にするか、あるいはトランジスタ回路の実効閾値電圧を特定の電圧範囲に沿ってシフトすることによって、ある度合いのバックバイアスを提供する。
    【0010】
    図1Aに、本発明の実施の一形態による、リーク電力を低減するためのバックバイアス方法を実行するMOS(金属酸化膜半導体:metal-oxide semiconductor)トランジスタを示す。トランジスタ100は、一般化されたMOSトランジスタを表したもので、ゲート(G)102、ソース(S)104およびドレイン(D)106を備える。トランジスタ100は、任意のモード(すなわち、エンハンスメントモード、デプレッションモード等)で動作する任意のタイプ(すなわち、N型、P型等)のMOSトランジスタまたは任意の均等型もしくは類似型トランジスタデバイスとすることができる。トランジスタ100のゲート−ソース間電圧はVGSで表され、この電圧を変化させることでソース106とドレイン104間の電流が調節される。例えば、トランジスタ100といったトランジスタにおける支配的なリーク(leakage)のメカニズムの1つは、Isubthで示されるサブスレショルド(subthreshold)(またはチャネル)リーク電流である。サブスレショルドリーク電力(閾値以下リーク電力)とは、ゲート電圧が閾値電圧未満のときに、ソース106とドレイン104間の電流Isubthによって生じる電力のことである。
    【0011】
    トランジスタにおけるリーク電流を低減するためのいくつかの技術が開発されてきたが、そのほとんどはパフォーマンス(性能)、コスト、複雑度などに関するトレードオフを含む。斯かる技術の1つは、回路内のトランジスタにバックバイアスをかけてトランジスタの実効閾値電圧を低減することである。バックバイアス(“基板バイアス(body biasing)”とも呼ばれる)とは、トランジスタの基板端子を小さい負電圧に接続して基板−ソース間電圧を事実上に増大させる技術を指す。ソースと基板間の電圧差は、閾値電圧を変え、トランジスタの基板効果(body effect)として知られている。図1Bに、実施の一形態おける、バックバイアス技術を使用することによる、リーク電流の低減について説明する。図1Bは、例えば図1Aのトランジスタ100といったトランジスタに対してドレイン−ソース電流対ゲート−ソース電圧のプロットを示したものである。I−V(伝達)曲線122が示す様に、閾値電圧VTHはトランジスタがオンに切り替わる、または状態を変える電圧を表す。ライン120は閾値以下勾配(sub-threshold slope)を表し、これは、VGSがVTH未満に低下したときに、いかに有効にトランジスタがオフにすることができるかを決定する。I−V曲線122は、バックバイアスが無効になっているときの回路の伝達曲線を表し、I−V曲線124は、バックバイアスが有効になっているときの回路の伝達曲線を表す。Isubth軸に沿った2本の曲線122と124の差126は、バックバイアスが有効になっているときの回路のリーク電流の減少量を表している。従って、バックバイアスを導入することで閾値電圧が増大し(I−V曲線が右にシフトし)、リーク電流Isubthが排除または低減される。
    【0012】
    実施の一形態において、トランジスタベース回路は、BBP(正バックバイアス:back bias positive)とBBN(負バックバイアス:back bias negative)で表される2つの別々の電源レール(power supply rail)または電圧源レールを含む。正バックバイアス電圧源レールBBPはVBPで示される電圧を提供し、負バックバイアス電圧源レールBBNはVBNで示される負電圧VBNを提供する。これらの電圧レベルは、回路のバックバイアスを有効にするために、トランジスタの適切な基板端子に印加される。
    【0013】
    図2Aに、本発明の実施の一形態による、回路の閾値電圧を動的に変えるためのバックバイアス電圧源を含む、トランジスタ回路の回路図を示す。回路200は、NチャネルCMOSトランジスタ212に結合されたPチャネルCMOSトランジスタ210を備えるCMOSインバータ回路を示している。ドレイン電圧VDDは、トランジスタ210のドレインに結合された電力レール204に、印加され、ソース電圧VSSは、トランジスタ212のソースに結合された電力レール206に、印加される。トランジスタ210の基板端子(body terminal)は、正バックバイアス電圧VBPに結合され、この電圧はBBP電力レール202を通じて印加される。回路200に示す様に、VBPレベルはスタンバイレベルとアクティブレベルとの間の範囲内にある。トランジスタ212の基板端子は負バックバイアス電圧VBNに結合され、その電圧はBBN電力レール203を通じて印加される。VBNの値もアクティブレベルとスタンバイレベルとの間の範囲内にある。
    【0014】
    図2Bに、図2Aの製造後のトランジスタ回路の側面図を示す。トランジスタ回路250は、N分離領域224が内部に形成されたP基板226を含む。図2AのP型トランジスタ210は、Nウェル領域220によって形成され、この領域は、P型にドープされたドレイン領域Dおよびソース領域Sとゲート221を含む。図2AのN型トランジスタ212はPウェル領域222によって形成され、この領域はN型にドープされたドレイン領域Dおよびソース領域とゲート223を含む。正バックバイアス電圧源VBPはトランジスタ210のNウェル基板領域220に結合され、負バックバイアス電圧源VBNはトランジスタ212のPウェル基板領域222に結合される。
    【0015】
    図2Aと図2Bが示す様に、バックバイアス電圧レベルVBPとVBNは、トランジスタ210と212にバックバイアスをかけるためにインバータ回路200に印加され、これにより図1Bが示す様に閾値電圧VTHが上昇し、トランジスタを流れるリーク電流が減少する。図2Bが示す様に、バックバイアスメカニズムを導入するには、別個のバイアス電圧メッシュを付加したり、トランジスタエリアをわずかに拡大させたり、分離用の深いNウェル領域224を付加する必要がある。しかしながら、動作周波数を大きく低下させる必要なくリーク電力を低減できるというメリットは、サイズ増加や、ゲートサイズを大きく減らすことを特徴とする新世代デバイスの製造要求よりも、勝ることがある。
    【0016】
    図2Aと図2Bに示す様に、トランジスタにバックバイアスをかけるために必要な電圧は、2つの別々の電力レールによって提供される。実施の一形態によれば、1以上の調整可能電圧レギュレータが、電源レールに結合されてバックバイアス電圧源レールによって提供される電圧を調節する。これにより、閾値電圧を、単数または複数の電圧レギュレータの電圧範囲で決まる電圧スケールに沿って変更することが可能となる。実施の一形態において、電圧レギュレータ回路は、プログラマブル回路またはソフトウェアプロセスによって制御される。そのプログラマブル回路またはソフトウェアプロセスは、バックバイアス電圧レールを、トランジスタ回路の適切な動作特性に関するいくつかのパラメータに基づいて制御する。正および負のバックバイアス電圧レベルの実際の値は、実際の回路実装および要件に関係する様々な要因、例えば供給電圧レベル、動作周波数、回路構成、トランジスタタイプなどに依存する。1つの例示的な実施形態として、VBPレベルは最小1.0V乃至最大2.0Vの範囲の値を採ることがあるのに対して、VBNレベルは最小−1.0V乃至最大0Vの範囲の値をとることができる。トランジスタタイプ、その他の要因に応じて、例えばVBPに対しては1.5V乃至1.8V、VBNに対しては−0.5V乃至0Vなど、多くの他の範囲とすることが可能である。
    【0017】
    実施の一形態において、図2Aのインバータ200といったトランジスタ回路は、パーソナルコンピュータ、ワークステーション、またはゲームコンソール(ゲーム機)の専用グラフィックスレンダリングデバイスであるGPU(グラフィックス処理ユニット:Graphics Processing Unit)またはVPU(ビジュアル処理ユニット:Visual Processing Unit)で使用される、またはその一部として使用される、ASIC(特定用途向け集積回路:Application Specific Integrated Circuit)の一部である。GPUは、一般的には2D(2次元)または3D(3次元)のコンピュータグラフィックスを生成するのみならず、他のデジタルビデオ関連処理を実行するための、多数のグラフィックス基本演算を実行する。本実施形態では、バックバイアス電圧レベルを制御するための電圧レギュレータ回路の制御を指示するパラメータは、グラフィックス画像の生成とグラフィックス処理の実行に関する電力要件に基づく。アクティブモードでは、グラフィックスプロセッサは、典型的には、図形要素(graphics element)を生成し、動き(motion)を描写し、そして3D処理を実行するなどを行い、その間、多くのメモリ集約的および算術/論理集約的タスクを実行している。この場合には、GPUのほとんどのゲートは、アクティブにスイッチングを行っており、GPUの最大周波数が利用される。スタンバイモードの間は、表示画面は静的な場合があり、比較的少数のゲートしかスイッチングを行っておらず、例えば3Dレンダリングなどの複雑なプロセスはアイドル状態にある。
    【0018】
    本実施形態に関して、電圧レギュレータの制御を指示するパラメータは、所望のパフォーマンスレベル、動作周波数、供給電圧、有効にされる回路のタイプ、動作モード、および他の類似要因を含む。所望されるパフォーマンスレベルは、電力消費に関係なく最高クロック周波数動作を必要とする高パフォーマンス、性能と電力消費の間のバランスを必要とする中パフォーマンス、回路がバッテリ電力で動作しているときなど、性能と引き替えに最小電力消費を必要とする低パフォーマンスにわたる範囲をとることができる。バックバイアスが有効となる回路のタイプには、プロセッサまたはASIC内のモジュールの任意のコンポーネントが含まれる。例えばGPUに関しては、有効となる回路には、2Dまたは3Dグラフィックスパイプ(graphics pipe)、オンボードキャッシュなどが含まれる。これは2Dまたは3Dモード、高解像度/低解像度、グレイスケール/カラーなどが含まれることがある動作モードにも関係する。
    【0019】
    実施の一形態において、オンチップ(on-chip)状態機械は、回路の1以上のパラメータおよび/または動作状態に基づいて、トランジスタ回路へのバックバイアス電圧レベルの印加を制御するように構成される。図3には、実施の一形態による、ステータス回路状態に基づいてトランジスタ回路の閾値電圧を変更する、電圧制御回路の回路図を示す。システム300に示す様に、制御対象のトランジスタ回路312は、ASIC302上に含まれる。バックバイアス電圧源は、オフチップであって、かつ回路基板304上に、提供される。図3の実施形態では、正バックバイアス電圧源305は、VBPを与えるべく電圧レギュレータ306によって制御され、負バックバイアス電圧源307は、VBNを与えるべく電圧レギュレータ308によって制御される。VBPとVBN電圧は、GPIO(汎用入出力:general purpose input/output)ポート312および314を通してASICに入力される。システム300に示す様に、ASICは、GPIOポートからVBPとVBN電圧を受け取るオンチップ状態機械を含む。状態機械310は、トランジスタ312のバックバイアスを有効にし、それによりトランジスタのリーク電力を低減するために、トランジスタ312にVBPとVBN電圧を渡すように構成される。トランジスタに恒久的にバックバイアスをかけ続けることは本来不利なため、一般にはバックバイアスをトランジスタ312に恒久的に印加することは望ましくない。状態機械310は、リーク電流を低減するメリットがトランジスタにバックバイアスをかけるデメリットを上回るという条件のもとで、バックバイアスを有効にするように構成される。斯かる条件の一般的な例は、ASIC302がスタンバイモードにあるときである。図3に示した実施形態では、状態検出(condition detector)コンポーネント309は、こうした条件の状態を監視し、この情報を状態機械310に提供する。条件が検出された場合には、状態機械310は、バックバイアス電圧をトランジスタ312に渡して、バックバイアスを有効にする。
    【0020】
    状態検出器309は、別個の機能コンポーネントとして示されているが、状態機械310の一体部分として組み込まれることもできる。同様に、電圧レギュレータ306と308は、システム300ではオフチップかつ回路基板304上にあるものとして示されているが、それらは回路制約と実施詳細に応じてASIC302上に直接設けられることもできる。同様に、状態機械回路310は、ASIC302上に直接設ける代わりに、回路基板304上に提供されることもできる。
    【0021】
    実施の一形態において、状態機械310は、パラメータに基づいて電力状態の変更を制御するソフトウェアプロセスに具現化される。このソフトウェアプロセスは、VBPとVBN電圧レベルを変える単数または複数の電圧レギュレータを直接制御する。代替的な実施形態では、回路またはASICの活動に基づいて電力プロファイルを変更するために、ソフトウェアプロセスの代わりにハードウェア回路が採用される。斯かる実施形態では、状態機械310は、1以上の配線回路または専用のオンチップ論理素子に具現化される。
    【0022】
    図3のシステム300では、状態機械310を通じてバックバイアス電圧レベルの変化をトリガーする、あるいは、引き起こすために、活動の様々な状態(condition)または指標(indicator)が、状態検出器309によって監視される。トランジスタ312のバックバイアスを有効にするための条件は、ASIC302のスタンバイモードへの移行であることができるが、他の条件も可能である。スタンバイモードへの移行に関しては、バックバイアス電圧が使用可能な状態をトリガーするために活動(また非活動)状態を示す様々な指標が使用できる。これらの指標には、静止画面表示、回路ビジー信号の欠如、FIFOバッファレベルの低下、スリープ信号の発生、電力引き込み量の減少、およびアクティブモードからスタンバイモードへの切替を示す他の適切な指標が含まれる。この場合、状態検出器309は斯かる状態を検出し、適切な信号を状態機械310へ送信する。次いで状態機械310は、バックバイアス電圧をトランジスタ312に渡してバックバイアスを有効にする。トランジスタのバックバイアスをトリガーするための条件を使用することで、リーク電流を低減するための動的処理要素が導入され、実際の動作状態または事前にプログラムされたパラメータに基づくリーク制御が可能となる。
    【0023】
    既に述べたように、ASICがスタンバイモードに移行したことを検出するために様々な指標を使用することができる。実施の一形態において、主要な指標は、静止画面表示の存在である。斯かる状態は、しばしば、ユーザ側の活動の欠如を示すものであり、多くのデバイスは、エネルギーの節約のために一定期間(タイムアウト時間)経過後にスリープモードへ移行するように構成される。回路がスタンバイモードへ移行した場合に、リーク電力を動的に低減する単純な方法は、回路がアイドル状態にある期間中の供給電圧(ドレイン電圧)を低下させることである。図4は、実施の一形態による、画面表示の状況(ステータス)に基づいて、リーク電流を動的に低減する方法を示すフローチャートである。ブロック402では、プロセスは静止画面状態が検出されるかどうかを検出する。この状態を検出するために、例えば、全体として、または全体の画面表示のかなりの部分として、同じ画面表示要素が、指定数のフレームにわたって静的であるかどうかなどの、様々な指標が使用できる。静止画面状態が検出されると、ブロック404においてプロセスは現在のクロック動作周波数を所定倍、例えば周波数の1/2倍または1/4倍だけ下げる。クロック周波数は、例えばグリッチ(不具合)のないポストPLL分割処理(glitch-free post PLL(phase-locked loop) divide process)などの任意の適切なプロセスによって、下げることができる。ブロック406において、プロセスは、GPIOインタフェース(または他のI/Oインタフェース)にトリガーを送り、VDD電圧(供給電圧)レベルを下げる。ドレイン電圧を下げることで、トランジスタを流れるリーク電流は有効に低減され、その結果、スタンバイモードの間のASICのリーク電力が低減される。電圧降下量は、トランジスタがスタンバイモードにおいてなお機能するのを確実にするように、十分な電力オーバヘッドが利用可能となるように選択されるべきである。
    【0024】
    実施の一形態において、ASICのスタンバイモードからアクティブモードへの変更が検出されるまで、トランジスタは供給電圧が低減された状態に保持される。従って、ブロック408に示す様に、プロセスは、チップがアクティブモードに移行したかどうかを判定する。アクティブモードに移行した場合には、トランジスタは、それらの可能な最大クロック速度で動作できるように、当初の供給電圧レベルに戻される。ブロック410に示すように、GPIOインタフェースは、動作電圧を通常レベルに戻すために、VDD電圧レベルを上げるようトリガーされる。ASICがアクティブモードで最適に機能することができるように、ブロック412において、クロック周波数は、その通常または最大動作周波数まで上げられる。
    【0025】
    図4のブロック402に示す様に、プロセスは最初に静止画面を検出する。実施の一形態において、回路は、表示プロセッサによってクロックゲーティング(clock gating)にも使用されることがある、ビジー信号またはアイドル信号を、検出するように構成される。ヒステリシス遅延(hysteresis delay)が、静止画面モードへの移行と離脱に利用され、それにより、回路が、パフォーマンスクリティカルな期間にドロップイン・ドロップアウトする機会を減らし、電圧レギュレータが、これらの期間中にフルパフォーマンスモードへ切り替わって戻るのに必要とされるランプアップ時間(ramp up time)が取り除かれる。
    【0026】
    図5に、実施の一形態として、画面表示の状況(ステータス)に基づいて、グラフィックスプロセッサへのドレイン電圧を制御するための電圧制御回路の回路図を示す。図5の回路500は、図4に示したプロセスの1以上の特徴を実現するために使用することができる。システム500に示す様に、ASIC502は回路基板504上に搭載され、コアクロック発生器514に結合された静止画面検出コンポーネント512を含む。コアクロック発生器は、ASICクロック信号の周波数を制御し、図4のブロック404とブロック412におけるクロック周波数の増減を可能にする。静止画面検出回路512は、GPIOポート510を通じて回路基板504上のスイッチ回路511に信号を提供する。検出信号は、電圧レギュレータ506のVsense入力に渡される。この信号に応答して、電圧レギュレータは、GPIOポート508を通じて、ASIC502に返すべき適切なVDD電圧レベルを提供する。ドレイン電圧レベルは、こうして静止画面検出コンポーネント512によって検出された状態によって制御され、電圧レギュレータは、図4のブロック406とブロック410に示したように、GPIOインタフェース508にトリガーをかけて、この電圧を増減する。VDDの最小値は、トランジスタがスタンバイモードで動作することができるように選択され、しかも、このスタンバイモードの間にリーク電流の十分大きな減少を実現するのに十分なほど低い。
    【0027】
    図4は、ドレイン電圧VDDのレベルがASICのスタンバイモードまたはスリープモードの間に、リーク電流を低減するために使用される方法を示している。代わりに、ブロック406は、BBPおよびBBN電圧レールからのバックバイアス電圧レベルをトランジスタの基板端子に印加して、トランジスタの閾値電圧を事実上下げることによって、リーク電流を低減するステップに置き換えることができる。
    【0028】
    図6に、実施の一形態による、画面表示の状況(ステータス)に基づいてバックバイアスをトリガーする方法のフローチャートを示す。ブロック602において、プロセスは、静止画面状態が検出されたかどうかを検出する。図4に関連して既に述べたように、この状態を検出するために、例えば、全体として、または全体の画面表示のかなりの部分として、同じ画面表示要素が、指定数のフレームにわたって静的であるかどうかなどの、様々な指標を使用することができる。静止画面状態が検出されると、ブロック604において、プロセスは、現在のクロック動作周波数を所定倍、例えば周波数の1/2倍または1/4倍だけ下げる。ブロック606において、プロセスは、GPIOインタフェース(または他のI/Oインタフェース)にトリガーをかけ、トランジスタのバックバイアスを有効にする。実施の一形態において、これはトランジスタの基板端子に、例えばBBPおよびBBNといったバックバイアス電圧レールによって提供される正または負のバックバイアス電圧を、一方だけまたは両方とも印加することによって、達成される。バックバイアス電圧を印加することで、トランジスタの閾値電圧が事実上低下し、その結果、トランジスタを通してのリーク電流を除去、あるいは、低減する。
    【0029】
    実施の一形態において、ASICがスタンバイモードからアクティブモードへ変更したことが検出されるまで、トランジスタはバックバイアスモードに保持される。従って、ブロック608に示す様に、プロセスは、チップがアクティブモードに移行したかどうかを判定する。アクティブモードへ移行した場合には、トランジスタは、それらの可能な最大クロック速度で動作できるように、バックバイアス状態を解除、すなわち、無効にされる。ブロック610に示すように、GPIOインタフェースは、閾値電圧を通常レベルまで戻すために、トランジスタのバックバイアス状態を無効にするようトリガーされる。ブロック612において、ASICがアクティブモードで最適に機能できるように、クロック周波数は、その通常、または、最大動作周波数まで増大される。
    【0030】
    図7は、実施の一形態による、画面表示の状況に基づいてグラフィックスプロセッサへのバックバイアス電圧の印加を制御するための、電圧制御回路を示す回路図である。図5の回路700は、図6に示したプロセスの1以上の特徴を実現するために使用することができる。システム700に示されるように、ASIC702は、回路基板704上に搭載されており、コアクロック発生器714に結合された静止画面検出コンポーネント712を含む。コアクロック発生器は、ASICクロック信号の周波数を制御し、図6のブロック604とブロック612に示されるクロック周波数の増減を可能にする。静止画面検出回路712は、GPIOポート710を通じて回路基板704上のスイッチ回路711に、信号を提供する。検出信号は、電圧レギュレータ706のVsense入力に渡される。この信号に応答して、電圧レギュレータ706は、GPIOポート708を通じて、ASIC702に戻すべき、適切なバックバイアス電圧VBNレベルを提供する。静止画面検出器712は、バイアス発生コンポーネント714にも信号を提供する。このコンポーネント714は、電圧レギュレータ706からポート708に提供されたバックバイアス電圧VBNを有効または無効にするために、GPIOポート709を経由してGPIOポート708に、バックバイアス発生信号を提供する。バックバイアス電圧は、こうして電圧レギュレータによって生成され、静止画面検出コンポーネント512によって検出される状態(コンディション)によって、バイアス発生器714を通して渡されるように制御される。
    【0031】
    図7は、バックバイアス電圧が、BBN電力レールによって提供される負電圧を備えた実施形態を示している。代わりに、正バックバイアス電圧VBPもBBP電力レールを通じて提供され得る。斯かる実施形態では、ASICへのVBPの印加を発生及び制御するために、別のバイアス発生器と電圧レギュレータコンポーネントが提供され得る、あるいは、バイアス発生器714と電圧レギュレータ706は、VBPとVBNの両方を扱うように構成され得る。
    【0032】
    実施の一形態において、バックバイアス電圧VBPおよび/またはVBNは、ある最大値に固定され、バイアス発生器714によって生成されるバイナリ信号を通じて有効または無効にされる。この結果、閾値電圧120は、第1の値から第2の値へ有効にシフトする。代わりの実施形態では、電圧レギュレータは、いくつかの離散的な中間電圧値に沿ったVBPおよび/またはVBNの電圧範囲、または正および負のバックバイアス値の最大と最小の範囲の間を結ぶ連続値を提供するように構成されることがある。これにより、閾値電圧120は、第1の値と第2の値の間のいくつかの中間電圧にシフトされることが可能となり、この結果、リーク電流は、ある特定のレベルまで低減することが可能である。電圧レギュレータは、ASICの動作状態と動作要件に基づく1以上のパラメータに基づいて、適切なバックバイアス電圧レベルを提供するように、プログラムすることができる。
    【0033】
    本発明の実施形態は、回路内のリーク電流を制御する方法を含み、第1の状態から第2の状態へのデバイスの状態変化に応答して、システムクロックによって回路に提供される動作周波数を第1の周波数から第2の周波数へ低減するステップと、デバイスの変化に対応して、回路に提供するバックバイアス電圧を提供し、回路の閾値電圧を、第1の閾値電圧値から第2の閾値電圧値の間の電圧範囲に沿って有効に低減するステップとを有する。
    【0034】
    実施の一形態によれば、第1の状態は回路のアクティブ状態を備え、第2の状態は回路のスタンバイ状態を備える。
    【0035】
    実施の一形態によれば、スタンバイ状態は1以上の指標の存在によって検出される。
    【0036】
    実施の一形態によれば、1以上の指標の1つは、静止画面表示を検出することを備える。
    【0037】
    本方法は、実施の一形態によれば、回路に結合された表示装置に表示された画像が、システムクロックの指定数のクロックサイクルの間、消えずに残っていることを検出するステップを更に含む。
    【0038】
    実施の一形態によれば、1以上の指標は、基本的に、1以上の返されたビジー信号、スリープモードフラグの有効化、電力引き込み量の減少、およびバッファ活動の低下、から成るグループから選択される。
    【0039】
    実施の一形態によれば、バックバイアス電圧は、回路の少なくとも1つのトランジスタの基板端子に印加される負電圧を含む。
    【0040】
    実施の一形態によれば、バックバイアス電圧は、負バックバイアス電圧源レールに結合された第1の電圧レギュレータ回路を通じて、少なくとも1つのトランジスタに提供される。また、第1の電圧レギュレータは、検出された状態変化に対応して、バイアス発生回路によって制御される。
    【0041】
    実施の一形態によれば、バックバイアス電圧は、回路の少なくとも1つのトランジスタの基板端子に印加される正電圧を更に含む。
    【0042】
    実施の一形態によれば、バックバイアス電圧は、正バックバイアス電圧源レールに結合された第2の電圧レギュレータ回路を通じて、少なくとも1つのトランジスタに提供される。また、第2の電圧レギュレータは、検出された状態変化に対応して、バイアス発生回路によって制御される。
    【0043】
    実施の一形態によれば、第2の電圧レギュレータ回路は、バックバイアス電圧を、第3の値から第4の値までの電圧範囲に沿って切り替えるように構成される。
    【0044】
    本発明の実施形態は、第1の状態から第2の状態への回路の状態変化を検出する状態検出器と、状態検出器に結合されて、その状態変化に対応して制御信号を発生する状態機械と、状態機械に結合されて、動作周波数を第1の周波数から第2の周波数へ低減する電圧レギュレータと、電圧レギュレータに結合されて、制御信号に対応して、バックバイアス電圧を回路に提供して、回路の閾値電圧を、第1の閾値電圧値と第2の閾値電圧値の間の電圧範囲に沿って有効に低減するバイアス発生器と、を備える。
    【0045】
    実施の一形態によれば、第1の状態は、回路のアクティブ状態を含み、第2の状態は回路のスタンバイ状態を含む。また、スタンバイ状態は、1以上の指標の存在によって検出される。
    【0046】
    実施の一形態によれば、回路は少なくとも1つのトランジスタを含む。更に、バックバイアス電圧は、回路の少なくとも1つのトランジスタの基板端子に印加される負電圧と、回路の少なくとも1つのトランジスタの基板端子に印加される正電圧と、から成るグループから選択される。
    【0047】
    実施の一形態によれば、前記回路は、プリント回路基板に搭載されたASIC素子内に、回路を備える。
    【0048】
    実施の一形態によれば、前記回路は、グラフィックス処理ユニットの少なくとも一部を備える。
    【0049】
    本発明の実施形態は、回路内のリーク電流を制御する更なる方法を含み、第1の状態から第2の状態への回路の状態変化に応答して、システムクロックによって回路に提供される動作周波数を、第1の周波数から第2の周波数へ低減するステップと、回路の状態変化に対応して、回路への供給電圧を、第1の供給電圧値から第2の供給電圧値までの間の電圧範囲に沿って低減し、回路を通して流れるリーク電流を有効に低減するステップと、を有する。
    【0050】
    実施の一形態によれば、第1の状態は回路のアクティブ状態を含み、第2の状態は回路のスタンバイ状態を含む。
    【0051】
    実施の一形態によれば、スタンバイ状態は、1以上の指標の存在によって検出される。
    【0052】
    実施の一形態によれば、1以上の指標の1つは、静止画面表示を検出するステップを含む。
    【0053】
    本方法は、実施の一形態によれば、回路に結合された表示装置に表示された画像が、システムクロックの指定数のクロックサイクルにわたって消えずに残っていることを検出するステップを更に含む。
    【0054】
    実施の一形態によれば、基本的に、1以上の指標は、1以上の戻ってきたビジー信号、スリープモードフラグの有効化、電力引き込み量の減少、およびバッファ活動の低下、から成るグループから選択される。
    【0055】
    実施の一形態によれば、第1の供給電圧値は、回路の少なくとも1つのトランジスタのドレイン端子に提供される、最大供給電圧を含む。
    【0056】
    実施の一形態によれば、第1の供給電圧値は、検出された状態変化に対応して、状態検出回路によって制御される電圧レギュレータ回路を通じて、少なくとも1つのトランジスタに提供される。
    【0057】
    実施の一形態によれば、前記回路は、プリント回路基板に搭載されたASIC素子内の回路を含む。
    【0058】
    実施の一形態によれば、前記回路はグラフィックス処理ユニットの少なくとも一部を含む。
    【0059】
    グラフィックス処理ユニットなど、特定のタイプの回路に関連にして実施形態を説明してきたが、記述した方法およびシステムは、例えばマイクロプロセッサ、コプロセッサ、算術論理演算ユニットなど、任意のタイプのトランジスタベースの論理回路で使用できることに留意されたい。ここで述べた動的リーク制御システムの実施形態は、ASICは言うに及ばず、PLD(programmable logic devices)、例えばFPGA(field programmable gate arrays)、PAL(programmable array logic)デバイス、電気的にプログラム可能なロジック・メモリデバイスおよびスタンダードセルベースデバイスを含む、任意の様々な回路にプログラムされた機能として実現することができる。動的リーク制御システムの実施形態を実現する他の可能性としては、メモリ(例えばEEPROM)を備えたマイクロコントローラ、組込マイクロプロセッサ、ファームウェア、ソフトウェアなどがある。さらに、本発明の動的リーク制御システムの実施形態は、ソフトウェアベースの回路エミュレーションを有するマイクロプロセッサ、ディスクリート(個別)ロジック(逐次および組み合わせ)、カスタムデバイス、ファジー(ニューラル)ロジック、量子デバイス、およびこれらのデバイスタイプが任意に混在したものに具現化することができる。基礎を成すデバイス技術は、例えばCMOS(相補型金属酸化膜半導体:complementary metal-oxide semiconductor)のようなMOSFET(金属酸化膜半導体電界効果トランジスタ:metal-oxide semiconductor field-effect transistor)技術、ELC(エミッタ結合型論理:emitter-coupled logic)のようなバイポーラ技術、ポリマ技術(例えばシリコン共役ポリマおよび金属共役ポリマ−金属構造など)、アナログ・デジタル混在技術など、様々なコンポーネントタイプで提供することができる。
    【0060】
    ここに開示された様々な機能は、ハードウェア、ファームウェア、並びに/またはさまざまな機械可読媒体もしくはコンピュータ可読媒体に具現化されたデータおよび/もしくは命令の任意数の組み合わせを使用して、それらの挙動、レジスタ転送、論理コンポーネント、および/または他の特性の観点から記述することができることにも留意すべきである。斯かるフォーマットされたデータおよび/または命令がその中に具現化できるコンピュータ可読媒体は、限定はされないが、様々な形の不揮発性記憶媒体(例えば光学、磁気または半導体記憶媒体)と、斯かるフォーマットされたデータおよび/または命令を無線、光または有線信号伝達媒体またはそれらの任意の組み合わせで転送するために使用することができる搬送波などがある。斯かるフォーマット化データおよび/または命令を搬送波で転送する例としては、限定はされないが、1以上のデータ転送プロトコル(例えばHTTP、FTP、SMTPなど)に基づくインタネットおよび/または他のコンピュータネットワーク上の転送(アップロード、ダウンロード、電子メールなど)がある。
    【0061】
    文脈上格別の断りがない限り、本明細書と特許請求の範囲の全体を通して、“備える、含む”とその活用“備えている、含んでいる”などという表現は排他的または網羅的な意味ではなく包含的な意味、言うなれば“・・・を含むが・・・に限定はされない”という意味に解されるべきである。単数または複数の数字を用いた表現は、それぞれ複数または単数を含む。加えて、“ここでの”、“以下の”、“先述の”、“後述の”などといった表現および似たような趣旨の表現は、本願のどれか特定の部分を指すものではなく、本願全体を指すものである。“または”という表現は2以上のアイテムのリストを参照するために用いられ、その表現は、リストの中の任意のアイテム、リストの中の全てのアイテムおよびリストの中のアイテムの任意の組み合わせといった、この表現の解釈の全てをカバーする。
    【0062】
    動的リーク制御システムのここに開示された実施形態の上記の説明は包括的または開示された正確な形態もしくは仕様に実施形態を限定するものでないことが意図されている。グラフィックス処理ユニットまたはASICにおける処理の具体的な実施形態と実施例は、ここでは説明目的で述べられてきたが、当業者が認識するように、開示された方法および構造の範囲内で様々な均等な変形が可能である。
    【0063】
    上述した様々な実施形態の構成要素と作用を組み合わせて、更なる実施形態を提供することが可能である。上記詳細な説明を考慮すれば、上記動的リーク制御システムにこれらおよび他の変更を施すことが可能である。
    【0064】
    一般に、本願特許請求の範囲の請求項では、使用される用語は、開示された方法を本願明細書と本願特許請求の範囲に開示された特定の実施形態に限定するものと解すべきでなく、請求項に従って機能する全ての操作または処理を含むものと解すべきである。従って、開示された構造と方法は、本開示によって限定はされないが、その代わり、上述した方法の範囲は、本願特許請求の範囲の請求項によって全体的に規定される。
    【0065】
    本発明をいくつかの側面から見て開示された実施形態は、本願特許請求の範囲の請求項という形で提示されるが、ここで、発明者/出願人は、方法論の様々な側面を任意の番号の請求項の中で意図している。例えば、1つのみの側面が機械可読媒体に具現化された形で提示されることがあるが、他の側面も同じように機械可読媒体に具現化することが許される。従って、発明者/出願人は、他の側面に対して追加の請求項を求めるべく、本願出願後に斯かる追加の請求項を追加する権利を留保する。
    【符号の説明】
    【0066】
    200、250 CMOSインバータ回路
    202 BBP電力レール
    203 BBN電力レール
    204 ドレインの電力レール
    206 ソースの電力レール
    210 P型トランジスタ
    212 N型トランジスタ
    220 Nウェル
    222 Pウェル
    224 N分離領域
    226 P基板
    300 バックバイアス電圧制御回路
    302、502、702 ASIC
    304、504、704 回路基板
    305 正バックバイアス電圧源
    306、308 電圧レギュレータ
    307 負バックバイアス電圧源
    309 状態検出器
    310 状態機械
    312、314、709、710 GPIOポート
    500 ドレイン電圧制御回路
    506、706 電圧レギュレータ
    508、510 GPIOポート
    511、711 スイッチ回路
    512、712 静止画面検出器
    514、714 コアクロック発生器
    700 バックバイアス電圧制御回路

    --------------

    【特許請求の範囲】
    【請求項1】
    回路内のリーク電流を制御する方法であって、
    第1の状態から第2の状態へのデバイスの状態変化に応答して、システムクロックによって前記回路に提供される動作周波数を、第1の周波数から第2の周波数へ低減するステップと、
    前記デバイスの状態変化に対応して、前記回路にバックバイアス電圧を提供して、前記回路の閾値電圧を、第1の閾値電圧値から第2の閾値電圧値までの間の電圧範囲に沿って有効に低減するステップと、
    を有する方法。
    【請求項2】
    前記第1の状態は前記回路のアクティブ状態を含み、前記第2の状態は前記回路のスタンバイ状態を含む、請求項1に記載の方法。
    【請求項3】
    前記スタンバイ状態は、1以上の指標の存在によって検出される請求項2に記載の方法。
    【請求項4】
    前記1以上の指標の1つは、静止画面表示を検出することを含む請求項3に記載の方法。
    【請求項5】
    前記回路に結合した表示装置に表示された画像が、システムクロックの指定数のクロックサイクルにわたって消えずに残っていることを検出するステップを更に含む請求項4に記載の方法。
    【請求項6】
    前記1以上の指標は、基本的に、1以上の戻ってきたビジー信号、スリープモードフラグの有効化、電力引き込み量の減少、およびバッファ活動の低下、から成るグループから選択される請求項4に記載の方法。
    【請求項7】
    前記バックバイアス電圧は、前記回路の少なくとも1つのトランジスタの基板端子に印加される負電圧を含む請求項2に記載の方法。
    【請求項8】
    前記バックバイアス電圧は、負バックバイアス電圧源レールに結合された第1の電圧レギュレータ回路を通じて前記少なくとも1つのトランジスタに提供され、前記第1の電圧レギュレータは、検出された状態変化に対応してバイアス発生回路によって制御される、請求項7に記載の方法。
    【請求項9】
    前記バックバイアス電圧は、前記回路の少なくとも1つのトランジスタの基板端子に印加される正電圧を更に含む請求項7に記載の方法。
    【請求項10】
    前記バックバイアス電圧は、正バックバイアス電圧源レールに結合された第2の電圧レギュレータ回路を通じて前記少なくとも1つのトランジスタに提供され、前記第2の電圧レギュレータは検出された状態変化に対応して前記バイアス発生回路によって制御される、請求項9に記載の方法。
    【請求項11】
    前記第2の電圧レギュレータ回路は、前記バックバイアス電圧を第3の値から第4の値までの電圧範囲に沿って切り替えるように構成される請求項10に記載の方法。
    【請求項12】
    回路の、第1の状態から第2の状態への状態変化を検出する状態検出器と、
    前記状態検出器に結合されており、前記状態変化に対応して制御信号を発生する状態機械と、
    前記状態機械に結合されており、動作周波数を第1の周波数から第2の周波数へ低減する電圧レギュレータと、
    前記電圧レギュレータに結合されており、前記制御信号に呼応して、前記回路にバックバイアス電圧を提供して、前記回路の閾値電圧を、第1の閾値電圧値から第2の閾値電圧値までの間の電圧範囲に沿って有効に低減するバイアス発生器と、
    を備えた回路。
    【請求項13】
    前記第1の状態は前記回路のアクティブ状態を含み、前記第2の状態は前記回路のスタンバイ状態を含み、さらに前記スタンバイ状態は1以上の指標の存在によって検出される、請求項12に記載の回路。
    【請求項14】
    前記回路は少なくとも1つのトランジスタを含み、さらに前記バックバイアス電圧は、前記回路の少なくとも1つのトランジスタの基板端子に印加される負電圧と、前記回路の少なくとも1つのトランジスタの基板端子に印加される正電圧とから成るグループから選択される、請求項11に記載の回路。
    【請求項15】
    前記回路は、プリント回路基板に搭載されたASIC(特定用途向け集積回路)素子内の回路を備える請求項14に記載の回路。
    【請求項16】
    前記回路は、グラフィックス処理ユニットの少なくとも一部を備える請求項15に記載の回路。
    【請求項17】
    回路内のリーク電流を制御する方法であって、
    前記回路の、第1の状態から第2の状態への状態変化に応答して、システムクロックによって前記回路に提供される動作周波数を、第1の周波数から第2の周波数へ低減するステップと、
    前記回路の状態変化に対応して、前記回路への供給電圧を、第1の供給電圧値から第2の供給電圧値までの電圧範囲に沿って低減し、前記回路を流れるリーク電流を有効に低減するステップと、
    を有する方法。
    【請求項18】
    前記第1の状態は前記回路のアクティブ状態を含み、前記第2の状態は前記回路のスタンバイ状態を含む、請求項17に記載の方法。
    【請求項19】
    前記スタンバイ状態は、1以上の指標の存在によって検出される請求項18に記載の方法。
    【請求項20】
    前記1以上の指標の1つは、静止画面表示を検出することを含む請求項19に記載の方法。
    【請求項21】
    前記回路に結合された表示装置に表示された画像が、システムクロックの指定数のクロックサイクルにわたって消えずに残っていることを検出するステップを更に含むことを特徴とする請求項20に記載の方法。
    【請求項22】
    前記1以上の指標は、基本的に、1以上の戻ってきたビジー信号、スリープモードフラグの有効化、電力引き込み量の減少、およびバッファ活動の低下、から成るグループから選択される請求項20に記載の方法。
    【請求項23】
    前記第1の供給電圧値は、前記回路の少なくとも1つのトランジスタのドレイン端子に提供される最大供給電圧を含む請求項2に記載の方法。
    【請求項24】
    前記第1の供給電圧値は、検出された状態変化に対応して、状態検出回路によって制御される電圧レギュレータ回路を通じて、前記少なくとも1つのトランジスタに提供される請求項23に記載の方法。
    【請求項25】
    前記回路は、プリント回路基板に搭載されたASIC(特定用途向け集積回路)素子内の回路を備える請求項17に記載の方法。
    【請求項26】
    前記回路は、グラフィックス処理ユニットの少なくとも一部を含む請求項25に記載の方法。

    ====================

    DYNAMIC LEAKAGE CONTROL USING SELECTIVE BACK-BIASING

    Field
    Embodiments of the invention relate generally to electronic circuits, and more specifically to reducing leakage power in transistor circuits,

    Background
    Microprocessor circuits typically operate in two primary operating states, active mode and standby mode. In active mode the circuits are executing processes or tasks, and are usually running at the specified operating frequency of the circuit. During active mode, most of the transistor gates are switching and relatively high operating frequencies are required. During standby or sleep mode, processing tasks are usually idle and relatively few gates are switching, thus requiring lower operating frequencies. The power consumed in transistor circuits is a function of both switching power and leakage power, Even when a circuit is in standby mode, potentially significant amounts of power can be consumed due to power leakage in the transistors. Therefore, while the power of a circuit operating in active mode is a combination of dynamic (switching) power and leakage power, with dynamic power being the dominant factor, in standby mode where few gates are switching, power consumption is largely a function of leakage power.
    As device designs scale down to finer geometries (e.g., from 90 nm to 65 nm or smaller), circuits can run at lower voltages for given operating frequencies, thus reducing dynamic power consumption. However, leakage power increases exponentially as device geometries decrease. This is due to the fact that operating characteristics of the transistors change as the dimensions change, especially with regard to the effect of the threshold voltage VTH, which is the voltage at which a transistor switches state. In general, the decreasing dimensions of the transistors causes a scaling of the threshold voltage VJH relative to the supply voltage, which leads to an increase in leakage power. Because leakage power is the dominant factor in power consumption during standby mode, as circuit dimensions scale downward, the effect of leakage power becomes much more significant for this mode of operation. This effect can be an important issue with mobile or battery-operated devices that have limited power supply capacity, and which may spend significant amounts of time in standby or sleep mode, such as mobile phones, Personal Digital Assistants (PDAs), notebook computers, and similar devices.
    A simple method of reducing power consumption due to leakage power that is presently used is to reduce the operating voltage of the circuit itself, but this obviously reduces the performance of the circuit and reverses the trend toward ever-increasing processor and circuit operating speeds. Another known method of reducing standby power consumption is to shift the threshold voltage levels of the transistors. In general, increasing the threshold voltage will decrease the leakage power, and thus reduce standby power consumption. However, increasing the threshold voltage also decreases the switching speed of the transistor, thus decreasing circuit performance when the circuit operates in active mode. Present methods of reducing leakage power are thus generally disadvantageous and do not adequately account for the operating mode of the circuits in order to dynamically and flexibly alter the threshold voltage of the transistors in accordance with the operating mode and other relevant parameters of the circuit

    Brief Description of the Drawings
    Embodiments of the present invention are illustrated by way of example and not limitation in the figures of the accompanying drawings, in which like references indicate similar elements and in which:
    Figure IA illustrates a MOS (metal-oxide semiconductor) transistor, which implements a back bias method for reducing leakage current, under an embodiment.

    Figure IB illustrates the use of back bias techniques to reduce leakage current in the transistor of Figure IA, under an embodiment.
    Figure 2A illustrates a schematic for a transistor circuit including body bias voltage supplies to dynamically change the threshold voltage of the circuit, under an embodiment.
    Figure 2B illustrates a side-view of a fabricated transistor circuit for the schematic of Figure 2 A.
    Figure 3 is a circuit diagram that illustrates a voltage control circuit for altering the threshold voltage of a transistor circuit based on the status circuit conditions, under an embodiment.
    Figure 4 is a flowchart that illustrates a method of dynamically reducing leakage current based on the status of a screen display, under an embodiment.
    Figure 5 is a circuit diagram that illustrates a voltage control circuit for controlling the drain voltage to a graphics processor based on the status of a screen display, under an embodiment,
    Figure 6 is a flowchart that illustrates a method of triggering back biasing based on the status of a screen display, under an embodiment.
    Figure 7 is a circuit diagram that illustrates a voltage control circuit for controlling the application of back bias voltage to a graphics processor based on the status of a screen display, under an embodiment.

    Detailed Description
    Embodiments of a dynamic leakage control circuit for use with graphics processor circuitry are described. The dynamic leakage control circuit selectively enables back biasing of the transistors comprising the graphics processor circuits during particular modes of operation. The back biasing levels are controlled by two separate power rails. A first power rail is coupled to an existing power supply and the second power rail is coupled to a separate adjustable voltage regulator. A separate voltage regulator may also be provided for the first power rail. A hardware-based state machine or software process is programmed to detect the occurrence of one or more modes of operation and adjust the voltage regulators for the first and second power rails to either enable or disable the back biasing state of the circuit, or alter the threshold voltage of the circuit within a specified voltage range.
    In the following description, numerous specific details are introduced to provide a thorough understanding of, and enabling description for, embodiments of the dynamic leakage control circuit. One skilled in the relevant art, however, will recognize that these embodiments can be practiced without one or more of the specific details, or with other components, systems, etc. In other instances, well-known structures or operations are not shown, or are not described in detail, to avoid obscuring aspects of the disclosed embodiments.
    In one embodiment, a back biasing scheme is used to increase the threshold voltage of one or more transistors in a circuit to cut off or reduce the leakage current through the transistor or transistors. In one embodiment, one or more power supply rails are provided through voltage regulators to enable or disable back-biasing of the transistors, or to provide some degree of back-biasing by shifting the effective threshold voltage of the transistor circuit along a specified voltage range.
    Figure IA illustrates a MOS (metal-oxide semiconductor) transistor, which implements a back bias method for reducing leakage current, under an embodiment. Transistor 100 represents a generalized MOS transistor, which comprises a gate (G) 102, a source (S) 104 and a drain (D) 106 Transistor 100 could be any type of MOS transistor (i.e., N-type, P-type) operating in any mode (i.e., enhancement mode, depletion mode), or any equivalent or similar type of transistor device The gate-source voltage for transistor 100 is denoted VGS, and changing this voltage modulates the current that flows between the source 106 and drain 104 One of the dominant leakage mechanisms in a transistor, such as transistor 100 is the subthreshold (or channel) leakage, denoted Isubtiv Subthreshold leakage power is the power generated by the current flow, Isubth, between the source 106 and drain 104 when the gate voltage is below the threshold voltage.
    Several techniques have been developed to reduce the leakage current in transistors, though most involve tradeoffs with regard to performance, cost, complexity, and so on One such technique is back biasing the transistors within a circuit to reduce the effective threshold voltage of the transistor. Back biasing (also referred to as "body biasing") refers to a technique in which the body terminal of a transistor is connected to a small negative voltage to effectively increase the body-source voltage. A difference between the source and body changes the threshold voltage, and is known as the body effect of the transistor. Figure IB illustrates the use of back bias techniques to reduce leakage current, under an embodiment Figure IB illustrates a plot of drain-source current versus the gate-source voltage for a transistor, such as transistor 100 of Figure IA. As shown by I- V (transfer) curve 122, the threshold voltage, VTH, represents the voltage at which the transistor turns on, or changes state. Line 120 represents the sub-threshold slope, which determines how effective the transistor can be turned off when VQS is decreased below VTH I- V curve 122 represents the transfer curve of the circuit when back biasing is disabled, and I-V curve 124 represents the transfer curve of the circuit when back-biasing is enabled. The difference 126 of the two curves 122 and 124 along the Isubth axis represents the reduction in leakage current for the circuit when back biasing is enabled. Thus, introducing back bias increases the threshold voltage (shifts the I-V curve to the right) and cuts off or decreases the leakage current, ISUbth- In one embodiment, a transistor -based circuit includes two separate power supply rails, denoted BBP (back bias positive) and BBN (back bias negative), to provide voltage levels to alter the threshold voltage. The positive back bias voltage supply rail BBP provides a positive voltage denoted VBP, and the negative back bias voltage supply rail BBN provides a negative voltage denoted VBN- These voltage levels are applied to the appropriate body terminals of the transistors to enable back biasing of the circuit.
    Figure 2A illustrates a schematic for a transistor circuit including back bias voltage supplies to dynamically change the threshold voltage of the circuit, under an embodiment. Circuit 200 illustrates a CMOS inverter circuit comprising a P-Channel CMOS transistor 210 coupled to an N-Channel CMOS transistor 212. A drain voltage VDD is applied to a power rail 204 coupled to the drain of transistor 210 and a source voltage Vss is applied to a power rail 206 coupled to the source of transistor 212. The body terminal of transistor 210 is coupled to the positive back bias voltage VBP, which is applied through BBP power rail 202. As shown in circuit 200, the VBP level ranges between a standby level and an active level. The body terminal of transistor 212 is coupled to the negative back bias voltage VBN, which is applied through BBN power rail 203. The value of VBN also ranges between an active level and a standby level.
    Figure 2B illustrates a side-view of a fabricated transistor circuit for the schematic of Figure 2A. The transistor circuit 250 comprises a P-substrate 226 into which is formed an N-isolation region 224. The P-type transistor 210 of Figure 2A is formed by the N-well region 220, which includes the P-doped drain D and source S regions and gate 221. The N-type transistor 212 of Figure 2 A is formed by the P-well region 222, which includes N doped drain D and source regions, and gate 223. The positive back bias voltage supply VBP is coupled to the N-well body region 220 of transistor 210, and the negative back bias voltage supply VBN is coupled to the P-well body region 222 of transistor 212.
    As shown in Figures 2A and 2B, the back bias voltage levels VBP and VBN, are applied to the inverter circuit 200 to back bias the transistors 210 and 212, thereby raising the threshold voltage VJH, as shown in Figure IB, and reducing the leakage current through the transistors. As shown in Figure 2B, the inclusion of a back bias mechanism requires the addition of a separate bias voltage mesh, and a slight increase in transistor area and the addition of a deep n-well region 224 for isolation. However, the benefit provide by the reduction in leakage power without requiring significant decreases in operating frequency may outweigh the increased size and fabrication requirements for new generation devices that feature greatly reduced gate sizes.

    As shown in Figures 2A and 2B, the voltages needed to back bias the transistors are provided by two separate power rails. In one embodiment, one or more adjustable voltage regulators are coupled to the power supply rails to regulate the voltages provided by the back bias voltage supply rails. This allows the threshold voltage to be altered along a voltage scale defined by the voltage range of the voltage regulator or regulators. In one embodiment, the voltage regulator circuitry is controlled by a programmable circuit or software process that controls the back bias voltage rails based on a number of parameters related to the relevant operating characteristics of the transistor circuit. The actual values for the positive and negative back bias voltage levels depend upon various factors related to actual circuit implementation and requirements, such as supply voltage level, operating frequency, circuit configuration, transistor types, and so on. In one example embodiment, the VBP levels can range from a minimum of 1.0V to a maximum of 2.0V, while the VBN, levels can range from a minimum of - 1.0V to a maximum of OV. Depending on transistor type and other factors, many other ranges are possible, such as 1.5V to 1.8V for VBP, and -0 5V to OV for VBN- In one embodiment, the transistor circuit, such as inverter 200 of Figure 2A, is part of an Application Specific Integrated Circuit (ASIC) that is used in or as part of a Graphics Processing Unit (GPU), or Visual Processing Unit (VPU), which is a dedicated graphics rendering device for a personal computer, workstation, or game console. A GPU typically implements a number of graphics primitive operations for generating 2D and 3D computer graphics, as well as executing other digital video-related processes For this embodiment, the parameters that dictate the control of the voltage regulator circuit for control of the back bias voltage levels are based on the power requirements related to generation of graphics images and execution of graphics processes. In active mode, a graphics processor is typically performing many memory-intensive and arithmetic/logic intensive tasks as it generates graphics elements and depicts motion, and executes 3D processes, etc. In this case, most of the gates of the GPU are actively switching and the maximum frequency of the GPU is utilized. During standby mode, the display screen may be static and relatively few gates are switching, and complex processes, such as 3D rendering are idle.

    For this embodiment, the parameters that dictate the control of the voltage regulators include the performance level desired, operating frequency, supply voltage, types of circuits enabled, operating mode, and other similar factors. The performance level that is desired can range from high performance, which requires maximum clock frequency operation without regard for power consumption; medium performance, which requires a balance between performance and power consumption; and low performance, which requires minimum power consumption in exchange for performance, such as when the circuit is operating from battery power. The type of circuits that are back bias enabled can include any of the components of modules in the processor or ASIC For example, for a GPU, the circuits enabled can include 2D or 3D graphics pipes, on-board caches, and the like. This is also related to the operating mode, which could include 2D or 3D mode, high resolution/low resolution, grayscale/color, and so on.
    In one embodiment, an on-chip state machine is configured to control the application of the back bias voltage levels to the transistor circuits based on one or more parameters and/or operating conditions of the circuit. Figure 3 is a circuit diagram that illustrates a voltage control circuit for altering the threshold voltage of a transistor circuit based on the status circuit conditions, under an embodiment. As shown in system 300, the transistor circuit 312 to be controlled is included on an ASIC 302. The back bias voltage supplies are provided off-chip and on the board 304. For the embodiment of Figure 3, the positive back bias voltage supply 305 is controlled by voltage regulator 306 to provide VBP, and the negative back bias voltage supply 307 is controlled by voltage regulator 308 to provide VBN- The VBP and VBN voltages are input to the ASIC through general purpose input/output (GPIO) ports 312 and 314 As shown in system 300, the ASIC includes an on-chip state machine that receives the VBP and VBN voltages from the GPIO ports The state machine 310 is configured to pass the VBP and VBN voltages to the transistors 312 in order to enable back biasing of the transistors to thereby reduce the leakage power of the transistors Because of certain inherent disadvantages to permanent back biasing of transistors, it is generally not desirable to permanently apply back bias voltages to the transistors 312. The state machine 310 is configured to enable back biasing under conditions in which the benefits of reducing leakage current outweigh the disadvantages of back biasing the transistors A common example of such a condition is when the ASIC 302 is in standby mode For the embodiment shown in Figure 3, a condition detector component 309 monitors the state of the conditions and provides this information to state machine 310. In the event of a detected condition, the state machine 310 will pass the back bias voltages to the transistors 312 to enable back biasing.
    Although condition detector 309 is shown as a separate functional component, it could be incorporated as an integral part of state machine 310. Similarly, although the voltage regulators 306 and 308 are shown in system 300 to be off chip and on board 304, they could also be provided on ASIC 302 directly, depending upon circuit constraints and implementation details Likewise, state machine circuit 310 could be provided on board 304 instead of directly on the ASIC 302.
    In one embodiment, the state machine 310 is embodied in a software process that controls the change of power state based on the parameters. The software process directly controls the voltage regulator or regulators that change the VBP and VBN voltage levels In an alternative embodiment, hardware circuitry is employed in place of a software process to change the power profile based on circuit or ASIC activity For this embodiment, the state machine 310 is embodied in one or more hardwired circuits or dedicated on-chip logic devices.
    For the system of Figure 300, various conditions or indicators of activity are monitored by condition detector 309 to trigger a change in the back bias voltage levels through state machine 310 A condition for enabling back biasing of transistors 312 could be the entry of ASIC 302 into a standby mode, although other conditions are also possible. For entry into standby mode, various indicators of activity (or inactivity) could be used to trigger the enablement of the back bias voltages. These indicators include the display of a static screen display, lack of circuit busy signals, reduced FIFO buffer levels, generation of a sleep signal, reduced power supply draw, and any other appropriate indicators of switch from active mode to standby mode In this case, the condition detector 309 would detect such a condition and send an appropriate signal to the state machine 310, which would then pass the back bias voltages to the transistors 312 to enable back biasing. The use of conditions to trigger the back biasing of the transistors introduces an element of dynamic processing to the reduction of leakage current, and allows leakage control based on actual operating conditions or pre-programmed parameters.
    As stated above, various indicators could be used to detect the presence of the ASIC entering standby mode In one embodiment, a primary indicator is the presence of a static screen display. Such a condition often indicates lack of activity on the part of the user, and many devices are configured to enter sleep mode after a certain period of time (time-out period) in order to conserve energy. A simple method of
    dynamically reducing leakage power in the event of a circuit entering standby mode is to reduce the supply voltage (drain voltage) during the period in which the circuit is idle. Figure 4 is a flowchart that illustrates a method of dynamically reducing leakage current based on the status of a screen display, under an embodiment In block 402, the process detects whether a static screen condition is detected. Various indicators can be used to detect this condition, such as if the same screen display elements as a whole or for a significant portion of the entire screen display are static for a specified number of frames. Upon detection of a static screen condition, the process reduces the current clock operating frequency by a pre-determined factor, such as by one-half or one-quarter of the frequency, block 404. The clock frequency can be reduced by any appropriate process, such as a glitch-free post PLL (phase-locked loop) divide process, or the like. In block 406, the process triggers the GPIO interface (or other I/O interface) to reduce the VDD voltage (supply voltage) level. The reduction of the drain voltage effectively reduces leakage current through the transistors, thus reducing the leakage power of the ASIC during standby mode. The amount of voltage reduction should be selected so that sufficient power overhead is available to ensure the transistors can still function in standby mode.
    In one embodiment, the transistors are kept in the reduced supply voltage condition until a change in from standby mode to active mode of the ASIC is detected. Thus, as shown in block 408, the process determines whether the chip has entered active mode. If so, the transistors are taken back to their original supply voltage levels so that they can operate at their maximum possible clock speeds. As shown in block 410, the GPIO interface is triggered to raise the VDD voltage level so as to restore the operating voltage to its normal level. The clock frequency is then increased to its normal or maximum operating frequency, block 412, to enable the ASIC to function optimally in active mode.
    As shown in block 402 of Figure 4, the process first detects a static screen. In one embodiment the circuit is configured to detect a busy or idle signal that may also be used by the display processor for clock gating. A hysteresis delay is used for entering and exiting the static screen mode to reduce the chance that the circuit will drop in and out during performance critical times, and eliminates the ramp up time required for the voltage regulator to switch back to full performance mode during these periods.
    Figure 5 is a circuit diagram that illustrates a voltage control circuit for controlling the drain voltage to a graphics processor based on the status of a screen display, under an embodiment. The circuit 500 of Figure 5 can be used to implement one or more aspects of the process illustrated in Figure 4 As shown in system 500, ASIC 502 is mounted on board 504, and contains a static screen detection component 512, which is coupled to a core clock generator 514. The core clock generator controls the frequency of the ASIC clock signals and allows the reduction or increase in the clock frequencies illustrated in blocks 404 and 412 of Figure 4. The static screen detect circuit 512 provides a signal to switch circuit 511 on board 504 through GPIO port 510 The detection signal is passed to the Vsense input of voltage regulator 506. In response to this signal, the voltage regulator provides the appropriate VDD voltage level back to the ASIC 502 through GPIO port 508. The drain voltage level is thus controlled by the condition detected by the static screen detect component 512, and the voltage regulator triggers the GPIO interface 508 to raise or lower this voltage, as shown in blocks 406 and 410 of Figure 4. The minimum value of VDD is selected such that the transistors can operate in standby mode, yet is low enough to provide a substantial enough reduction in leakage current during this standby mode.

    Figure 4 illustrates a method in which the level of the drain voltage VDD, is used to reduce the leakage current during standby or sleep mode of the ASIC.
    Alternatively, block 406 can be replaced by a step that incorporates the application of the back bias voltage levels from the BBP and BBN voltage rails to the body terminals of the transistors to reduce the leakage current by effectively decreasing the threshold voltages of the transistors.

    Figure 6 is a flowchart that illustrates a method of triggering back biasing based on the status of a screen display, under an embodiment. In block 602, the process detects whether a static screen condition is detected. As stated above with respect to Figure 4, various indicators can be used to detect this condition, such as if the same screen display elements as a whole or for a significant portion of the entire screen display are static for a specified number of frames. Upon detection of a static screen condition, the process reduces the current clock operating frequency by a pie-determined factor, such as by one-half or one-quarter of the frequency, block 604. In block 606, the process triggers the GPIO interface (or other I/O interface) to enable back biasing of the transistors In one embodiment, this is accomplished by applying to the body terminals of the transistors either or both of a positive or negative back bias voltage that are provided by back bias voltage rails, e.g., BBP and BBN The application of back bias voltages effectively reduces the threshold voltage of the transistors, thus eliminating or reducing the leakage current through the transistors.

    In one embodiment, the transistors are kept in back bias mode until a change in from standby mode to active mode of the ASIC is detected. Thus, as shown in block 608, the process determines whether the chip has entered active mode. If so, the transistors are taken out of the back bias condition so that they can operate at their maximum possible clock speeds. As shown in block 610, the GPIO interface is triggered to disable the back bias condition of the transistors so as to restore the threshold voltage to its normal level The clock frequency is then increased to its normal or maximum operating frequency, block 612, to enable the ASIC to function optimally in active mode.
    Figure 7 is a circuit diagram that illustrates a voltage control circuit for controlling the application of back bias voltage to a graphics processor based on the status of a screen display, under an embodiment. The circuit 700 of Figure 5 can be used to implement one or more aspects of the process illustrated in Figure 6. As shown in system 700, ASIC 702 is mounted on board 704, and contains a static screen detection component 712, which is coupled to a core clock generator 714. The core clock generator controls the frequency of the ASIC clock signals and allows the reduction or increase in the clock frequencies illustrated in blocks 604 and 612 of Figure 6 The static screen detect circuit 712 provides a signal to switch circuit 711 on board 704 through GPIO port 710. The detection signal is passed to the Vsense input of voltage regulator 706. In response to this signal, the voltage regulator 706 provides the appropriate back bias voltage VBN level back to the ASIC 702 through GPIO port 708. The static screen detect component 712 also provides a signal to a bias generator component 714. This component 714 provides a back bias generator signal through GPIO port 709 to port 708 for enabling or disabling the back bias voltage VBN provided to port 708 from voltage regulator 706. The back bias voltage is thus generated by the voltage regulator and controlled by the condition detected by the static screen detect component 512 as passed through bias generator 714.
    Figure 7 shows an embodiment in which the back bias voltage comprises a negative voltage provided by the BBN power rail Alternatively, a positive back bias voltage VBP could also be provided through the BBP power rail. For this
    embodiment, separate bias generator and voltage regulator components could be provided to generate and control the application of VBP to the ASIC, or bias generator 714 and voltage regulator 706 could be configured to handle both VBP and VBN
    In one embodiment, the back bias voltage VBP and/or VBN are fixed at a certain maximum value and enabled or disabled through a binary signal generated by bias generator 714 This results in the effective shift of the threshold voltage 120 from a first value to a second value. In an alternative embodiment, the voltage regulator can be configured to provide a range of voltages for VBP and/or VBN, along a number of discrete intermediate voltage values, or a continuum between the maximum and minimum ranges for the positive and negative back bias values. This allows the threshold voltage 120 to be shifted to a number of intermediate voltages between the first and second values, and thus allows the leakage current to be reduced to a certain level. The voltage regulator can be programmed to provide the appropriate back bias voltage levels based on one or more parameters based on the operating conditions and requirements of the ASIC.
    Embodiments of the invention include a method of controlling leakage current in a circuit, comprising: responsive to a change in a device from a first state to a second state, reducing an operating frequency provided by a system clock to the circuit from a first frequency to a second frequency; and providing a back bias voltage to the circuit to effectively reduce a threshold voltage of the circuit along a voltage range between a first threshold voltage value to a second voltage value in response to the change in the device.
    In an embodiment, the first state comprises an active state of the circuit and the second state comprises a standby state of the circuit.
    In an embodiment, the standby state is detected by the presence of one or more indicators.
    In an embodiment, one of the one or more indicators comprises detecting a static screen display.
    An embodiment further comprises detecting the persistence of an image displayed on a display device coupled to the circuit for a specified number of clock cycles of the system clock.
    In an embodiment, the one or more indicators are selected from the group consisting essentially of one or more returned busy signals, sleep mode flag activation, reduction in power draw, and reduced buffer activity.
    In an embodiment, the back bias voltage comprises a negative voltage applied to a body terminal of at least one transistor of the circuit.
    In an embodiment, the back bias voltage is provided to the at least one transistor through a first voltage regulator circuit coupled to a negative back bias voltage supply rail, the first voltage regulator controlled by a bias generator circuit in response to the detected change of state.
    In an embodiment, the back bias voltage further comprises a positive voltage applied to the body terminal of the at least one transistor of the circuit.

    In an embodiment, the back bias voltage is provided to the at least one transistor through a second voltage regulator circuit coupled to a positive back bias voltage supply rail, the second voltage regulator controlled by the bias generator circuit in response to the detected change of state.
    In an embodiment, the second voltage regulator circuit is configured to switch the back bias voltage along a voltage range from a third value to a fourth value
    Embodiments further include a circuit comprising: a condition detector, detecting a change of state of the circuit from a first state to a second state; a state machine coupled to the condition generator, generating a control signal in response to the change of state; a voltage regulator coupled to the state machine, reducing an operating frequency from a first frequency to a second frequency; and a bias generator coupled to the voltage regulator, providing a back bias voltage to the circuit to effectively reduce a threshold voltage of the circuit along a voltage range between a first threshold voltage value to a second voltage value in response to the control signal
    In an embodiment, the first state comprises an active state of the circuit and the second state comprises a standby state of the circuit, and the standby state is detected by the presence of one or more indicators.
    In an embodiment, the circuit comprises at least one transistor, and further wherein the back bias voltage is selected from the group consisting of. a negative voltage applied to a body terminal of the at least one transistor of the circuit, and a positive voltage applied to the body terminal of the at least one transistor of the circuit
    In an embodiment, the circuit comprises a circuit within an application specific integrated circuit device mounted on a printed-circuit board
    In an embodiment, the circuit comprises at least a portion of a graphics processing unit.
    Embodiment further include a method of controlling leakage current in a circuit, comprising: responsive to a change in the circuit from a first state to a second state, reducing an operating frequency provided by a system clock to the circuit from a first frequency to a second frequency; and reducing a supply voltage to the circuit to effectively reduce a leakage current flowing through the circuit, along a range from a first supply voltage value to a second supply voltage value in response to the change in the circuit.
    In an embodiment, the first state comprises an active state of the circuit and the second state comprises a standby state of the circuit.
    In an embodiment, the standby state is detected by the presence of one or more indicators.
    In an embodiment, one of the one or more indicators comprises detecting a static screen display An embodiment further comprises detecting the persistence of an image displayed on a display device coupled to the circuit for a specified number of clock cycles of the system clock.
    In an embodiment, the one or more indicators are selected from the group consisting essentially of one or more returned busy signals, sleep mode flag activation, reduction in power draw, and reduced buffer activity.
    In an embodiment, the first supply voltage value comprises a maximum supply voltage provided to a drain terminal of at least one transistor of the circuit.
    In an embodiment, the first supply voltage value is provided to the at least one transistor through a voltage regulator circuit controlled by a condition detection circuit in response to the detected change of state.
    In an embodiment, the circuit comprises a circuit within an application specific integrated circuit device mounted on a printed-circuit board.
    In an embodiment, the circuit comprises at least a portion of a graphics processing unit.
    Although embodiments have been described in relation to specific types of circuits, such as graphic processing units, it should be noted that the described methods and systems can be used in any type of transistor-based logic circuit, such as microprocessors, co-processors, arithmetic logic units, and the like. Aspects of the dynamic leakage control system described herein may be implemented as
    functionality programmed into any of a variety of circuitry, including programmable logic devices ("PLDs"), such as field programmable gate arrays ("FPGAs"), programmable array logic ("PAL") devices, electrically programmable logic and memory devices and standard cell-based devices, as well as application specific integrated circuits Some other possibilities for implementing aspects include:
    microcontrollers with memory (such as EEPROM), embedded microprocessors, firmware, software, etc. Furthermore, aspects of the dynamic leakage control system may be embodied in microprocessors having software-based circuit emulation, discrete logic (sequential and combinatorial), custom devices, fuzzy (neural) logic, quantum devices, and hybrids of any of the above device types. The underlying device technologies may be provided in a variety of component types, e g., metal-oxide semiconductor field-effect transistor ("MOSFET") technologies like complementary metal-oxide semiconductor ("CMOS"), bipolar technologies like emitter-coupled logic ("ECL"), polymer technologies (e.g., silicon-conjugated polymer and metal-conjugated polymer-metal structures), mixed analog and digital, and so on.
    It should also be noted that the various functions disclosed herein may be described using any number of combinations of hardware, firmware, and/or as data and/or instructions embodied in various machine-readable or computer-readable media, in terms of their behavioral, register transfer, logic component, and/or other characteristics. Computer-readable media in which such formatted data and/or instructions may be embodied include, but are not limited to, non-volatile storage media in various forms (e.g , optical, magnetic or semiconductor storage media) and carrier waves that may be used to transfer such formatted data and/or instructions through wireless, optical, or wired signaling media or any combination thereof.
    Examples of transfers of such formatted data and/or instructions by carrier waves include, but are not limited to, transfers (uploads, downloads, e-mail, etc.) over the Internet and/or other computer networks via one or more data transfer protocols (e.g., HTTP, FTP, SMTP, and so on)
    Unless the context clearly requires otherwise, throughout the description and the claims, the words "comprise," "comprising," and the like are to be construed in an inclusive sense as opposed to an exclusive or exhaustive sense, that is to say, in a sense of "including, but not limited to." Words using the singular or plural number also include the plural or singular number respectively Additionally, the words "herein," "hereunder," "above," "below," and words of similar import refer to this application as a whole and not to any particular portions of this application. When the word "or" is used in reference to a list of two or more items, that word covers all of the following interpretations of the word: any of the items in the list, all of the items in the list and any combination of the items in the list.
    The above description of illustrated embodiments of the dynamic leakage control system is not intended to be exhaustive or to limit the embodiments to the precise form or instructions disclosed. While specific embodiments of, and examples for, processes in graphic processing units or ASICs are described herein for illustrative purposes, various equivalent modifications are possible within the scope of the disclosed methods and structures, as those skilled in the relevant art will recognize.
    The elements and acts of the various embodiments described above can be combined to provide further embodiments. These and other changes can be made to the dynamic leakage control system in light of the above detailed description.
    In general, in the following claims, the terms used should not be construed to limit the disclosed method to the specific embodiments disclosed in the specification and the claims, but should be construed to include all operations or processes that operate under the claims. Accordingly, the disclosed structures and methods are not limited by the disclosure, but instead the scope of the recited method is to be determined entirely by the claims.
    While certain aspects of the disclosed embodiments are presented below in certain claim forms, the inventors contemplate the various aspects of the
    methodology in any number of claim forms. For example, while only one aspect may be recited as embodied in machine-readable medium, other aspects may likewise be embodied in machine-readable medium. Accordingly, the inventors reserve the right to add additional claims after filing the application to pursue such additional claim forms for other aspects.

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    What is claimed is:

    1. A method of controlling leakage current in a circuit, comprising:
    responsive to a change in a device from a first state to a second state, reducing an operating frequency provided by a system clock to the circuit from a first frequency to a second frequency; and
    providing a back bias voltage to the circuit to effectively reduce a threshold voltage of the circuit along a voltage range between a first threshold voltage value to a second voltage value in response to the change in the device.

    2. The method of claim 1, wherein the first state comprises an active state of the circuit and the second state comprises a standby state of the circuit.

    3. The method of claim 2, wherein the standby state is detected by the presence of one or more indicators.

    4. The method of claim 3, wherein one of the one or more indicators comprises detecting a static screen display.

    5. The method of claim 4, further comprising detecting the persistence of an image displayed on a display device coupled to the circuit for a specified number of clock cycles of the system clock.

    6. The method of claim 4 wherein the one or more indicators are selected from the group consisting essentially of: one or more returned busy signals, sleep mode flag activation, reduction in power draw, and reduced buffer activity.

    7. The method of claim 2, wherein the back bias voltage comprises a negative voltage applied to a body terminal of at least one transistor of the circuit.

    8. The method of claim 7, wherein the back bias voltage is provided to the at least one transistor through a first voltage regulator circuit coupled to a negative back bias voltage supply rail, the first voltage regulator controlled by a bias generator circuit in response to the detected change of state.

    9. The method of claim 7, wherein the back bias voltage further comprises a positive voltage applied to the body terminal of the at least one transistor of the circuit,

    10. The method of claim 9, wherein the back bias voltage is provided to the at least one transistor through a second voltage regulator circuit coupled to a positive back bias voltage supply rail, the second voltage regulator controlled by the bias generator circuit in response to the detected change of state.

    11. The method of claim 10, wherein the second voltage regulator circuit is configured to switch the back bias voltage along a voltage range from a third value to a fourth value.

    12. A circuit comprising:
    a condition detector, detecting a change of state of the circuit from a first state to a second state;
    a state machine coupled to the condition generator, generating a control signal in response to the change of state;
    a voltage regulator coupled to the state machine, reducing an operating frequency from a first frequency to a second frequency; and
    a bias generator coupled to the voltage regulator, providing a back bias voltage to the circuit to effectively reduce a threshold voltage of the circuit along a voltage range between a first threshold voltage value to a second voltage value in response to the control signal.

    13. The circuit of claim 12 wherein the first state comprises an active state of the circuit and the second state comprises a standby state of the circuit, and the standby state is detected by the presence of one or more indicators.

    14 The circuit of claim 11, wherein the circuit comprises at least one transistor, and further wherein the back bias voltage is selected from the group consisting of: a negative voltage applied to a body terminal of the at least one transistor of the circuit, and a positive voltage applied to the body terminal of the at least one transistor of the circuit

    15. The circuit of claim 14, wherein the circuit comprises a circuit within an application specific integrated circuit device mounted on a printed-circuit board.

    16. The circuit of claim 15, wherein the circuit comprises at least a portion of a graphics processing unit.

    17 A method of controlling leakage current in a circuit, comprising:
    responsive to a change in the circuit from a first state to a second state, reducing an operating frequency provided by a system clock to the circuit from a first frequency to a second frequency; and
    reducing a supply voltage to the circuit to effectively reduce a leakage current flowing through the circuit, along a range from a first supply voltage value to a second supply voltage value in response to the change in the circuit

    18. The method of claim 17, wherein the first state comprises an active state of the circuit and the second state comprises a standby state of the circuit

    19. The method of claim 18, wherein the standby state is detected by the presence of one or more indicators

    20. The method of claim 19, wherein one of the one or more indicators comprises detecting a static screen display.

    21 The method of claim 20, further comprising detecting the persistence of an image displayed on a display device coupled to the circuit for a specified number of clock cycles of the system clock.

    22. The method of claim 20 wherein the one or more indicators are selected from the group consisting essentially of one or more returned busy signals, sleep mode flag activation, reduction in power draw, and reduced buffer activity.

    23. The method of claim 2, wherein the first supply voltage value comprises a maximum supply voltage provided to a drain terminal of at least one transistor of the circuit.

    24. The method of claim 23, wherein the first supply voltage value is provided to the at least one transistor through a voltage regulator circuit controlled by a condition detection circuit in response to the detected change of state.

    25 The method of claim 17, wherein the circuit comprises a circuit within an application specific integrated circuit device mounted on a printed-circuit board.

    26 The method of claim 25, wherein the circuit comprises at least a portion of a graphics processing unit.


    【特表2010-519612】
    WO2008/101036
    より引用

    メモリアレイにおけるリーク電流低減方法および装置

    【発明の詳細な説明】
    【発明の分野】
    【0001】
    本発明は、一般的に、エレクトロニクスに関し、そして、さらに特にメモリアレイにおけるリーク電流を低減する技法に関する。
    【背景】
    【0002】
    集積回路(IC)製造技術は改良を続けており、その結果として、トランジスタのサイズは縮小し続けている。これにより、より多数のトランジスタや、より複雑な回路をICダイ上に製造することが可能となり、あるいは、所定の回路用に使用されるダイを、より小型にすることが可能となる。より小型なトランジスタサイズは、また、より高速な動作速度を支援し、他の利点をもたらす。
    【0003】
    デジタル回路および、いくつかのアナログ回路に広く使用されている相補型メタルオキサイド半導体(CMOS)技術にとって、トランジスタサイズの縮小における主要な問題は、リーク電流である。より小型なトランジスタ形状は、電場(E−電場)をより高くし、トランジスタにストレスを与え、酸化物の破壊を引き起こす。E−電場を低くするために、より小型な形状のトランジスタに対して、低い電源電圧がしばしば使用される。残念なことに、低い電源電圧は、またトランジスタの遅延を増加させ、高速回路にとっては好ましくない。遅延を減少させ、動作速度を改良するために、トランジスタの閾値電圧(Vt)が減少される。閾値電圧というのは、トランジスタがオンとなる電圧である。しかし、低閾値電圧と小型なトランジスタ形状は、トランジスタがオフの時に、トランジスタを通して流れるリーク電流を高くしてしまう。
    【0004】
    リーク電流は、CMOS技術がより小型に設計されるにつれて、より問題である。これはトランジスタサイズが減少するのに伴って、リーク電流が高率で増加するためである。さらに、リーク電流は、例えば携帯電話、個人携帯端末(PDA)、ラップトップコンピュータ、等のような携行デバイスにとって主要な問題である。リーク電流はバッテリー電力を消費し、バッテリーを使う携行デバイスに対して待機時間を減少させる。
    【0005】
    動作を多大には犠牲とせずに、リーク電流を減少させることは、特にIC技術が小型化設計されるようになったCMOSデザインにおける主要な課題である。リーク電流の低減は、多数のエレクトロニクスで広く常用されるメモリアレイにとって、特に挑戦的である。メモリアレイは、データを蓄積するメモリセルの多数の行および多数の列を有し、多数のリーク電流経路を有するであろう。メモリアレイにとっての低リーク電流を実現するために、各リーク電流経路に焦点が当てられる。
    【概要】
    【0006】
    本出願ではメモリアレイにおけるリーク電流の低減手法が記述されている。メモリアレイは、メモリセルの複数の行と複数の列を具備している。ビット線はメモリセルの列に結合されており、ワード線はメモリセルの行に結合されている。ビット線は、メモリアレイに対し、スリープモードの間、電源への経路が切断され浮遊状態である。ビット線は、電源とビット線の間に結合された全トランジスタをオフにすることによって、浮遊状態となろう。
    【0007】
    ビット線は、(i)各書き込みあるいは読み出し動作に先立ち、ビット線をロジックハイにプリチャージするプリチャージ回路、(ii)読み出し動作の際、ビット線をセンスアンプに結合するために用いられるパストランジスタ、および(iii)書き込み動作の際、ビット線を駆動するために用いられるドライバ中にあるプルアップトランジスタに、結合されるであろう。プリチャージ回路、パストランジスタ、およびプルアップトランジスタは、全てスリープモードの間、オフとされるであろう。ワード線は、スリープモードの間、メモリセルをビット線から切断するように、予め定められたロジックレベルに設定されうる。メモリセルは、スリープモードの間、例えば、メモリセルによるデータ保持が不要な場合、少なくとも一つのヘッドスイッチを介して、電源から切断することが出来る。
    【0008】
    本開示の様々な面、特徴は、以下に詳述される。
    【図面の簡単な説明】
    【0009】
    【図1】図1は、メモリデバイスのブロック図を示す。
    【図2】図2は、二つのメモリアレイおよび入力/出力(I/O)回路設計の略図を示す。
    【図3】図3は、二つのメモリアレイおよび入力/出力(I/O)回路設計の略図を示す。
    【図4】図4は、ワード線ドライバの略図を示す。
    【図5】図5は、スリープモードにおけるメモリアレイ設置プロセスを示す。
    【図6】図6は、無線デバイスのブロック図を示す。
    【詳細な説明】
    【0010】
    本出願ではメモリアレイにおけるリーク電流の低減手法が記述されている。メモリアレイは、ランダムアクセスメモリ(RAM)、スタティックRAM(SRAM)、ダイナミックRAM、シンクロナスDRAM(SDRAM)、ビデオRAM(VRAM)、シンクロナスグラフィックRAM(SGRAM)、リードオンリメモリ(ROM)、フラッシュメモリ等用でありうる。メモリアレイは、スタンドアローンメモリデバイスの一部、あるいは、例えばプロセッサのように他のデバイス内に埋め込まれたものでありうる。
    【0011】
    図1は、低リーク電流をもってなるメモリデバイス100設計のブロック図を示す。メモリデバイス100は、アドレスラッチ110、アドレスデコーダおよびワード線ドライバ120、メモリアレイ150、コントロール信号発生器160、およびI/O回路170を含む。メモリアレイ150はまた、コアアレイとも呼ばれる。
    【0012】
    メモリアレイ150はM行およびN列のメモリセル152を含み、MおよびNは、それぞれいかなる値でもありうる。メモリセルは、データ値を蓄積することが出来る回路であり、様々な回路設計によって実現しうる。メモリセルのM行は、ワード線WL1からWLMまでのMワード線を介して選択される。メモリセルのN列は、BL1およびBL1bからBLNおよびBLNbまでのNディファレンシャルビット線に結合されている。
    【0013】
    アドレスラッチ110は、アクセスされるメモリセルないしはメモリセルブロックへのアドレスを受け、このアドレスをラッチする。アドレスデコーダ120は、このラッチされたアドレスを受け、この受けたアドレスに基づき、行アドレスを発生しうる。アドレスデコーダ120は、行アドレスにプリデコードを実行し、特定のワード線を活性化あるいはアサ―トするように示すプリデコード信号を供給することが出来る。ワード線ドライバ120は、プリデコード信号を受け、そのプリデコード信号により示されるように、特定のワード線を駆動し、これにより、所望のメモリセルの行をアクセスすることが出来る。
    【0014】
    I/O回路170は、メモリセル152からデータを読み出したり、メモリセルに書き込んだりする様々な回路を含む。例えば、I/O回路170は、そのビット線に結合されたメモリセルからデータを読み出すために、各ディファレンシャルビット線に対して、センスアンプおよびデータ出力バッファを含む。I/O回路170は、そのビット線に結合されたメモリセルにデータを書き込むために、各ディファレンシャルビット線に対して、データラッチおよびデータ入力ドライバを、さらに含む。
    【0015】
    コントロール信号発生器160は、外部クロック信号CLKを受け、メモリデバイス100の動作をコントロールするために使用されるコントロール信号を発生する。例えば、発生器160は読み出しおよび書き込み動作に用いられるコントロール信号を発生しうる。
    【0016】
    メモリデバイス100はディープサブミクロンCMOSプロセスにより製造しうる。メモリデバイス100のリーク電流は、以下の発生源から招来しうる。
    【0017】
    ・メモリアレイ150−メモリセルおよびビット線を含み、および
    ・周辺回路−メモリアレイ150以外の例えば、コントロール信号発生器160、I/O回路170等の回路を含む。
    【0018】
    周辺回路を介したリーク電流は、様々な方法で軽減しうる。一つの設計において、周辺回路は、(i)高性能が望まれるセクションには低Vtトランジスタ、また(ii)低リーク電流が望まれ、高性能は必要としないセクションには高Vtトランジスタ、の両方により実現しうる。他の設計において、低Vtトランジスタが周辺回路に使用され、高Vtトランジスタが周辺回路を回路接地に接続したり切断したりするフットスイッチとして使用されうる。機能/動作モードにおいて、フットスイッチはオンとされ、周辺回路は通常方法で動作しうる。スリープモードにおいて、フットスイッチはオフとされ、周辺回路を通るリーク電流は、フットスイッチを通るリーク電流により制限されうる。高Vtトランジスタは、周辺回路を介したリーク電流を制限するために、フットスイッチに使用されうる。
    【0019】
    メモリアレイ150を介したリーク電流は、また様々な方法により軽減されうる。第一に、メモリセルへの電源は、スリープモードの間、ヘッドスイッチにより切断され、メモリセルを通るリーク電流を低減しうる。第二に、ビット線を介し、メモリセルを通るリーク電流は、以下に記述されるように、スリープモードの間、ビット線を浮遊状態にすることで低減しうる。
    【0020】
    一般的に、ヘッドスイッチおよび/またはフットスイッチは、リーク電流を低減するために所定の回路に使用されうる。性能を改良するためにメモリアレイ150にヘッドスイッチを使用することは望ましいであろう。プルダウン力は、読み出し/書き込み性能にとって重要な要因である。メモリセル内でプルダウントランジスタと直列にフットスイッチを追加することは、プルダウン力に影響し、性能に悪影響を与えうる。ヘッドスイッチは、プルダウン力への影響を最小限にするために、メモリアレイに対して使用しうる。ヘッドスイッチと比べ、より小さいICダイ領域でフットスイッチを実現しうるため、フットスイッチを周辺回路に使用することが望ましいであろう。一般的に、ヘッドスイッチまたはフットスイッチ、あるいは両方は、メモリアレイ150に使用しうる。ヘッドスイッチまたはフットスイッチ、あるいは両方は、また周辺回路に使用しうる。明確化のために、以下の記述はヘッドスイッチがメモリアレイ150に対して使用され、フットスイッチは周辺回路に対して使用されるものとする。
    【0021】
    図2はメモリアレイ150aおよびI/O回路170aの略図を示し、それぞれ図1におけるメモリアレイ150およびI/O回路170の一つの設計である。明確化のために、一つだけのメモリアレイ152、一つだけのワード線WLm、および一つだけのディファレンシャルビット線BLxおよびBLxbが図2に示され、図でm∈{1,...,M}およびx∈{1,...,N}である。また、明確化のために、図2には、ただ一つだけのビット線に対する読み出し/書き込み回路が示されている。
    【0022】
    図2に示された設計において、Pチャンネル電界効果トランジスタ(P−FET)210がメモリセル152用のヘッドスイッチとして使用されている。P−FET210は、スリープ信号SLP1を受けるゲート、電源Vddxに結合されたドレイン、およびメモリセル152に供給電圧Vddcをもたらすソースを有する。SLP1信号は、メモリデバイス100が機能モードの時、ロジックローである。スリープモードにおいては、SLP1信号はメモリセル152に蓄積されたデータを保持するためにロジックローに設定するか、あるいはメモリセル152を通るリーク電流を低減するためにロジックハイに設定しうる。P−FET210は、かくして機能モードの間オンとなり、スリープモードの間は、メモリセル152によるデータ保持が望ましいか否かによって、オンまたはオフにしうる。一般的に、メモリアレイ150aはいかなる数のヘッドスイッチを含むことが出来る。例えば、全メモリアレイに対して一つのヘッドスイッチ、メモリセルの各列に対して一つのヘッドスイッチ、メモリセルの各行に対して一つのヘッドスイッチ、各メモリセルに対して一つのヘッドスイッチ、メモリセルの各グループに対して一つのヘッドスイッチ、等である。ヘッドスイッチは、低リーク電流を達成するために、高Vtトランジスタをもって実現しうる。
    【0023】
    図2に示す設計において、各ビット線に対して、I/O回路170aはプリチャージ回路220、書き込み/読み出しマルチプレクサ(Mux)230、書き込み回路240、および読み出し回路250を含む。プリチャージ回路220は、各読み出しおよび書き込み動作に先立ち、プリチャージ線BLxおよびBLxbをロジックハイにプリチャージする。マルチプレクサ230は、書き込み動作に対しては、線BLxおよびBLxbを書き込み回路240に結合し、読み出し動作に対しては、読み出し回路250に結合する。書き込み動作に対しては、書き込み回路240は、選択されたメモリセル152に入力データ値Dinを書き込むように線BLxおよびBLxbを駆動する。読み出し動作に対しては、読み出し回路250は、選択されたメモリセルにより駆動される線BLxとBLxbとの間の電圧差を増幅する。読み出し回路250は、そうして増幅された電圧に対して、ロジック値(例えば、ローあるいはハイ)を検出し、検出されたロジック値をもたらす。
    【0024】
    プリチャージ回路220は、線BLxおよびBLxbに対して、それぞれ二つのプリチャージP−FET222aおよび222b、ならびに等価化P−FET224を含む。P−FET222aおよび222bは、それらのゲートが共通結合され、またプリチャージ信号に結合されており、それらのソースは電源Vddxに、そしてそれらのドレインは線BLxおよびBLxbにそれぞれ結合されている。P−FET224はプリチャージ信号に結合されたゲートを有し、そのソースは線BLxに、そのドレインは線BLxbに結合されている。プリチャージ動作の前、一つの線(BLxあるいはBlxbのいずれか)は、ロジックローの状態にあり、他の線(BLxbあるいはBLxのいずれか)は、ロジックハイの状態にある。P−FET224は、プリチャージ動作の間、線BLxとBLxbとを共に接続し、P−FET222aおよび222bの両者が、線をロジックローの状態から、ロジックハイの状態に引き上げることを許容する。
    【0025】
    マルチプレクサ230は、N−FET232aおよび232bとP−FET234aおよび234bを含む。N−FET232aと232bは、それらのゲートが共通結合され、また書き込み信号ZWに結合されており、そのドレインは線BLxおよびBLxbにそれぞれ結合されている。そして、それらのソースは書き込み回路240に結合されている。P−FET234aおよび234bは、それらのゲートが共通結合され、また読み出し信号ZRに結合されており、それらのソースは線BLxおよびBLxbにそれぞれ結合され、それらのドレインは読み出し回路250に結合されている。
    【0026】
    書き込み動作に対して、ZW信号は、ある期間ロジックハイの状態にあり、N−FET232aおよび232bはオンとされ、線BLxおよびBLxbは、書き込み回路240に結合される。ZR信号は、全書き込み動作に対してロジックハイの状態にあり、P−FET234aおよび234bはオフとされ、読み出し回路250は、線BLxおよびBLxbから分離される。線BLxおよびBLxbは、初期にはロジックハイにプリチャージされ、その後、メモリセル152に書き込むために、線BLxあるいはBLxbのいずれかがロジックローにプルダウンされる。N−FET232aおよび232bは、P−FETよりもロジックロー/ゼロを伝えやすい。
    【0027】
    読み出し動作に対して、ZR信号は、ある期間ロジックローの状態にあり、P−FET234aおよび234bはオンとされ、線BLxおよびBLxbは、読み出し回路250に結合される。ZW信号は全読み出し動作に対してロジックローの状態にあり、N−FET232aおよび232bはオフとされ、書き込み回路240は、線BLxおよびBLxbから分離される。線BLxおよびBLxbは、初期には同様にロジックハイにプリチャージされ、その後、選択されたメモリセル152により引き離される。P−FET234aおよび234b は、N−FETよりも高電圧あるいはロジック1を伝えやすい。
    【0028】
    書き込み回路240は、線BLxおよびBLxbにそれぞれ対するドライバ242aおよび242b、書き込みドライバロジック248、およびフットスイッチとして使用されるN−FET249を含む。各ドライバ242は、N−FET246と積層構造で結合されたP−FET244を含む。N−FET246aは、仮想アースVsspに結合されたソースと、ロジック248からコントロール信号Vnlを受けるゲートと、P−FET244aのドレインに結合されたドレインとを有する。P−FET244aは、ロジック248からコントロール信号Vp1を受けるゲートと、電源Vddxに結合されたソースとを有する。FET244bおよび246bは、FET244aおよび244bと同様に結合され、ロジック248からコントロール信号Vp2およびVn2をそれぞれ受ける。FET244aおよび246aのドレインは、線BLxに結合され、またFET244bおよび246bのドレインは、線BLxbに結合されている。N−FET249は、回路接地に結合されたソースと、SLP2信号を受けるゲートと、仮想的アースVsspをもたらすドレインとを有する。SLP2信号は、SLP1信号とは反対に、機能モードの間はロジックハイの状態で、スリープモードの間はロジックローの状態である。N−FET249は、低リーク電流を実現するために、高Vtトランジスタにより実現されうる。ロジック248は、DinデータとSLP2信号を受け、FET244aおよび246aのそれぞれに対するVp1およびVn1信号を発生し、またFET244bおよび246bのそれぞれに対するVp2およびVn2信号を発生する。
    【0029】
    読み出し回路250は、プリチャージ回路252およびセンスアンプ(Amp)254を含む。プリチャージ回路252は、各読み出し動作の前に、センスアンプ254の入力をロジックハイにプリチャージする。プリチャージ回路252は、プリチャージ回路220と同一の方法で結合された三つのP−FETにより実現しうる。センスアンプ254は、線BLxおよびBLxb間の電圧差を検知し、検知されたロジック値をもたらす。
    【0030】
    コントロール信号発生器160は、N−FETにより実現されたフットスイッチに結合しうる。N−FET260は、回路接地に結合されたソースと、SLP2信号を受けるゲートと、発生器160に対する仮想的アースVsspをもたらすドレインとを有する。発生器160は、例えばN−FET232aおよび232bに対するZW信号や、P−FET234aおよび234bに対するZR信号や、書き込み動作に対して使用されるデータ入力ドライバクロック(WCLK)信号、そして読み出し動作に対して使用されるセンスアンプエネーブル(SEN)のような様々なコントロール信号を発生しうる。
    【0031】
    コントロール信号発生器160は、N−FET260により実現されるフットスイッチを介してオンやオフにされうる。スリープモードの間、N−FET260はオフとすることが出来、仮想的接地Vsspは、Vddx電源と回路接地との間で浮遊となりえて、発生器160からのコントロール信号は、ゆっくりとVddx電源に向かって立ち上がりうる。結果として、オフとするためにロジックロー状態にあるコントロール信号に依存する回路は、スリープモードの間、ロジックローを受けないであろう。例えば、N−FET232aおよび232bは、オフとするためにロジックロー状態にあるZW信号に依存する。ZW信号は、スリープモードの間、Vddxと回路接地の間で浮遊となろうから、N−FET232aおよび232bはスリープモードの間、浮遊状態となろう。
    【0032】
    図2に示すように、メモリアレイ150におけるメモリセル152に対してヘッドスイッチを使用しうる。フットスイッチは、例えば書き込み回路240やコントロール信号発生器160等の周辺回路に使用しうる。
    【0033】
    また図2でも示すように、ビット線BLxおよびBLxbを介して、メモリセル152を通る幾つかのリーク電流経路があろう。第一のリーク電流経路は、ビット線を介し、プリチャージ回路220から、メモリセル152を通っていくであろう。第二のリーク電流経路は、ドライバ242aおよび242bから、ビット線を介してメモリセル152を通っていくであろう。第三のリーク電流経路は、プリチャージ回路252から、ビット線を介してメモリセル152を通っていくであろう。これらの全てのリーク電流経路は、スリープモードの間、ビット線を浮遊状態にすることにより切断しうる。
    【0034】
    表1は、図2に示す設計に対して、ビット線BLぉよびBLxbを浮遊状態とするために行うアクションを一覧するものである。
    【表1】



    【0035】
    機能モードの間、プリチャージ回路220内のP−FET222a、222bおよび224は、各読み出しあるいは書き込み動作に先立って、ビット線BLxおよびBLxbをロジックハイにプリチャージするために、オンとされる。NANDゲート226は、PRE信号およびSLP2信号を受け、P−FET222a、222bおよび224に対するプリチャージ信号を発生する。PRE信号は、各読み出しあるいは書き込み動作に対してロジックローであり、その他の時間はロジックハイである。機能モードの間、SLP2信号はロジックハイであり、プリチャージ信号はPRE信号の反転版である。スリープモードの間、SLP2信号はロジックローであり、プリチャージ信号はロジックハイであり、P−FET222a、222bおよび224はプリチャージ信号のロジックハイにより、オフとされる。プリチャージ回路220は、かくしてスリープモードの間、プリチャージ信号により、オフとされる。
    【0036】
    機能モードの間、マルチプレクサ230内のP−FET234aおよび234bは、読み出し動作に対してはオンとされ、書き込み動作に対してはオフとされる。スリープモードの間、P−FET234aおよび234bは、ZR信号にロジックハイを印加することにより、オフとしうる。発生器160は、N−FET260がスリープモードにおいてオフとされていても、ZR信号にロジックハイを発生しうる。というのはVddx電源が発生器に利用可能であるであるからである。N−FET234aおよび234bはスリープモードの間、オフと出来るので、プリチャージ回路252をオフにする必要は無いであろう。しかしながら、プリチャージ回路252はスリープモードの間、リーク電流をさらに低減するために、オフとすることが出来る。
    【0037】
    機能モードの間、マルチプレクサ230内のN−FET232aおよび232bは、書き込み動作に対してオンとし、読み出し動作に対してオフとしうる。書き込み回路240内のP−FET244aおよび244bは、書き込みサイクルのプリチャージ段階においてオンとすることが出来、線BLxおよびBLxbをロジックハイの状態に引き上げる。書き込みサイクルの書き込み段階の間、ドライバ242aは、Din値に依存して線BLxをロジックローあるいはロジックハイに駆動する。そして、ドライバ242bは、Din値に依存して線BLxbをロジックハイあるいはロジックローに駆動する。スリープモードの間、N−FET260がオフの場合、ZWに対してロジックローは実現出来ず、信号N−FET232aおよび232bは浮遊状態となる。書き込み回路240内のP−FET244aおよび244bは、スリープモードの間、オフとされ、ドライバ242aおよび242bからビット線BLxおよびBLxbを介して、メモリセル152を通るリーク電流経路が確実に無いようにされうる。ロジック248は、スリープモードにおいてN−FET249がオフとされても、Vddx電源がロジック248に利用可能なので、P−FET244aおよび244bの夫々に対するVp1およびVp2信号にロジックハイを発生させることが出来る。
    【0038】
    図3は、メモリアレイ150bおよびI/O回路170bの略図を示し、図1におけるメモリアレイ150およびI/O回路170夫々の別の設計を示す。明確にするために一つのビット線に対する、一つだけのメモリセル152、一つのワード線WLm、一つのディファレンシャルビット線BLxおよびBLxb、そして読み出し/書き込み回路が図3に示される。
    【0039】
    図3に示される設計において、P−FET210はメモリセル152に対するヘッドスイッチとして使用される。メモリセル152は、一対のクロスカップルドインバータ312aおよび312bと、パストランジスタとして使用される一対のN−FET318aおよび318bを含む。各インバータ312は、P−FET314およびN−FET316で形成されている。N−FET316は、回路接地に結合されたソース、P−FET314のゲートに結合されたゲート、P−FET314のドレインに結合されたドレインを有する。P−FET314は、Vddc電源に結合されたソースを有する。インバータ312aは、ノードAに結合された出力と、ノードBに結合された入力を有する。インバータ312bは、ノードBに結合された出力と、ノードAに結合された入力を有する。N−FET318aは、ノードAに結合されたドレイン、ワード線WLmに結合されたゲート、および線BLxに結合されたソースを有する。N−FET318bは、ノードBに結合されたドレイン、線WLmに結合されたゲート、および線BLxbに結合されたソースを有する。
    【0040】
    インバータ312aおよび312bは正のフィードバックを介したデータ値を蓄積する。もし、メモリセル152がロジックハイ(‘1’)を蓄積すると、ノードAはロジックハイで、ノードBはロジックローである。もし、メモリセル152がロジックロー(‘0’)を蓄積すると、ノードAはロジックローで、ノードBはロジックハイである。メモリ読み出しに対して、線BLxおよびBLxbは、初期にはプリチャージ回路220によりロジックハイにプリチャージされ、それからワード線WLmはロジックハイにアサ―トされ、またN−FET318aおよび318bはオンとされる。もしメモリセル152がロジックハイを蓄積すると、線BLxは、N−FETを介してインバータ312aによりチャージされ、線BLxbは、N−FET318bを介してインバータ312bによりディスチャージされる。メモリセル152がロジックローを蓄積する場合、正反対のことが当てはまる。
    【0041】
    メモリ書き込みに対して、線BLxおよびBLxbは、プリチャージ回路220により、初期にはロジックハイにプリチャージされ、それからワード線WLmはロジックハイにされ、N−FET318aおよび318bはオンとされる。ロジックハイ(‘1’)をメモリセル152に書き込むために、線BLxはハイに駆動され、ノードAはN−FET318aを介して、ロジックハイに強いられる。また線BLxbはローに駆動され、ノードBはN−FET318bを介して、ロジックローに強いられる。メモリセル152にロジックローを書き込む場合、正反対のことが当てはまる。
    【0042】
    スリープモードの間、P−FET210はオフとすることが出来、Vddc電源は、P−FET210を通るリーク電流、およびP−FET210に結合される全メモリセルを通るリーク電流により決められる中間電圧まで下げうる。インバータ312aおよび312bは、ワード線WLmをロジックローにすることにより、ビット線BLxおよびBLxbから分離することが出来、これによりN−FET318aおよび318bをオフとしうる。
    【0043】
    I/O回路170bは、各ビット線に対する、プリチャージ回路220、マルチプレクサ230、書き込み回路240、および読み出し回路250を含む。書き込み回路240は、線BLxとBLxbにそれぞれ対するドライバ242aと242b、書き込みドライバロジック248、およびN−FET249を含む。ロジック248内で、インバータ340はDinデータを受け、反転Dinを供給する。NANDゲート342aは、インバータ340の出力およびWCLK信号を二つの入力で受け、ラッチされたDinを供給する。NANDゲート342bは、DinデータとWCLK信号を、二つの入力で受け、ラッチされた反転Dinを供給する。NANDゲート344aは、NANDゲート342aの出力とSLP2信号を、二つの入力で受け、P−FET244aに対するVp1信号を供給する。インバータ346aは、NANDゲート342aの出力を受け、N−FET246aに対するVn1信号を供給する。NANDゲート344bはNANDゲート342bの出力とSLP2信号を、二つの入力で受け、P−FET244bに対するVp2信号を供給する。インバータ346bは、NANDゲート342bの出力を受け、N−FET246bに対するVn2信号を供給する。
    【0044】
    機能モードの間、SLP2信号はロジックハイであり、NANDゲート342aはラッチされたDinを供給し、NANDゲート344aはP−FET244aをオンにし、もしDinがロジックハイである場合は線BLxを引き上げ、また、インバータ346aは、N−FET246aをオンにし、もしDinがロジックローの場合は線BLxをプルダウンする。NANDゲート342bは、ラッチされた反転Dinを供給し、NANDゲート344bは、P−FET244bをオンにし、もしDinがロジックローの場合は線BLxbを引き上げる。また、インバータ346bは、N−FET246bをオンにし、もしDinがロジックハイの場合は、線BLxbをプルダウンする。スリープモードの間、SLP2信号はロジックローの状態であり、NANDゲート344aからのVp1信号はロジックハイの状態であり、P−FET244aはオフとされる。NANDゲート344bからのVp2信号も、またロジックハイの状態であり、P−FET244bもオフとされる。NANDゲート344aおよび344bは、かくしてスリープモードの間、P−FET244aと244bをオフとし、P−FET244aと244bとを機能モードの間、オンあるいはオフに出来るようにする。N−FET246aと246b、インバータ340、346aと346b、NANDゲート342a、342b、344aと344bは、N−FET249からの仮想的アースVsspに全て結合され、かくしてスリープモードの間、浮遊状態にある。
    【0045】
    図4は図1におけるワード線ドライバ120内にあるドライブ回路410の設計の略図を示す。ドライバ回路410は、図2および3におけるワード線WLmを駆動する。ドライバ回路410内で、ワード線ドライバ412はプリデコード信号を受け、プリデコード信号により選択された時、ワード線WLmを駆動する。P−FET414は、ワード線ドライバ412に対するヘッドスイッチを実現する。ワード線ドライバ412は、複数の段階を含むことが出来、フットスイッチは最終/出力段階を除く全ての段階で使用することが出来、ヘッドスイッチは最終/出力段階で使用することが出来る。N−FET416は、プルダウントランジスタを実現し、回路接地に結合されたソース、SLP2b信号を受けるゲート、およびワード線WLmに結合されたドレインを有する。SLP2b信号は、SLP2信号の反転版である。機能モードの間、SLP2b信号は、ロジックローの状態であり、ヘッドスイッチP−FET414はオンとされ、プルダウントランジスタN−FET416はオフとされる。スリープモードの間、SLP2b信号はロジックハイの状態であり、ヘッドスイッチP−FET414はオフとされ、そしてプルダウントランジスタN−FET416はオンとされ、ワード線WLmをロジックローの状態に引く。
    【0046】
    図2,3および4は、メモリデバイス100内の様々なブロックの特定設計を示す。一つの設計において、スリープモードの間、リーク電流低減のために、ヘッドスイッチおよび/またはフットスイッチをメモリアレイ150に対して用いることが出来る。この設計において、メモリアレイ150内のメモリセルは、高性能を達成するために低Vtトランジスタにより実現することが出来、ヘッドスイッチおよび/またはフットスイッチはリーク電流低減のために使用することが出来る。他の設計において、メモリセル150は、ヘッドスイッチあるいはフットスイッチを用いることなく、Vddx電源と回路接地の間に直接結合することが出来る。この設計において、メモリアレイ150内のメモリセルは、リーク電流を低減するために、高Vtトランジスタにより実現することが出来る。両方の設計において、ワード線は、スリープモードの間、メモリセルを通るリーク電流を低減するように、ロジックローの状態に維持することが出来る。
    【0047】
    一つの設計において、プリチャージ回路220は、例えば、図2および3に示されるように、直接Vddx電源に結合することが出来る。この設計において、プリチャージ回路220内のP−FET222a、222bおよび224は、プリチャージ信号にロジックハイを印加することにより、スリープモードの間、オフとすることが出来る。他の設計において、プリチャージ回路220は、P−FET210と同様に実現することが出来るヘッドスイッチを介して、Vddx電源に結合することが出来る。この設計において、プリチャージ回路220に対するヘッドスイッチは、スリープモードの間、オフとすることが出来、プリチャージ信号は、いかなるロジックレベルにもすることが出来る。
    【0048】
    一つの設計において、マルチプレクサ230内のN−FET234aと234bは、上述のように、スリープモードの間、オフとすることが出来る。他の設計において、プリチャージ回路252は、例えばプリチャージ回路220と同様に、スリープモードの間、オフとすることが出来る。
    【0049】
    スリープモードの間、オフとされるFET(例えば、プリチャージ回路220内のP−FET222a、222bおよび224、マルチプレクサ230内のP−FET234aと234b、および書き込み回路240内のP−FET244aと244b)は、リーク電流を低減するような方法で実現することが出来る。例えば、これらのFETは、もし高速の動作速度が要求されないならば、高Vtトランジスタにより実現することが出来る。代替的あるいは付加的に、これらのFETは、リーク電流を低減するために、長い期間により実現することが出来る。
    【0050】
    図5は、メモリアレイをスリープモードとするプロセス500の設計を示す。メモリアレイは、メモリセルの複数の行と列とを具備する。複数のビット線は、メモリセルの複数の列に結合され、複数のワード線は、メモリセルの複数の行に結合される。ビット線は、メモリアレイに対するスリープモードの間、電源への経路を切断され、浮遊状態とされる。これは、スリープモードの間、電源とビット線の間に結合された全トランジスタをオフとすることにより実現することが出来る。
    【0051】
    電源とメモリアレイの間に結合された、少なくとも一つのヘッドスイッチおよび/または、メモリアレイと回路接地の間に結合された、少なくとも一つのフットスイッチは、スリープモード(ブロック512)の間、オフとすることが出来る。複数のビット線に対する複数のプリチャージ回路は、スリープモード(ブロック514)の間、オフとすることが出来る。読み出し動作に対し、複数のビット線を複数のセンスアンプに結合する複数のパストランジスタ(例えば、P−FET234aおよび234b)は、スリープモード(ブロック516)の間、オフにすることが出来る。書き込み動作に対し、複数のビット線を駆動するために使用される、複数のドライバ内のプルアップトランジスタ(例えば、P−FET244aおよび244b)も、スリープモード(ブロック518)の間、オフにすることが出来る。ワード線は、スリープモード(ブロック520)の間、メモリセルを複数のビット線から切断するために、予め定められたロジックレベル(例えば、ロジックロー)に設定することが出来る。
    【0052】
    一つあるいは、それ以上のコントロール回路あるいはロジック(例えば、発生器160、NANDゲート226、およびロジック248)は、読み出し動作に対しては、プリチャージ回路、パストランジスタへのコントロール信号を、書き込み動作に対しては、プルアップトランジスタへのコントロール信号を発生することが出来る。コントロール回路あるいはロジックは、一つあるいは、それ以上のフットスイッチを介して回路接地に結合することが出来、スリープモードの間、コントロール信号に対して、ロジックハイをもたらすことが出来る。
    【0053】
    本出願において記述された技法およびメモリアレイは、様々な応用、例えば、無線通信、コンピューティング、ネットワーキング、個人エレクトロニクス等に用いることが出来る。メモリアレイは、スタンドアローンメモリデバイスで実現されたり、プロセッサ、デジタル信号プロセッサ(DSP)、縮小命令セットコンピュータ(RISC)プロセッサ、アドバンスドRISCマシーン(ARM)プロセッサ、グラフィックプロセッサ、グラフィックプロセッシングユニット(GPU)、コントローラ、マイクロプロセッサ、等の中に埋め込まれうる。以下に、無線通信デバイス用のメモリアレイの例示的使用が記述される。
    【0054】
    図6は、無線通信システムにおける無線デバイス600のブロック図を示す。無線デバイス600は、携帯電話、端末、ハンドセット、PDA、無線モデム、等でありうる。この無線通信システムは、符号分割多重アクセス(CDMA)システム、グローバルシステムモバイルコミュニケーション(GSM)、等でありうる。
    【0055】
    無線デバイス600は、受信経路と送信経路を介して、双方向通信をもたらすことが出来る。受信経路において、基地局により送信された信号はアンテナ612により受信され、受信機(RCVR)614にもたらされる。受信機614は、受信信号を調整およびデジタル化し、更なる処理のために、デジタル部620にサンプルをもたらす。送信経路において、送信機(TMTR)616は、デジタル部620から送信されるデータを受け取り、データを処理および調整し、変調信号を発生し、これは基地局にアンテナを介して送信される。
    【0056】
    デジタル部620は、様々な、例えば、モデムプロセッサ622、ビデオプロセッサ624、コントローラ/プロセッサ626、表示プロセッサ628、ARM/DSP632、グラフィックプロセッサ634、内部メモリ636、および外部バスインターフェイス(EBI)638のような、処理、インターフェイス、およびメモリユニットを含む。モデムプロセッサ622は、データの送信や受信、例えば、符号化、変調、復調および復号処理を行う。ビデオプロセッサ624は、例えば、カムコーダ、ビデオ再生機、およびテレビ会議のようなビデオ用途に対し、ビデオコンテンツ(例えば、静止映像、動画ビデオおよび動画テキスト)の処理を行う。コントローラ/プロセッサ626は、デジタル部620内の様々なユニットへの指示を行うことが出来る。ディスプレイプロセッサ628は、ディスプレイユニット630上での、ビデオ、グラフィック、およびテキストの表示を容易化する処理を行う。ARM/DSP632は、無線デバイス600に対する様々なタイプの処理を行うことが出来る。グラフィックプロセッサ634は、例えば、グラフィック、ビデオゲーム等に対するグラフィック処理を行う。内部メモリ636は、デジタル部620内の様々なユニットに対するデータおよび/または指令を蓄積する。EBI638は、デジタル部620(例えば、内部メモリ636)と主メモリ640との間でのデータ転送を容易化する。
    【0057】
    各プロセッサ622ないし634は、上述のごとく実現されうるであろう埋め込みメモリを含むことが出来る。内部メモリ636および主メモリ640もまた、上述のごとく実現されうるであろう。デジタル部620は、一つあるいはそれ以上の特定用途集積回路(ASIC)および/または他の何らかのタイプのICにより実現することが出来る。
    【0058】
    本出願で記述された手法およびメモリアレイは、メモリIC、ASIC、DSP、デジタル信号処理デバイス(DSPD)、プログラマブルロジックデバイス(PLD)、フィールドプログラマブルアレイ(FPGA)、コントローラ、プロセッサ、および他のエレクトロニックデバイスのような様々なハードウェアユニットで実現することが出来る。ハードウェアユニットは、CMOS、N−MOS、P−MOS、バイポーラ−CMOS(Bi−CMOS)、バイポーラ等のような様々なICプロセス技術において製造することが出来る。N−MOS技術は、N−FETしか製造出来ず、またP−MOS技術は、P−FETしか製造出来ないのに対し、CMOS技術は、N−FETとP−FETの両方を同一ICダイ上に製造することが出来る。ハードウェアユニットは、いかなるデバイスサイズ、例えば、130ナノメータ(nm)、90nm、65nm、30nm等であっても製造することが出来る。
    【0059】
    本出願で記述された技術を実現する装置は、スタンドアローンユニットであっても、あるいはデバイスの一部であってもよい。デバイスは、(i)スタンドアローンIC、(ii)データおよび/または命令を蓄積するメモリICを含みうる一つあるいはそれ以上のICのセット、(iii)移動局モデム(MSM)のようなASIC、(iV)他のデバイス内に埋め込まれうるモジュール、(V)携帯電話、無線デバイス、ハンドセット、あるいは移動ユニット、(Vi)等でありうる。
    【0060】
    本開示のこれまでの記述は、本技術分野の当業者が開示された実施形態を作り、あるいは使用することが出来るように提供されている。これらの実施形態に対する様々な修正は、それらの当業者にとっては容易に明白であろう。また、ここで規定されている一般的原理は本開示の精神あるいは範囲から逸脱することなく、他の変形に適用しうる。従って、本開示は、ここに示された例や設計に限定されることを意図せず、本出願に開示された原理および新規な特徴と一致する最も広い範囲に一致させるべきである。

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    【特許請求の範囲】
    【請求項1】
    メモリセルの複数の行と複数の列とを備えるメモリアレイと、メモリセルの前記複数の列に結合された複数のビット線とを具備し、
    前記ビット線は前記メモリアレイに対するスリープモードの間、電源への切断された経路を有してなる集積回路。
    【請求項2】
    前記複数のビット線に対する、複数のプリチャージ回路をさらに具備し、前記プリチャージ回路は前記スリープモードの間、オフとされてなる請求項1記載の集積回路。
    【請求項3】
    前記複数のプリチャージ回路に対するプリチャージ信号を発生するように構成されたコントロール回路をさらに具備し、前記コントロール回路は、フットスイッチを介して回路接地に結合し、前記スリープモードの間、前記プリチャージ信号に対してロジックハイをもたらす請求項2記載の集積回路。
    【請求項4】
    読み出し動作に対し、前記複数のビット線を、複数のセンスアンプに結合する複数のトランジスタをさらに具備し、前記複数のトランジスタは、前記スリープモードの間、オフとされてなる請求項1記載の集積回路。
    【請求項5】
    前記複数のトランジスタに対するコントロール信号を発生するように構成されたコントロール信号発生器をさらに具備し、前記コントロール信号発生器は、フットスイッチを介して回路接地に結合され、前記スリープモードの間、前記コントロール信号に対してロジックハイをもたらす請求項4記載の集積回路。
    【請求項6】
    書き込み動作に対し、前記複数のビット線を駆動する複数のドライバをさらに具備し、前記ドライバは、前記スリープモードの間、オフとされるプルアップトランジスタを有してなる請求項1記載の集積回路。
    【請求項7】
    前記複数のドライバにおける前記プルアップトランジスタに対するコントロール信号を発生するように構成されたコントロールロジックをさらに具備し、前記コントロールロジックは、フットスイッチを介して回路接地に結合され、前記スリープモードの間、前記コントロール信号に対してロジックハイをもたらすようにされてなる請求項6記載の集積回路。
    【請求項8】
    前記電源とメモリアレイとの間に結合された、少なくとも一つのヘッドスイッチをさらに具備し、前記少なくとも一つのヘッドスイッチは、前記スリープモードの間、オンあるいはオフとされてなる請求項1記載の集積回路。
    【請求項9】
    メモリセルの前記複数の行に結合された複数のワード線をさらに具備し、前記ワード線は、前記スリープモードの間、前記複数のビット線から前記メモリセルを切断するように構成されてなる請求項1記載の集積回路。
    【請求項10】
    前記スリープモードの間、前記複数のワード線を予め定められたロジックレベルに設定することにより、前記複数のビット線から前記メモリセルを切断するように構成されたドライバ回路をさらに具備する請求項9記載の集積回路。
    【請求項11】
    前記電源と前記複数のビット線との間に結合された複数のトランジスタをさらに具備し、前記トランジスタは、前記電源から前記ビット線を切断するために、前記スリープモードの間、オフとされてなる請求項1記載の集積回路。
    【請求項12】
    前記複数のトランジスタは、リーク電流を低減するために、前記スリープモードの間に、オフにされる時の長さが、前記メモリセル内のトランジスタよりも長く実現される請求項11記載の集積回路。
    【請求項13】
    機能モードの間、複数のビット線を介して、メモリセルの複数の列からデータを読み出すことと、
    前記機能モードの間、複数のビット線を介して、メモリセルの前記複数の列にデータを書き込むことと、
    スリープモードの間、電源から前記複数のビット線を切断することとを具備する方法。
    【請求項14】
    前記複数のビット線切断は、前記スリープモードの間、前記複数ビット線に対する複数のプリチャージ回路をオフとすることを具備してなる請求項13記載の方法。
    【請求項15】
    前記複数のビット線の前記切断は、前記スリープモードの間、読み出し動作に対して、前記複数のビット線を複数のセンスアンプに結合するために用いられる複数のトランジスタをオフとすることを具備する請求項13記載の方法。
    【請求項16】
    前記複数のビット線の前記切断は、前記スリープモードの間、読み出し動作に対して、前記複数のビット線を駆動するために用いられる複数のドライバ中のプルアップトランジスタをオフとすることを具備する請求項13記載の方法。
    【請求項17】
    前記スリープモードの間、前記複数のビット線からメモリセルの前記複数の列を切断することをさらに具備する請求項13記載の方法。
    【請求項18】
    機能モードの間、複数のビット線を介して、メモリセルの複数の列からデータを読み出す手段と、
    前記機能モードの間、前記複数のビット線を介して、メモリセルの前記複数の列にデータを書き込む手段と、
    スリープモードの間、電源から前記複数のビット線を切断する手段とを具備する装置。
    【請求項19】
    前記複数のビット線を切断する手段は、前記スリープモードの間、前記複数のビット線に対する複数のプリチャージ回路をオフとする手段を備える請求項18記載の装置。
    【請求項20】
    前記複数のビット線を切断する手段は、前記スリープモードの間、書き込み動作に対して、前記複数のビット線を複数のセンスアンプに結合するために用いられる複数のトランジスタをオフにする手段を備える請求項18記載の装置。
    【請求項21】
    前記複数のビット線を切断する手段は、前記スリープモードの間、書き込み動作に対して、前記複数のビット線を駆動するために用いられる複数のドライバ中にあるプルアップトランジスタをオフにする手段を備える請求項18記載の装置。
    【請求項22】
    前記スリープモードの間、前記複数のビット線から、メモリセルの前記複数の列を切断する手段をさらに具備する請求項18記載の装置。
    【請求項23】
    複数のメモリセルを備えるメモリアレイと、
    前記メモリアレイに対して、スリープモードの間、電源あるいは回路接地から前記メモリアレイを切断するように動作しうる、少なくとも一つのスイッチとを具備する集積回路。
    【請求項24】
    前記少なくとも一つのスイッチは、前記スリープモードの間、前記複数のメモリセルにデータを保持するために、前記スリープモードの間、オンにされ、もしデータ保持が選択されない場合は、オフとされる、請求項23記載の集積回路。
    【請求項25】
    前記複数のメモリセルからデータを読み出し、また前記複数のメモリセルにデータを書き込む入力/出力(I/O)回路をさらに具備し、前記I/O回路は、前記スリープモードの間、第一のスリープ信号により、オフとされ、前記少なくとも一つのスイッチは、前記スリープモードの間、第二のスリープ信号により、オンあるいはオフにされる、請求項23記載の集積回路。
    【請求項26】
    前記少なくとも一つのスイッチは、前記スリープモードの間、前記電源から前記メモリアレイを切断するように動作しうる少なくとも一つのヘッドスイッチを備える請求項23記載の集積回路。
    【請求項27】
    前記少なくとも一つのスイッチは、前記スリープモードの間、回路接地から前記メモリアレイを切断するように動作しうる少なくとも一つのフットスイッチを備える請求項23記載の集積回路。


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    METHOD AND APPARATUS FOR REDUCING LEAKAGE CURRENT IN MEMORY ARRAYS

    BACKGROUND
    I. Field
    [0001] The present disclosure relates generally to electronics, and more specifically to techniques for reducing leakage current in memory arrays.

    II. Background
    [0002] Integrated circuit (IC) fabrication technology continually improves and, as a result, the size of transistors continues to shrink. This enables more transistors and more complicated circuits to be fabricated on an IC die or, alternatively, a smaller die to be used for a given circuit. Smaller transistor size also supports faster operating speed and provides other benefits.
    [0003] For complementary metal oxide semiconductor (CMOS) technology, which is widely used for digital circuits and some analog circuits, a major issue with shrinking transistor size is leakage current. Smaller transistor geometry results in higher electric field (E-field), which stresses a transistor and causes oxide breakdown. To decrease the E-field, a lower power supply voltage is often used for smaller geometry transistors. Unfortunately, the lower power supply voltage also increases the delay of the transistors, which is undesirable for high-speed circuits. To reduce the delay and improve operating speed, the threshold voltage (Vt) of the transistors is reduced. The threshold voltage is the voltage at which the transistors turn on. However, the lower threshold voltage and smaller transistor geometry result in higher leakage current, which is the current passing through a transistor when it is turned off.
    [0004] Leakage current is more problematic as CMOS technology scales smaller. This is because leakage current increases at a high rate with respect to the decrease in transistor size. Furthermore, leakage current is a major issue for portable devices such as cellular phones, personal digital assistants (PDAs), laptop computers, etc. Leakage current consumes battery power and reduces standby time for portable devices that use batteries.
    [0005] Reducing leakage current without sacrificing too much performance is a major challenge in CMOS designs, especially as IC technology scales smaller. Leakage current reduction is especially challenging for memory arrays, which are commonly used in many electronics devices. A memory array has many rows and many columns of memory cells to store data and may have many leakage current paths. Each leakage current path should be addressed in order to achieve low leakage current for the memory array.

    SUMMARY
    [0006] Techniques for reducing leakage current in memory arrays are described herein. A memory array comprises multiple rows and multiple columns of memory cells. Bit lines are coupled to the columns of memory cells, and word lines are coupled to the rows of memory cells. The bit lines have disconnected paths to a power supply and float during a sleep mode for the memory array. The bit lines may be floated by turning off all transistors coupled between the power supply and the bit lines.
    [0007] The bit lines may be coupled to (i) precharge circuits used to precharge the bit lines to logic high prior to each read or write operation, (ii) pass transistors used to couple the bit lines to sense amplifiers for read operations, and (iii) pull-up transistors in drivers used to drive the bit lines for write operations. The precharge circuits, pass transistors, and pull-up transistors may all be turned off during the sleep mode. The word lines may be set to a predetermined logic level to disconnect the memory cells from the bit lines during the sleep mode. The memory cells may be disconnected from the power supply via at least one head switch during the sleep mode, e.g., if data retention by the memory cells is not needed.
    [0008] Various aspects and features of the disclosure are described in further detail below.

    BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS
    [0009] FIG. 1 shows a block diagram of a memory device.
    [0010] FIGS. 2 and 3 show schematic diagrams of two designs of a memory array and an input/output (I/O) circuit.
    [0011] FIG. 4 shows a schematic diagram of a word line driver.

    [0012] FIG. 5 shows a process for placing a memory array in a sleep mode.
    [0013] FIG. 6 shows a block diagram of a wireless device.

    DETAILED DESCRIPTION
    [0014] Techniques for reducing leakage current in memory arrays are described herein. The memory arrays may be for random access memory (RAM), static RAM (SRAM), dynamic RAM (DRAM), synchronous DRAM (SDRAM), video RAM (VRAM), synchronous graphic RAM (SGRAM), read only memory (ROM), Flash memory, etc. The memory arrays may be part of stand-alone memory devices or may be embedded within other devices, e.g., processors.
    [0015] FIG. 1 shows a block diagram of a design of a memory device 100 with low leakage current. Memory device 100 includes an address latch 110, an address decoder and word line drivers 120, a memory array 150, a control signal generator 160, and an I/O circuit 170. Memory array 150 is also referred to as a core array.
    [0016] Memory array 150 includes M rows and N columns of memory cells 152, where M and N may each be any value. A memory cell is a circuit that can store a data value and may be implemented with various circuit designs. The M rows of memory cells are selected via M word lines WLl through WLM. The N columns of memory cells are coupled to N differential bit lines BLl and BLIb through BLN and BLNb.
    [0017] Address latch 110 receives an address for a memory cell or a block of memory cells to be accessed and latches the address. Address decoder 120 receives the latched address and may generate a row address based on the received address. Address decoder 120 may then perform pre-decoding on the row address and provide pre-decoded signals that indicate a specific word line to activate or assert. Word line drivers 120 receive the pre-decoded signals and drive a specific word line, as indicated by the pre-decoded signals, so that the desired row of memory cells can be accessed.
    [0018] I/O circuit 170 includes various circuits for reading data from memory cells 152 and writing data to the memory cells. For example, I/O circuit 170 includes a sense amplifier and a data output buffer for each differential bit line to read data from the memory cells coupled to that bit line. I/O circuit 170 further includes a data latch and data input drivers for each differential bit line to write data to the memory cells coupled to that bit line.
    [0019] Control signal generator 160 receives an external clock signal CLK and generates control signals used to control the operation of memory device 100. For example, generator 160 may generate control signals used for read and write operations.

    [0020] Memory device 100 may be fabricated with a deep sub-micron CMOS process. Leakage current for memory device 100 may come from the following sources:
    ? Memory array 150 - include memory cells and bit lines, and
    ? Peripheral circuits - include circuits other than memory array 150, e.g., control signal generator 160, I/O circuit 170, etc.
    [0021] Leakage current via the peripheral circuits may be mitigated in several manners. In one design, the peripheral circuits may be implemented with both (i) low-Vt transistors for sections where high performance is desired and (ii) high- Vt transistors for sections where low leakage current is desired and high performance is not needed. In another design, low- Vt transistors may be used for the peripheral circuits and high- Vt transistors may be used as foot switches to connect or disconnect the peripheral circuits to circuit ground. In a functional/operational mode, the foot switches may be turned on, and the peripheral circuits may operate in the normal manner. In a sleep mode, the foot switches may be turned off, and leakage current through the peripheral circuits may be limited by the leakage current through the foot switches. High- Vt transistors may be used for the foot switches to reduce leakage current via the peripheral circuits.
    [0022] Leakage current via memory array 150 may also be mitigated in several manners. First, the power supply to the memory cells may be disconnected with head switches during the sleep mode, which may reduce leakage current through the memory cells. Second, leakage current through the memory cells via the bit lines may be reduced by floating the bit lines during the sleep mode, as described below.
    [0023] In general, a head switch and/or a foot switch may be used for a given circuit to reduce leakage current. It may be desirable to use head switches for memory array 150 to improve performance. Pull-down strength is an important factor for read/write performance. Adding foot switches in series with pull-down transistors within the memory cells may affect pull-down strength and impact performance. Head switches may be used for the memory array in order to minimize impact to pull-down strength. It may be desirable to use foot switches for peripheral circuits since foot switches may be implemented with less IC die area than head switches. In general, head switches or foot switches or both may be used for memory array 150. Head switches or foot switches or both may also be used for peripheral circuits. For clarity, the following description assumes that head switches are used for memory array 150 and foot switches are used for peripheral circuits.
    [0024] FIG. 2 shows a schematic diagram of a memory array 150a and an I/O circuit 170a, which is one design of memory array 150 and I/O circuit 170, respectively, in FIG. 1. For clarity, only one memory cell 152, one word line WLm, and one differential bit line BLx and BLxb are shown in FIG. 2, where m e {1, ..., M} and x e {1, ..., N} . Also for clarity, read/write circuits for only one bit line is shown in FIG. 2.
    [0025] In the design shown in FIG. 2, a P-channel field effect transistor (P-FET) 210 is used as a head switch for memory cell 152. P-FET 210 has its gate receiving a sleep signal SLPl, its drain coupled to a power supply Vddx, and its source providing a supply voltage Vddc to memory cell 152. The SLPl signal is at logic low when memory device 100 is in the functional mode. In the sleep mode, the SLPl signal may be set to logic low to retain the data stored in memory cell 152 or to logic high to reduce leakage current through memory cell 152. P-FET 210 may thus be turned on during the functional mode and may be turned on or off during the sleep mode depending on whether or not data retention by memory cell 152 is desired. In general, memory array 150a may include any number of head switches, e.g., one head switch for the entire memory array, one head switch for each column of memory cells, one head switch for each row of memory cells, one head switch for each memory cell, one head switch for each group of memory cells, etc. The head switches may be implemented with high- Vt transistors to achieve low leakage current.
    [0026] In the design shown in FIG. 2, for each bit line, I/O circuit 170a includes a precharge circuit 220, a read/write multiplexer (Mux) 230, a write circuit 240, and a read circuit 250. Precharge circuit 220 precharges lines BLx and BLxb to logic high prior to each read and write operation. Multiplexer 230 couples lines BLx and BLxb to write circuit 240 for write operations and to read circuit 250 for read operations. For a write operation, write circuit 240 drives lines BLx and BLxb to write an input data value Din to a selected memory cell 152. For a read operation, read circuit 250 amplifies the voltage difference between lines BLx and BLxb, which are driven by a selected memory cell. Read circuit 250 then detects a logic value (e.g., either low or high) for the amplified voltage and provides the detected logic value.

    [0027] Precharge circuit 220 includes two precharge P-FETs 222a and 222b for lines BLx and BLxb, respectively, and an equalization P-FET 224. P-FETs 222a and 222b have their gates coupled together and to a Precharge signal, their sources coupled to the Vddx power supply, and their drains coupled to lines BLx and BLxb, respectively. P-FET 224 has its gate coupled to the Precharge signal, its source coupled to line BLx, and its drain coupled to line BLxb. One line (either BLx or BLxb) is at logic low and the other line (either BLxb or BLx) is at logic high prior to a precharge operation. P-FET 224 connects lines BLx and BLxb together during the precharge operation and allows both P-FETs 222a and 222b to pull up the line that is at logic low toward logic high.
    [0028] Multiplexer 230 includes N-FETs 232a and 232b and P-FETs 234a and 234b. N-FETs 232a and 232b have their gates coupled together and to a write signal ZW, their drains coupled to lines BLx and BLxb, respectively, and their sources coupled to write circuit 240. P-FETs 234a and 234b have their gates coupled together and to a read signal ZR, their sources coupled to lines BLx and BLxb, respectively, and their drains coupled to read circuit 250.
    [0029] For a write operation, the ZW signal is at logic high for certain duration, and N-FETs 232a and 232b are turned on and couple lines BLx and BLxb to write circuit 240. The ZR signal is at logic high for the entire write operation, and P-FETs 234a and 234b are turned off and isolate read circuit 250 from lines BLx and BLxb. Lines BLx and BLxb are initially precharged to logic high, and either line BLx or BLxb is thereafter pulled to logic low to write to memory cell 152. N-FETs 232a and 232b are better at passing logic low/ zero than P-FETs.
    [0030] For a read operation, the ZR signal is at logic low for certain duration, and P-FETs 234a and 234b are turned on and couple lines BLx and BLxb to read circuit 250. The ZW signal is at logic low for the entire read operation, and N-FETs 232a and 232b are turned off and isolate write circuit 240 from lines BLx and BLxb. Lines BLx and BLxb are initially precharged to the same high voltage and are thereafter pulled apart by the selected memory cell 152. P-FETs 234a and 234b are better at passing high voltage or logic one on either line BLx or BLxb than N-FETs.
    [0031] Write circuit 240 includes drivers 242a and 242b for lines BLx and BLxb, respectively, write driver logic 248, and an N-FET 249 that is used as a foot switch. Each driver 242 includes a P-FET 244 coupled in a stacked configuration with an N-FET 246. N-FET 246a has its source coupled to a virtual ground Vssp, its gate receiving a control signal VnI from logic 248, and its drain coupled to the drain of P-FET 244a. P-FET 244a has its gate receiving a control signal VpI from logic 248 and its source coupled to the Vddx power supply. FETs 244b and 246b are coupled in the same manner as FETs 244a and 244b and receive control signals Vp2 and Vn2, respectively, from logic 248. The drains of FETs 244a and 246a are coupled to line BLx, and the drains of FETs 244b and 246b are coupled to line BLxb. N-FET 249 has its source coupled to circuit ground, its gate receiving an SLP2 signal, and its drain providing virtual ground Vssp. The SLP2 signal is at logic high during the functional mode and at logic low during the sleep mode, which is opposite of the SLPl signal. N-FET 249 may be implemented with a high- Vt transistor to achieve low leakage current. Logic 248 receives the Din data and the SLP2 signal and generates the VpI and VnI signals for FETs 244a and 246a, respectively, and the Vp2 and Vn2 signals for FETs 244b and 246b, respectively.
    [0032] Read circuit 250 includes a precharge circuit 252 and a sense amplifier (Amp) 254. Precharge circuit 252 precharges the inputs of sense amplifier 254 to logic high prior to each read operation. Precharge circuit 252 may be implemented with three P-FETs coupled in the same manner as precharge circuit 220. Sense amplifier 254 senses the voltage difference between lines BLx and BLxb and provides the detected logic value.
    [0033] Control signal generator 160 may be coupled to a foot switch implemented with an N-FET 260. N-FET 260 has its source coupled to circuit ground, its gate receiving the SLP2 signal, and its drain providing virtual ground Vssp for generator 160. Generator 160 may generate various control signals such as the ZW signal for N-FETs 232a and 232b, the ZR signal for P-FETs 234a and 234b, a data input driver clock (WCLK) signal used for write operations, and a sense amplifier enable (SEN) signal used for read operations.
    [0034] Control signal generator 160 may be turned on or off via the foot switch implemented with N-FET 260. During the sleep mode, N-FET 260 may be turned off, the virtual ground Vssp may float between the Vddx power supply and circuit ground, and the control signals from generator 160 may slowly rise toward the Vddx power supply. Consequently, circuits that rely on their control signals being at logic low to turn off may not receive the logic low during the sleep mode. For example, N-FETs 232a and 232b rely on the ZW signal being at logic low to turn off. Since the ZW signal may float between Vddx and circuit ground during the sleep mode, N-FETs 232a and 232b may float during the sleep mode.
    [0035] As shown in FIG. 2, head switches may be used for memory cells 152 in memory array 150. Foot switches may be used for peripheral circuits such as write circuit 240, control signal generator 160, etc.
    [0036] As also shown in FIG. 2, there may be several leakage current paths through memory cell 152 via bit lines BLx and BLxb. A first leakage current path may be from precharge circuit 220 via the bit lines and through memory cell 152. A second leakage current path may be from drivers 242a and 242b via the bit lines and through memory cell 152. A third leakage current path may be from precharge circuit 252 via the bit lines and through memory cell 152. All of these leakage current paths may be disconnected by floating the bit lines during the sleep mode.
    [0037] Table 1 lists actions to perform to float bit lines BLx and BLxb, for the design shown in FIG. 2.

    Table 1



    [0038] During the functional mode, P-FETs 222a, 222b and 224 within precharge circuit 220 are turned on prior to each read or write operation to precharge bit lines BLx and BLxb to logic high. A NAND gate 226 receives a PRE signal and the SLP2 signal and generates the Precharge signal for P-FETs 222a, 222b and 224. The PRE signal is at logic low for each read or write operation and is at logic high at other times. During the functional mode, the SLP2 signal is at logic high, and the Precharge signal is an inverted version of the PRE signal. During the sleep mode, the SLP2 signal is at logic low, the Precharge signal is at logic high, and P-FETs 222a, 222b and 224 are turned off by the logic high on the Precharge signal. Precharge circuit 220 is thus turned off by the Precharge signal during the sleep mode.

    [0039] During the functional mode, P-FETs 234a and 234b within multiplexer 230 may be turned on for read operations and turned off for write operations. During the sleep mode, P-FETs 234a and 234b may be turned off by applying logic high on the ZR signal. Generator 160 may be able to generate logic high on the ZR signal, even when N-FET 260 is turned off in the sleep mode, since the Vddx power supply is available to generator 160. Since N-FETs 234a and 234b can be turned off during the sleep mode, it may not be necessary to turn off precharge circuit 252. Nevertheless, precharge circuit 252 may be turned off during the sleep mode to further reduce leakage current.
    [0040] During the functional mode, N-FETs 232a and 232b within multiplexer 230 may be turned on for write operations and turned off for read operations. P-FETs 244a and 244b within write circuit 240 may be turned on during a precharge phase of a write cycle to pull lines BLx and BLxb to logic high. During a write phase of the write cycle, driver 242a drives line BLx to logic low or high depending on the Din value, and driver 242b drives line BLxb to logic high or low depending on the Din value. During the sleep mode, N-FETs 232a and 232b may float because logic low is not achievable for the ZW signal with N-FET 260 turned off. P-FETs 244a and 244b within write circuit 240 may be turned off during the sleep mode to ensure no leakage current path from drivers 242a and 242b via bit lines BLx and BLxb through memory cell 152. Logic 248 may be able to generate logic high on the VpI and Vp2 signals for P-FETs 244a and 244b, respectively, even when N-FET 249 is turned off in the sleep mode, since the Vddx power supply is available to logic 248.
    [0041] FIG. 3 shows a schematic diagram of a memory array 150b and an I/O circuit 170b, which is another design of memory array 150 and I/O circuit 170, respectively, in FIG. 1. For clarity, only one memory cell 152, one word line WLm, one differential bit line BLx and BLxb, and read/write circuits for one bit line are shown in FIG. 3.
    [0042] In the design shown in FIG. 3, P-FET 210 is used as a head switch for memory cell 152. Memory cell 152 includes a pair of cross-coupled inverters 312a and 312b and a pair of N-FETs 318a and 318b that are used as pass transistors. Each inverter 312 is formed with a P-FET 314 and an N-FET 316. N-FET 316 has is source coupled to circuit ground, its gate coupled to the gate of P-FET 314, and it drain coupled to the drain of P-FET 314. P-FET 314 has its source coupled to the Vddc supply voltage. Inverter 312a has its output coupled to node A and its input coupled to node B. Inverter 312b has its output coupled to node B and its input coupled to node A. N-FET 318a has its drain coupled to node A, its gate coupled to word line WLm, and its source coupled to line BLx. N-FET 318b has its drain coupled to node B, its gate coupled to word line WLm, and its source coupled to line BLxb.
    [0043] Inverters 312a and 312b store a data value via positive feedback. If memory cell 152 stores logic high (' 1 '), node A is at logic high and node B is at logic low. If memory cell 152 stores logic low (O'), node A is at logic low and node B is at logic high. For a memory read, lines BLx and BLxb are initially precharged to logic high by precharge circuit 220, then word line WLm is asserted to logic high, and N-FETs 318a and 318b are turned on. If memory cell 152 stores logic high, then line BLx is charged by inverter 312a via N-FET 318a, and line BLxb is discharged by inverter 312b via N-FET 318b. The converse is true if memory cell 152 stores logic low.
    [0044] For a memory write, lines BLx and BLxb are initially precharged to logic high by precharge circuit 220, then word line WLm is asserted to logic high, and N-FETs 318a and 318b are turned on. To write logic high (T) to memory cell 152, line BLx is driven high and forces node A to logic high via N-FET 318a, and line BLxb is driven low and forces node B to logic low via N-FET 318b. The converse is true when writing logic low to memory cell 152.
    [0045] During the sleep mode, P-FET 210 may be turned off, and the Vddc supply voltage may then drop to an intermediate voltage determined by the leakage current through P-FET 210 and the leakage current through all memory cells coupled to P-FET 210. Inverters 312a and 312b may be isolated from bit lines BLx and BLxb by bringing word line WLm to logic low, which would then turn off N-FETs 318a and 318b.
    [0046] I/O circuit 170b includes precharge circuit 220, multiplexer 230, write circuit 240, and read circuit 250 for each bit line. Write circuit 240 includes drivers 242a and 242b for lines BLx and BLxb, respectively, write driver logic 248, and N-FET 249. Within logic 248, an inverter 340 receives the Din data and provides an inverted Din. A NAND gate 342a receives the output of inverter 340 and the WCLK signal at two inputs and provides a latched Din. A NAND gate 342b receives the Din data and the WCLK signal at two inputs and provides a latched inverted Din. A NAND gate 344a receives the output of NAND gate 342a and the SLP2 signal at two inputs and provides the VpI signal for P-FET 244a. An inverter 346a receives the output of NAND gate 342a and provides the VnI signal for N-FET 246a. A NAND gate 344b receives the output of NAND gate 342b and the SLP2 signal at two inputs and provides the Vp2 signal for P-FET 244b. An inverter 346b receives the output of NAND gate 342b and provides the Vn2 signal for N-FET 246b.
    [0047] During the functional mode, the SLP2 signal is at logic high, NAND gate 342a provides the latched Din, NAND gate 344a turns on P-FET 244a to pull up line BLx if Din is logic high, and inverter 346a turned on N-FET 246a to pull down line BLx if Din is logic low. NAND gate 342b provides the latched inverted Din, NAND gate 344b turns on P-FET 244b to pull up line BLxb if Din is logic low, and inverter 346b turned on N-FET 246b to pull down line BLxb if Din is logic high. During the sleep mode, the SLP2 signal is at logic low, the VpI signal from NAND gate 344a is at logic high, and P-FET 244a is turned off. The Vp2 signal from NAND gate 344b is also at logic high, and P-FET 244b is also turned off. NAND gates 344a and 344b thus turn off P-FETs 244a and 244b during the sleep mode and enable P-FETs 244a and 244b to be turned on or off during the functional mode. N-FETs 246a and 246b, inverters 340, 346a and 346b, and NAND gates 342a, 342b, 344a and 344b are all coupled to virtual ground Vssp from N-FET 249 and thus float during the sleep mode.
    [0048] FIG. 4 shows a schematic diagram of a design of a driver circuit 410 within word line drivers 120 in FIG. 1. Driver circuit 410 drives word line WLm in FIGS. 2 and 3. Within driver circuit 410, a word line driver 412 receives pre-decoded signals and drives word line WLm when selected by the pre-decoded signals. A P-FET 414 implements a head switch for word line driver 412. Word line driver 412 may include multiple stages, foot switches may be used for all stages except for the final/output stage, and a head switch may be used for the final/output stage. An N-FET 416 implements a pull-down transistor and has its source coupled to circuit ground, its gate receiving an SLP2b signal, and its drain coupled to word line WLm. The SLP2b signal is an inverted version of the SLP2 signal. During the functional mode, the SLP2b signal is at logic low, head switch P-FET 414 is turned on, and pull-down N-FET 416 is turned off. During the sleep mode, the SLP2b signal is at logic high, head switch P-FET 414 is turned off, and pull-down N-FET 416 is turned on and pulls word line WLm to logic low.
    [0049] FIGS. 2, 3 and 4 show specific designs of various blocks within memory device 100. In one design, head switches and/or foot switches may be used for memory array 150 to reduce leakage current during the sleep mode. In this design, the memory cells in memory array 150 may be implemented with low- Vt transistors to achieve high performance, and the head switches and/or foot switches may be used to reduce leakage current. In another design, memory array 150 may be coupled directly between the Vddx power supply and circuit ground, without using head switches or foot switches. In this design, the memory cells in memory array 150 may be implemented with high-Vt transistors to reduce leakage current. In both designs, the word lines may be maintained at logic low during sleep mode in order to reduce leakage current through the memory cells during the sleep mode.
    [0050] In one design, precharge circuit 220 may be coupled to the Vddx power supply directly, e.g., as shown in FIGS. 2 and 3. In this design, P-FETs 222a, 222b and 224 within precharge circuit 220 may be turned off during the sleep mode by applying logic high on the Precharge signal. In another design, precharge circuit 220 may be coupled to the Vddx power supply via a head switch, which may be implemented in the same manner as P-FET 210. In this design, the head switch for precharge circuit 220 may be turned off during the sleep mode, and the Precharge signal may be at any logic level.
    [0051] In one design, N-FETs 234a and 234b within multiplexer 230 are turned off during the sleep mode, as described above. In another design, precharge circuit 252 may be turned off during the sleep mode, e.g., in the same manner as precharge circuit 220.
    [0052] The FETs that are turned off during the sleep mode (e.g., P-FETs 222a, 222b and 224 within precharge circuit 220, P-FETs 234a and 234 within multiplexer 230, and P-FETs 244a and 244b within write circuit 240) may be implemented in a manner to reduce leakage current. For example, these FETs may be implemented with high- Vt transistors if fast operating speed is not required. Alternatively or additionally, these FETs may be implemented with longer lengths to reduce leakage current.
    [0053] FIG. 5 shows a design of a process 500 for placing a memory array in a sleep mode. The memory array comprises a plurality of rows and a plurality of columns of memory cells. A plurality of bit lines are coupled to the plurality of columns of memory cells, and a plurality of word lines are coupled to the plurality of rows of memory cells. The bit lines have disconnected paths to a power supply and float during a sleep mode for the memory array. This may be achieved by turning off all transistors coupled between the power supply and the bit lines during the sleep mode.

    [0054] At least one head switch coupled between the power supply and the memory array and/or at least one foot switch coupled between the memory array and circuit ground may be turned off during the sleep mode (block 512). A plurality of precharge circuits for the plurality of bit lines may be turned off during the sleep mode (block 514). A plurality of pass transistors (e.g., P-FETs 234a and 234b) used to couple the plurality of bit lines to a plurality of sense amplifiers for read operations may be turned off during the sleep mode (block 516). Pull-up transistors (e.g., P-FETs 244a and 244b) in a plurality of drivers, which are used to drive the plurality of bit lines for write operations, may also be turned off during the sleep mode (block 518). The word lines may be set to a predetermined logic level (e.g., logic low) to disconnect the memory cells from the plurality of bit lines during the sleep mode (block 520).
    [0055] One or more control circuits or logics (e.g., generator 160, NAND gate 226, and logic 248) may be used to generate control signals for the precharge circuits, the pass transistors for read operations, and the pull-up transistors for write operations. The control circuits or logics may be coupled to circuit ground via one or more foot switches and may provide logic high for the control signals during the sleep mode.
    [0056] The techniques and memory arrays described herein may be used for various applications such as wireless communication, computing, networking, personal electronics, etc. The memory arrays may be implemented in stand-alone memory devices or embedded within processors, digital signal processors (DSPs), reduced instruction set computer (RISC) processors, advanced RISC machine (ARM) processors, graphics processors, graphics processing units (GPUs), controllers, microprocessors, etc. An exemplary use of the memory arrays for a wireless communication device is described below.
    [0057] FIG. 6 shows a block diagram of a wireless device 600 in a wireless communication system. Wireless device 600 may be a cellular phone, a terminal, a handset, a PDA, a wireless modem, etc. The wireless communication system may be a Code Division Multiple Access (CDMA) system, a Global System for Mobile Communications (GSM) system, etc.
    [0058] Wireless device 600 is capable of providing bi-directional communication via a receive path and a transmit path. On the receive path, signals transmitted by base stations are received by an antenna 612 and provided to a receiver (RCVR) 614. Receiver 614 conditions and digitizes the received signal and provides samples to a digital section 620 for further processing. On the transmit path, a transmitter (TMTR) 616 receives data to be transmitted from digital section 620, processes and conditions the data, and generates a modulated signal, which is transmitted via antenna 612 to the base stations.
    [0059] Digital section 620 includes various processing, interface, and memory units such as, for example, a modem processor 622, a video processor 624, a controller/ processor 626, a display processor 628, an ARM/DSP 632, a graphics processor 634, an internal memory 636, and an external bus interface (EBI) 638. Modem processor 622 performs processing for data transmission and reception, e.g., encoding, modulation, demodulation, and decoding. Video processor 624 performs processing on video content (e.g., still images, moving videos, and moving texts) for video applications such as camcorder, video playback, and video conferencing. Controller/processor 626 may direct the operation of various units within digital section 620. Display processor 628 performs processing to facilitate the display of videos, graphics, and texts on a display unit 630. ARM/DSP 632 may perform various types of processing for wireless device 600. Graphics processor 634 performs graphics processing, e.g., for graphics, video games, etc. Internal memory 636 stores data and/or instructions for various units within digital section 620. EBI 638 facilitates transfer of data between digital section 620 (e.g., internal memory 636) and a main memory 640.
    [0060] Each of processors 622 through 634 may include an embedded memory, which may be implemented as described above. Internal memory 636 and main memory 640 may also be implemented as described above. Digital section 620 may be implemented with one or more application specific integrated circuits (ASICs) and/or some other type of ICs.
    [0061] The techniques and memory arrays described herein may be implemented in various hardware units such as a memory IC, an ASIC, a DSP, a digital signal processing device (DSPD), a programmable logic device (PLD), a field programmable gate array (FPGA), a controller, a processor, and other electronic devices. The hardware units may be fabricated in various IC process technologies such as CMOS, N-MOS, P-MOS, bipolar-CMOS (Bi-CMOS), bipolar, etc. CMOS technology can fabricate both N-FETs and P-FETs on the same IC die, whereas N-MOS technology can only fabricate N-FETs and P-MOS technology can only fabricate P-FETs. The hardware units may be fabricated with any device size technology, e.g., 130 nanometer (nm), 90 nm, 65 nm, 30 nm, etc.
    [0062] An apparatus implementing the techniques described herein may be a standalone unit or may be part of a device. The device may be (i) a stand-alone IC, (ii) a set of one or more ICs that may include memory ICs for storing data and/or instructions, (iii) an ASIC such as a mobile station modem (MSM), (iv) a module that may be embedded within other devices, (v) a cellular phone, wireless device, handset, or mobile unit, (vi) etc.
    [0063] The previous description of the disclosure is provided to enable any person skilled in the art to make or use the disclosure. Various modifications to the disclosure will be readily apparent to those skilled in the art, and the generic principles defined herein may be applied to other variations without departing from the spirit or scope of the disclosure. Thus, the disclosure is not intended to be limited to the examples and designs described herein but is to be accorded the widest scope consistent with the principles and novel features disclosed herein.

    ------------------

    WHAT IS CLAIMED IS:
    1. An integrated circuit comprising:
    a memory array comprising a plurality of rows and a plurality of columns of memory cells; and
    a plurality of bit lines coupled to the plurality of columns of memory cells, the bit lines having disconnected paths to a power supply during a sleep mode for the memory array.

    2. The integrated circuit of claim 1, further comprising:
    a plurality of precharge circuits for the plurality of bit lines, the precharge circuits being turned off during the sleep mode.

    3. The integrated circuit of claim 2, further comprising:
    a control circuit configured to generate a precharge signal for the plurality of precharge circuits, the control circuit being coupled to circuit ground via a foot switch and providing logic high for the precharge signal during the sleep mode.

    4. The integrated circuit of claim 1, further comprising:
    a plurality of transistors for coupling the plurality of bit lines to a plurality of sense amplifiers for read operations, the plurality of transistors being turned off during the sleep mode.

    5. The integrated circuit of claim 4, further comprising:
    a control signal generator configured to generate a control signal for the plurality of transistors, the control signal generator being coupled to circuit ground via a foot switch and providing logic high for the control signal during the sleep mode.

    6. The integrated circuit of claim 1, further comprising:
    a plurality of drivers for driving the plurality of bit lines for write operations, the drivers having pull-up transistors that are turned off during the sleep mode.

    7. The integrated circuit of claim 6, further comprising:
    a control logic configured to generate control signals for the pull-up transistors in the plurality of drivers, the control logic being coupled to circuit ground via a foot switch and providing logic high for the control signals during the sleep mode.

    8. The integrated circuit of claim 1, further comprising:
    at least one head switch coupled between the power supply and the memory array, the at least one head switch being turned on or off during the sleep mode.

    9. The integrated circuit of claim 1, further comprising:
    a plurality of word lines coupled to the plurality of rows of memory cells, the word lines configured to disconnect the memory cells from the plurality of bit lines during the sleep mode.

    10. The integrated circuit of claim 9, further comprising:
    a driver circuit configured to set the plurality of word lines at a predetermined logic level during the sleep mode to disconnect the memory cells from the plurality of bit lines.

    11. The integrated circuit of claim 1 , further comprising:
    a plurality of transistors coupled between the power supply and the plurality of bit lines, the transistors being turned off during the sleep mode to disconnect the bit lines from the power supply.

    12. The integrated circuit of claim 11, wherein the plurality of transistors are implemented with longer lengths than transistors in the memory cells to reduce leakage current when turned off during the sleep mode.

    13. A method comprising :
    reading data from a plurality of columns of memory cells via a plurality of bit lines during a functional mode;
    writing data to the plurality of columns of memory cells via the plurality of bit lines during the functional mode; and disconnecting the plurality of bit lines from a power supply during a sleep mode.

    14. The method of claim 13, wherein the disconnecting the plurality of bit lines comprises
    turning off a plurality of precharge circuits for the plurality of bit lines during the sleep mode.

    15. The method of claim 13, wherein the disconnecting the plurality of bit lines comprises
    turning off a plurality of transistors, used to couple the plurality of bit lines to a plurality of sense amplifiers for read operations, during the sleep mode.

    16. The method of claim 13, wherein the disconnecting the plurality of bit lines comprises
    turning off pull-up transistors in a plurality of drivers, used to drive the plurality of bit lines for write operations, during the sleep mode.

    17. The method of claim 13 , further comprising :
    disconnecting the plurality of columns of memory cells from the plurality of bit lines during the sleep mode.

    18. An apparatus comprising:
    means for reading data from a plurality of columns of memory cells via a plurality of bit lines during a functional mode;
    means for writing data to the plurality of columns of memory cells via the plurality of bit lines during the functional mode; and
    means for disconnecting the plurality of bit lines from a power supply during a sleep mode.

    19. The apparatus of claim 18, wherein the means for disconnecting the plurality of bit lines comprises
    means for turning off a plurality of precharge circuits for the plurality of bit lines during the sleep mode.

    20. The apparatus of claim 18, wherein the means for disconnecting the plurality of bit lines comprises
    means for turning off a plurality of transistors, used to couple the plurality of bit lines to a plurality of sense amplifiers for read operations, during the sleep mode.

    21. The apparatus of claim 18, wherein the means for disconnecting the plurality of bit lines comprises
    means for turning off pull-up transistors in a plurality of drivers, used to drive the plurality of bit lines for write operations, during the sleep mode.

    22. The apparatus of claim 18, further comprising:
    means for disconnecting the plurality of columns of memory cells from the plurality of bit lines during the sleep mode.

    23. An integrated circuit comprising:
    a memory array comprising a plurality of memory cells; and
    at least one switch operable to disconnect the memory array from a power supply or circuit ground during a sleep mode for the memory array.

    24. The integrated circuit of claim 23, wherein the at least one switch is turned on during the sleep mode to retain data in the plurality of memory cells during the sleep mode and is turned off if data retention is not selected.

    25. The integrated circuit of claim 23, further comprising:
    an input/output (I/O) circuit for reading data from the plurality of memory cells and for writing data to the plurality of memory cells, the I/O circuit being turned off by a first sleep signal during the sleep mode and the at least one switch being turned on or off by a second sleep signal during the sleep mode.

    26. The integrated circuit of claim 23, wherein the at least one switch comprises at least one head switch operable to disconnect the memory array from the power supply during the sleep mode.

    27. The integrated circuit of claim 23, wherein the at least one switch comprises at least one foot switch operable to disconnect the memory array from circuit ground during the sleep mode.


    【特表2010-528401】
    WO2008/144526
    より引用

    メモリ装置読み出し動作の間にワード線に負電圧を選択的に加えるシステムおよび方法

    続きを読む

    MOSFETフューズ素子を有する集積回路

    【発明の詳細な説明】
    【技術分野】
    【0001】
    発明の分野
    本発明は一般的に集積回路に関し、より特定的には、金属酸化膜半導体(「MOS」)フューズを有するワンタイムプログラマブルロジックメモリセルのプログラミングに関する。
    【背景技術】
    【0002】
    発明の背景
    多くの集積回路(「IC」)は、トランジスタ、抵抗、コンデンサ、およびダイオードのような半導体基板の単一チップ上の数千の相互接続された素子からなる。ICができるだけ早く動作するとともに、できるだけ少ない電力を消費することが一般的に望ましい。半導体ICは、大抵は、CMOSメモリ、アンチフューズメモリ、およびeフューズ(efuse)メモリのような1以上の種類のメモリを含む。
    【0003】
    ワンタイムプログラマブル(「OTP」)メモリ素子は、不揮発性メモリ(「NVM」)を提供するためにICにおいて用いられる。NVM内のデータはICがオフされたときに失われない。NVMは、IC製造者がICにロット番号およびセキュリティデータを保存できるようにするとともに、多くの他のアプリケーションにおいて有用である。1つの種類のNVMは、一般にEフューズ(E-fuse)と呼ばれる。
    【0004】
    Eフューズは、一般にアノードおよびカソードと呼ばれる2つのパッドの間の導電材料(金属、ポリシリコンなど)のストライプ(一般に「リンク」とも呼ばれる)を用いることによって、半導体ICに通常組入れられる。Eフューズへのフューズ電流(IFUSE)の印加はリンクを破壊し、したがってEフューズの抵抗が変化する。これは一般にはEフューズを「プログラムする」と呼ばれる。フューズ状態(すなわち、フューズがプログラムされたかどうか)は、センス電流を用いて読まれることが可能であり、これは電子メモリの分野において一般的である。
    【0005】
    図1は、Eフューズ100の平面図である。Eフューズ100は、アノード104とカソード106との間のフューズリンク102を有する。アノード、フューズリンク、およびカソードは、典型的には、比較的厚いフィールド酸化膜または絶縁酸化膜上に全体的に形成されたポリシリコンまたはシリサイド化されたポリシリコンである。コンタクト(図示せず)は、電気的端子をアノードおよびカソードへ与える。フューズリンクは、比較的小さい断面を有し、その断面は、Eフューズを高抵抗状態に変換するために、プログラミングの間、リンクのジュール加熱をもたらす。「アノード」および「カソード」との用語は、便宜的な議論のために用いられる。Eフューズの端子がアノードまたはカソードのいずれとして機能するかは、プログラミング電流がどのように印加されるかに依存する。
    【0006】
    Eフューズのプログラミングは、物理的なレイアウトによって促進され得る。たとえば、カソード106は、フューズリンク102よりも大きい。それはプログラミングの間フューズリンクにおける局在的なジュール加熱を発生させる。
    【0007】
    プログラミングの間、制御されたレベルの電流が、フューズリンクを特定の期間流れる。プログラミング電流は、電流集中と放熱における違いにより、近接した領域よりもフューズリンクを加熱して、温度勾配を生成する。温度勾配およびキャリアの流束は、エレクトロマイグレーションおよびストレスマイグレーションを起こし、材料(たとえばシリサイド、ドーパントおよびポリシリコン)をフューズリンクから退ける。
    【0008】
    プログラミングは、一般的にはEフューズを元の抵抗からプログラムされた抵抗へと変換する。センス電流を用いたEフューズの信頼性のある読出を可能にするために、プログラムされた抵抗は、元の抵抗よりもかなり高い(典型的には数オーダの強度高い)ことが望ましい。第1の論理状態(たとえば、論理「0」)は、典型的には、プログラムされていない、低抵抗(典型的には約200Ω)フューズ状態に割当てられ、第2の論理状態(たとえば論理「1」)は、プログラムされた、高抵抗(典型的には100,000Ωより大きい)フューズ状態に割当てられる。抵抗の変化は、データビットを生成するためのセンス回路によって検出される(読出される)。
    【発明の概要】
    【発明が解決しようとする課題】
    【0009】
    Eフューズ素子は、その単純さ、低い製造コストおよび従来のCMOS製造技術を用いたCMOS ICへの容易な組込みのために特に有用である。しかしながら、制御されないプログラミング(すなわち、オーバープログラミングまたはアンダープログラミング)または近接した構造への物理的ダメージのような望ましくない問題が起こり得て、隣接するFETにおけるリーク電流をもたらす。他の問題は、ICがより小さな設計形状(ノード間隔)に縮小された場合に起こる。なぜならある設計形状に対するプログラミング条件は、別の設計形状に対して最適でないかもしれず、プログラミング歩留りの望ましくない減少またはプログラミング時間の増加であるかもしれないためである。従来技術の問題を克服するEフューズ技術を提供することが望ましい。
    【課題を解決するための手段】
    【0010】
    発明の概要
    MOSフューズの少なくとも1つのMOSパラメータが少なくとも1つの基準MOSパラメータ値を提供するために特徴付けられる。そして、MOSフューズはフューズ端子にプログラミング信号が印加されることによりプログラムされて、プログラミング電流がフューズリンクを流れる。フューズ抵抗は、第1の論理値と関連付けられる、測定されたフューズ抵抗を与えるために測定される。プログラムされたMOSフューズのMOSパラメータは、測定されたMOSパラメータ値を与えるために測定される。測定されたMOSパラメータ値は、MOSフューズの第2の論理値を決定するために基準MOSパラメータ値と比較されて、その比較に基づいてビット値が出力される。
    【図面の簡単な説明】
    【0011】
    【図1】従来技術のEフューズの平面図である。
    【図2A】実施の形態に従うMOSフューズの平面図である。
    【図2B】切断線A−Aに沿った図2AのMOSフューズの断面図である。
    【図2C】切断線B−Bに沿った図2AのMOSフューズの断面図である。
    【図3】実施の形態に従うMOSフューズのシンボルである。
    【図4】実施の形態に従うMOSフューズの論理状態を検出するためのセンス回路の図である。
    【図5】実施の形態に従うMOSフューズの動作方法のフローチャートである。
    【図6】実施の形態に従うFPGAの平面図である。
    【発明を実施するための形態】
    【0012】
    図の詳細な説明
    図2Aは、実施の形態に従うMOSフューズ200の平面図である。MOSフューズ200は、アノード204とカソード206との間に延びるフューズリンク202を含む。厚い酸化膜上に定義された従来のEフューズと異なり、フューズリンク202は、半導体材料(たとえばシリコン)の活性領域208を横切って延びる。
    【0013】
    特定の実施の形態において、アノード、カソードおよびフューズリンクはシリサイド化されたポリシリコンであり、フューズリンクは半導体材料の活性領域から薄い酸化膜層によって分離される。特定の実施の形態においては、その薄い酸化膜はゲート酸化膜層であり、そのゲート酸化膜層は活性シリコン(たとえばMOSFETのチャネル領域)に形成された薄い酸化膜層である。特定の実施の形態において、薄い酸化膜層は50nm未満の厚みであり、さらなる実施の形態においては、薄い酸化膜層は、10nm未満の厚みのゲート酸化膜層である。いくつかの実施の形態において、アノードおよびカソードの部分もまた活性領域の上にあるとともに、薄い酸化膜層によって半導体材料の活性領域から分離される。ポリシリコンのデポジションとフォトリソグラフィとシリサイド化は、FETのゲート構造を定義するための従来のCMOS製造技術において一般的に用いられ、本発明の実施の形態は標準的なプロセスを用いるCMOS ICに容易に取入れられる。便宜的な議論のため、アノード−リンク−カソード構造は「フューズ素子」と呼ばれ、フューズ素子は、プログラミング前、およびプログラミング後すなわちフューズリンクが実質的に消失したようなとき、の両方において、この特徴を記載するために用いられる。そして「フューズ抵抗」との用語は、フューズ素子(を通る)の抵抗を示すための議論のために用いられる。
    【0014】
    活性領域208は、シリコンウェハのような半導体基板に形成されたウェル210に形成される。ウェルタップ212は、コンタクト214を介してウェル210への電気的接続を与える。ウェルタップは、ウェルが選択された電位にバイアスされることを可能にし、またはウェル電位または電流の検出を可能にする。コンタクト216,218は同様に、フューズリンクをプログラミングするとともにフューズリンクの論理状態を検出するために、アノード204およびカソード206への電気的接続を与える。
    【0015】
    ソース/ドレイン(「S/D」)領域220,222は、また活性領域208に形成される。S/D拡散(図2C、参照符号221,223を参照)は、S/D領域に形成される。S/D領域および拡散はMOS FETの分野においてよく知られている。しかしながら、MOSフューズ200のフューズリンク202は、MOS FETのゲートとかなり異なる働きをする。MOSフューズがMOSFETと同じ方式でバイアスおよび動作され得る間、その場合において、アノードまたはカソード端子はゲート(それらは繋ぎ合わさってもよいしまたはそれらの1つのみがバイアスされてもよい)として動作することができ、フューズリンクはプログラムされようとする。アノードおよびカソード端子は、プログラミングの間フューズリンク202に実質的に直流の電流を流すことができる。従来のMOSFETにおいては、ゲートを流れる直流電流は一般的に望ましくなく、従来のゲートは単一で共通の電位にバイアスされ、そして大抵は単に1つのゲート端子を有する。コンタクト224,226は、S/D領域220,222への電気的接続を与える。
    【0016】
    特定の実施の形態において、アノード204、カソード206、およびフューズリンク202はフォトリソグラフィ技術を用いた、シリコンウェハ上に堆積されたポリシリコン層から定義される。FETのゲート電極および他のポリシリコンフィーチャは、典型的にはまたMOSフューズ200がCMOS ICに取入れられたときのポリシリコン層から定義される。任意選択的には、いくつかが知られているシリサイド形成材料の層が、基板上に堆積されるとともに、露出したシリコン上にシリサイドを形成するように加工される。シリサイドは、アノード、リンクおよびカソードの露出したポリシリコン上に形成されるとともにS/D領域220,222の露出したシリコン上に形成される。
    【0017】
    図2Bは、切断線A−Aに沿った図2AのMOSフューズの断面図である。ウェル210は、シリコン基板230に形成される。ウェルはP型またはN型のいずれでもよく、MOSフューズがどのように動作(バイアス)されるつもりであるかに依存する。活性領域208は、フューズリンク202およびアノードおよびカソードの部分232,234の下に位置する。アノードおよびカソード(図2A、参照符号204,206を参照)の残りの部分は厚い酸化膜236の上に位置し、その厚い酸化膜は、特定の実施の形態においては、CMOS ICの他の部分における浅いトレンチ分離アプリケーションにおいて使用される酸化膜層から形成される。ゲート酸化膜層238は、アノード−リンク−カソード構造のポリシリコン240を活性領域208におけるシリコンから分離する。シリサイド層242は残りのポリシリコン層240の上に示され、シリサイド形成層を堆積するとともに、そのシリサイド形成材料をポリシリコン層の部分と反応させることによって形成される。代替的には、ポリシリコンが全体的にシリサイド化されるとともに、ポリシリコン層が残らなくなるか、またはシリサイド層がポリシリコンを消費することなくポリシリコン上に堆積される。
    【0018】
    コンタクト216,218は、ICにおけるパターン形成された金属層(一般的には「M1層」と呼ばれる)における金属配線(traces)244,246を接続する。金属配線244,246は下方に位置する特徴の明確な図示のために図2Aの平面図には示されていない。酸化膜層248は基板上に堆積されるとともに、この分野で知られているように、コンタクトのためのホールおよび金属配線のための表面を提供するために加工される。同様の技術が、FETとCMOS ICの他の素子とを接続するために用いられる。ICは典型的にはビアと相互接続される、さらなるパターン形成された金属層(図示しないがM2,M3など)を有し、外部のパッドからICのさまざまな内部ノードへの電気的接続を提供する。
    【0019】
    図2Cは、切断線B−Bに沿った図2AのMOSフューズの断面図である。金属配線250,252は、酸化膜層248を通って延びるコンタクト224,226を介してS/D領域220,222と接続される。S/D領域はシリサイド254であり、そのシリサイドは活性領域208のシリコンから形成されるために、フューズリンクのシリサイド242とは異なる参照符号で示されている。フューズリンクと活性領域208との間のポリシリコン240およびゲート酸化膜238がまた示される。S/D拡散221,223は基板230に形成される。ライトリードープトドレイン(「LDD」)のような他のフィーチャは任意選択的に形成される。任意選択的な側壁スペーサ260,262が、従来のCMOSプロセスフローの一部としてシリサイド形成層の堆積に先立ってフューズリンクポリシリコン240の側壁に形成されてもよい。それらは、図示されるようにフューズリンクの側壁(ポリサイドウォール)に残されてもよいし除去されてもよい。
    【0020】
    MOSフューズの他のコンタクトと協働して、S/Dコンタクト224,226およびウェルコンタクト(図2A、参照符号214を参照)は、活性領域208へのアノードまたはカソードリーク電流、ソース−ドレイン接合電流またはドレインからソースへのチャネル電流のような、付加的なMOSフューズ特性の測定を可能にする。MOSフューズはプログラミングの前において、MOSフューズの1以上の選択されたパラメータの初期値を測定することによって、またはウェハの電気的テストから特徴的値を決定することによって特徴付けられるとともに、MOSフューズの測定されたMOSパラメータが、プログラム状態またはプログラムされていない状態のいずれであるかを示しているかを決定するために、MOSフューズの測定されたMOSパラメータが仕様と比較される。
    【0021】
    もし、測定値が本質的に初期値と同じであるならば、その測定値はMOSフューズがプログラムされていないことを示す。もし測定値が初期値と著しく異なるならば、その測定値はMOSフューズがプログラムされたことを示す。もし、フューズリンクが不完全にプログラムされ、またはフューズリンクのプログラムがアノードとカソードとの間のプログラムされた抵抗を低減させる物理的なダメージを起こすならば、そのビットのプログラミングは妥当ではないものとなる。いくつかの場合において、プログラムされたビットに対する抵抗の仕様よりもアノード−カソード抵抗が小さくなるように、不適切にプログラムされたビットは、アノード−カソード抵抗を十分低くする。MOSフューズの付加的な測定値は、ビットのプログラミング状態(すなわち論理値)に関する目安を与える。付加的なMOSフューズ情報は、不適切にプログラムされたフューズを検出するとともに警告するために用いられることができ、または全体のプログラミング歩留りおよびプログラミング信頼性を改善するために論理値の第2の目安(すなわちフューズリンク抵抗を用いたOR演算において)として用いられることができる。たとえば、MOSパラメータは、エンドユーザによって適用される不適切なプログラミング条件を検出して示すために用いられてもよく、または最適化されたプログラミングパラメータを特定するのを助けるために用いられてもよい。
    【0022】
    図3は、実施の形態に従うMOSフューズのシンボル300である。MOSフューズは5つの端子を有する:アノード302、カソード304、ドレイン306、ソース308およびウェルタップ310。いくつかの実施の形態において、S/D領域(図2A、参照符号220,222を参照)は実質的に同じであり、S/D領域の1つがソースまたはドレインとして機能するかどうかは、FETの分野において知られているように、バイアス条件に依存する。フューズリンク312は、アノード302とカソード304との間の低抵抗(典型的には約200Ω未満)の経路を与える。プログラミングの後、アノードとカソードとの間の抵抗はより大きく、いくつかの場合においては少なくとも10,000Ωであることが望ましい。より低いプログラミング後の抵抗を有するビット(フューズリンク)はしばしば「テールビット」と呼ばれ、大抵は用いられず、それらのデータは冗長ビットへとプログラムされる。プログラムされたフューズアレイにおいてテールビットの数を減らすことが一般的に望ましい。ゲート酸化膜の厚みは、好ましくは、適切なプログラミング条件(すなわち制御されたフューズリンクのブロー)が実質的にリークを増加させないように十分に厚いことが好ましい。便宜的な議論のため、MOSフューズ300のS,DおよびB端子は「MOS端子」と呼ばれ、AおよびC端子は、「フューズ端子」と呼ばれる。
    【0023】
    図4は、実施の形態に従うMOSフューズ300の論理状態を検出するためのセンス回路400の図である。プログラミングの間、Read_AおよびRead_Bは無効である。高電圧(典型的には約3から4ボルト)がVfsに印加されるとともに、M1は一般的にプログラミングパルスPgmと呼ばれる選択された期間オンされる。その期間は、特定の実施の形態においては約100から1000マイクロ秒である。Pgmパルスは、プログラミング電流が、Vfsからアノードに流れ、フューズリンクを介してカソードに流れ、そしてM1を介してグランドに流れることを可能にする。センスブロックBはプログラミングの間無効であり、MOSフューズ300のMOS端子S,B,Dは浮遊状態である。
    【0024】
    リード(READ)動作のため、1ステップまたは2ステップのREADが実行される。もしMOSフューズ300が適切に高いアノード−カソード抵抗を有するように確定されていたならば、センスブロックAは従来のEフューズのように、ポリフューズリンク抵抗を測定することによってDout_Aをラッチするために用いられる。Pgmはオフ(OFF)であり、Vfsはグランドに切換わるか、または浮遊状態のままである。Read_A信号はM2をオンし、それはセンス電流IreadがM2を通り、MOSフューズ300のカソード−アノードを通り、そしてM3を通りグランドに流れることを可能にする。もしフューズ抵抗が高い(すなわちフューズリンクがうまくプログラムされた)ならば、ビットがプログラムされていない場合(すなわちフューズ抵抗が低く、プログラムされていない値(初期または製造時のフューズ抵抗とも呼ばれる)にある場合)よりも、プログラムされたビットは(Ireadからの)センスブロックA入力を高くさせる。センスブロックAは、入力値が高フューズ抵抗または低フューズ抵抗のいずれを示すかを検出し、対応するデジタル論理出力値Dout_Aを生成する。
    【0025】
    MOSフューズプログラミング状態(記憶されたデジタル論理値)はCおよびAに対する対応する条件とともにMOS端子S,B,Dを用いて読出される(検出される)ことが可能である。Read_Aが無効であり、Vfsが浮遊状態であり、そしてRead_BはセンスブロックBをアクティブにするようにアサートされる。センスブロックBはフューズ素子から活性シリコンへのリーク電流、ソースからウェルへのリーク、ドレインからウェルへのリーク電流、ソースからドレインへのリーク電流(CとAとは接地される)、ドレインからソースへのチャネルオン電流(CとAとがバイアスされる)のような1または複数のMOSフューズパラメータを測定し、その測定値を記憶された初期値(たとえばプログラムされていない(初期の)MOSフューズの測定値、または特徴的もしくは予期される初期値)と比較する。もしREAD測定値がプログラムされていないMOSフューズの予期される範囲内にあるならば、第1の論理データ値(たとえばデータ「0」)が、生成されるとともにDout_Bでラッチされる。もしMOSフューズがプログラムされた(すなわち、1以上のMOS端子S,B,Dにおいて測定された1以上のMOSフューズパラメータにおいて十分な変化が生じた)ことをREAD測定値が示すならば、第2の論理データ値(たとえばデータ「1」)が、生成されてDout_Bにおいてラッチされる。
    【0026】
    第1または第2のREAD技術はREAD動作において単独で用いられることもできる、あるいは両者は二重のREAD動作において用いられることもできる。換言すれば、第1のREAD技術はフューズ抵抗を検出するために用いられ、第2のREAD技術はMOS端子S,B,Dを用いるMOSフューズのプログラミング状態(記憶されたデジタル論理値)を検出するために用いられる。Dout_Aの値はビットデータコンパレータにおいてDout_Bの値と比較される。特定の実施の形態において、もしMOSフューズ300がプログラムされたことをDout_AまたはDout_Bのいずれかが示すならば、ビットデータコンパレータはプログラムされたビットに対応するデジタル論理値(たとえばデジタル「1」)を生成する。換言すれば、1つのMOSフューズ300は冗長な記憶を有する。
    【0027】
    さらなる実施の形態において、ビットデータコンパレータは、もしDout_AがDout_Bと異なるデジタルデータ値であるならばSense_flag出力を生成する。たとえば、もしMOSフューズプログラミングステップがDout_Aをプログラムされた値に設定するための十分に高いフューズ抵抗を与えることができないが、プログラミングステップがMOSフューズに適用されたことをMOS端子が示すことを検出したならば、Sense_flagは、矛盾するプログラミングステップを示すようにアサートされるだろう。しかしながら、MOSフューズの論理状態はDout_Bおよびビットデータコンパレータによって与えられるOR演算によってなおも正しく示されるであろう。このことはフェールビットの数を減らすとともにまたプログラミング動作の効率を示す。他の実施の形態において、AND演算のような他のロジックゲートまたは機能がビットデータコンパレータにおいて用いられてもよい。
    【0028】
    図5は、実施の形態に従うMOSフューズの動作方法500のフローチャートである。フューズ端子およびMOS端子を有するMOSフューズが準備される(ステップ502)。少なくとも1つのMOSパラメータがプログラミング前に特徴付けられる(ステップ504)。特定の実施の形態において、1以上のMOSフューズのMOSパラメータが測定されて、初期のMOSパラメータ値が将来の比較のために記憶される。MOSパラメータの例は、フューズ素子から活性シリコンへのリーク電流、ソースからウェルへのリーク、ドレインからウェルへのリーク電流、ソースからドレインへのリーク電流、ドレインからソースおよびチャネルオン(ON)電流を含む。フューズ端子を流れるプログラミング信号が印加されることによってMOSフューズがプログラムされる(ステップ506)。一般的に、プログラミング信号は、プログラミングの後に、フューズ端子間の抵抗を著しく増大させるに十分な選択された期間のあいだにフューズ素子に印加される、選択された量の電流であり、典型的には、フューズリンクを溶断することによって、フューズ端子間の抵抗を著しく増大させる。特定の実施の形態において、プログラミング信号は約200Ωの初期(製造時の)抵抗を有するフューズ素子に約0.1ミリ秒から約10ミリ秒の間印加される3から4ボルトの信号である。プログラミングの後、フューズ素子は少なくとも10,000Ωのプログラムされた抵抗を有することが望ましい。
    【0029】
    プログラミングの後、フューズ端子間の抵抗が測定される(ステップ508)とともに、MOSフューズの第1のデジタル論理値(ステップ510)を決定するため、すなわちMOSフューズがプログラムされたことをフューズ抵抗が示すかどうかを決定するために、フューズ端子間の抵抗がフューズ抵抗基準値と比較される。プログラミングの後、MOSフューズの1以上のMOSパラメータが、少なくとも1つの測定されたMOSパラメータ値を与えるために測定され(ステップ512)、その測定値が、MOSフューズの第2のデジタル論理値を決定する(ステップ514)ためにMOSパラメータ基準値と比較される。第1および第2のデジタル論理値は同じ値である(すなわち両者は0または両者は1である)ことが一般的に予期される。しかしながら、いくつかの場合においては、第1のデジタル論理値は第2のデジタル論理値と異なるかもしれない。代替的には、MOSパラメータはフューズ抵抗の前に読出される。
    【0030】
    第1のデジタル論理値は第2のデジタル論理値と比較される(ステップ516)。もし第1のデジタル論理値または第2のデジタル論理値のいずれかがプログラムされた値と一致する(すなわち、もし、MOSフューズがプログラミングパルスを受けたことを、フューズ抵抗またはMOSパラメータのいずれかが示す)ならば、プログラムされたビット値(図4、Dout参照)が出力される(ステップ518)。さらなる実施の形態において、もし第1のデジタル論理値が第2のデジタル論理値と異なるならば、センスフラグが出力される(ステップ520)。そのことはフューズ素子が不適切にプログラムされたかもしれないことを示している。特定の実施の形態において、もし第1の論理値が妥当でないプログラムされた値であり、かつ第2のデジタル論理値が妥当なプログラムされた値であるならば、センスフラグが有効となる。
    【0031】
    図6は、実施の形態に従うフィールドプログラミングゲートアレイ(FPGA)の平面図である。FPGAは、RAMおよびロジックのような複数の機能ブロックにおいてCMOS部を含むとともに、CMOS製造プロセスを用いて製造される。本発明の1以上の実施の形態に従ってプログラムされたMOSフューズが、メモリブロック、論理ブロック、I/Oブロック、クロック回路、トランシーバまたは他の機能ブロックのようなICの複数の機能ブロックのいずれかに取入れられ、あるいは、多くの機能ブロックに、またはFPGA600の物理的なセクションもしくはセグメントに取入れられる。本発明の1以上の実施の形態に従ってプログラムされたMOSフューズは、シリアルナンバー、FPGAの選択された内部機能を無効にするセキュリティビットの記憶、ビットストリーム暗号鍵の記憶のような、再設定不可能なNVメモリのため、または、ユーザ定義ビット記憶のユーザ汎用目的のワンタイムプログラマブルNV装置を提供するために特に好ましい。
    【0032】
    FPGAアーキテクチャはマルチギガビットトランシーバ(MGT601)、設定可能な論理ブロック(CLB602)ランダムアクセスメモリブロック(BRAM603)、入力/出力ブロック(IOB604)、設定およびクロックロジック(CONFIG/CLOCKS605)、デジタルシグナル処理ブロック(DSP606)、特殊入力/出力ブロック(I/O607)(たとえば設定ポートおよびクロックポート)、およびデジタルクロックマネージャ、アナログ/デジタル変換器、システム管理ロジックなどのような他のプログラム可能なロジック608を含む多数の異なるプログラマブルタイルを含む。いくつかのFPGAは、また、専用プロセッサブロック(PROC610)を含む。いくつかのFPGAにおいて、各プログラマブルタイルはプログラマブル相互接続素子(INT611)を含み、これは隣接する各タイルの対応する相互接続素子へのおよび対応する相互接続素子からの標準化された接続を有する。したがって、プログラマブル相互接続素子は、図示されたFPGAのためのプログラマブル相互接続構造を共に実現する。プログラマブル相互接続素子(INT611)はまた、図6の上部において含まれる例によって示されるように、同じタイル内のプログラマブル論理素子へまたはプログラマブル論理素子からの接続を含む。
    【0033】
    たとえば、CLB602は、単一のプログラマブル相互接続素子(INT611)を加えたユーザロジックを構成するようにプログラムされ得る、設定可能な論理素子(CLE612)を含み得る。BRAM603は1以上のプログラマブル相互接続素子に加えて、BRAM論理素子(BRL613)を含み得る。典型的には、タイルに含まれる相互接続素子の数はタイルの高さに依存する。図示された実施の形態においては、BRAMタイルは4つのCLBと同じ高さを有するが、他の数(たとえば5)もまた用いられ得る。DSPタイル606は適切な数のプログラマブル相互接続素子に加えてDSP論理素子(DSPL614)を含み得る。IOB604は、たとえば、プログラマブル相互接続素子(INT611)の1つのインスタンスに加えて入力/出力論理素子(IOL615)の2つのインスタンスを含み得る。当業者にとっては明らかなように、たとえばI/O論理素子615に接続された実際のI/Oパッドは、さまざまな図示された論理ブロックの上に積層された金属を用いて製造され、典型的には、入力/出力論理素子615の領域に限定されない。図示された実施の形態において、(図6において網掛けで示されるように)ダイの中央に近いコラム領域は、設定、クロック、および他の制御論理のために用いられる。
    【0034】
    図6に示されたアーキテクチャを利用するいくつかのFPGAは、FPGAの大部分を構成する規則的なコラム構造を崩す追加論理ブロックを含む。追加論理ブロックは、プログラマブルブロックおよび/または専用のロジックであり得る。たとえば、図6に示されたプロセッサブロックPROC610はCLBおよびBRAMの複数のコラムに及ぶ。
    【0035】
    図6は単に、FPGAアーキテクチャの例を図示することを意図しているに過ぎないことに注意すべきである。コラム中の論理ブロックの数、コラムの相対的な幅、コラムの数および順序、コラムに含まれる論理ブロックの種類、論理ブロックの相対的なサイズ、および図6の上部に含まれる相互接続/ロジックの構成は単に例示的なものである。たとえば、実際のFPGAにおいてはユーザロジックの効率的な構成を促進するために、CLBが現れるところにはどこでも、CLBの1以上の隣接したコラムが典型的に含まれる。
    【0036】
    特定の実施の形態と関連して本発明が記載されてきたが、これらの実施の形態の変形は当業者にとっては明らかであろう。たとえば、MOSフューズの代替的なレイアウトおよび断面が代替的に使用され得るとともに代替的なセンス回路が用いられ得る。したがって、添付のクレームの精神および範囲は以上の記載に制限されるわけではない。

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    【特許請求の範囲】
    【請求項1】
    金属酸化膜半導体(「MOS」)フューズであって、
    半導体基板と、
    前記半導体基板中のウェルと、
    前記ウェル中のウェルタップと、
    前記ウェル中の活性領域と、
    アノード、カソード、および前記アノードと前記カソードとの間に延びるフューズリンクを有するフューズ素子とを備え、少なくとも前記フューズリンクは、前記活性領域の部分の上に形成されるとともに酸化膜層によって前記活性領域から分離され、
    ドレイン領域と、
    ソース領域とをさらに備え、前記フューズリンクは前記ドレイン領域を前記ソース領域から分離する、MOSフューズ。
    【請求項2】
    前記酸化膜層は、50nm未満、好ましくは10nm未満の厚みを有するゲート酸化膜層である、請求項1に記載のMOSフューズ。
    【請求項3】
    前記半導体基板は、シリコン基板であり、前記フューズ素子は、シリコンを含む、請求項1または2に記載のMOSフューズ。
    【請求項4】
    前記フューズ素子は、第1のシリサイドを含み、前記ドレイン領域および前記ソース領域は、第2のシリサイドを含む、請求項1から3のいずれか1項に記載のMOSフューズ。
    【請求項5】
    前記フューズリンクと前記ドレイン領域との間の前記フューズリンクの第1の側面における第1の側壁スペーサと、
    前記フューズリンクと前記ソース領域との間の前記フューズリンクの第2の側面における第2の側壁スペーサとをさらに備える、請求項1から4のいずれか1項に記載のMOSフューズ。
    【請求項6】
    前記MOSフューズは、ゲート酸化膜層を有する電界効果トランジスタを有するフィールドプログラマブルゲートアレイに取入れられ、前記酸化膜層は、前記ゲート酸化膜層である、請求項1から5のいずれか1項に記載のMOSフューズ。
    【請求項7】
    前記ソース領域および前記ドレイン領域の各々は、前記フィールドプログラマブルゲートアレイのソース/ドレイン注入の間に形成される注入領域である、請求項1から6のいずれか1項に記載のMOSフューズ。
    【請求項8】
    MOSフューズの動作方法であって、
    フューズ端子間に延びるフューズリンクと少なくとも1つのMOS端子とを有する、MOSフューズを準備するステップと、
    少なくとも1つの基準MOSパラメータ値を与えるために、前記MOSフューズを特徴付けるステップと、
    前記フューズ端子にプログラミング信号を印加してプログラミング電流が前記フューズリンクに流れることにより、前記MOSフューズをプログラミングするステップと、
    測定されたフューズ抵抗を与えるために、前記MOSフューズのフューズ抵抗を測定するステップと、
    前記測定されたフューズ抵抗に従う第1の論理値を決定するステップと、
    測定されたMOSパラメータ値を与えるために、前記MOSフューズの少なくとも1つのMOSパラメータを測定するステップと、
    前記測定されたMOSパラメータ値を前記基準MOSパラメータ値と比較することによって、前記MOSフューズの第2の論理値を決定するステップと、
    前記第1の論理値を前記第2の論理値と比較するステップと、
    前記第1の論理値と前記第2の論理値との比較に基づいてビット値を出力するステップとを備える、方法。
    【請求項9】
    前記第1の論理値を前記第2の論理値と比較するステップの後に、前記第1の論理値がプログラムされた論理値ではなく、かつ前記第2の論理値が前記プログラムされた論理値である場合に、センスフラグを出力するステップをさらに備える、請求項8に記載の方法。
    【請求項10】
    前記フューズ端子は、アノード端子およびカソード端子を含む、請求項8または9に記載の方法。
    【請求項11】
    前記MOSフューズは、前記フューズ端子間のシリサイド化されたフューズリンクを含み、前記プログラミング信号は、前記シリサイド化されたフューズリンクを溶断するように選択される、請求項8から10のいずれか1項に記載の方法。
    【請求項12】
    前記MOS端子はソース端子と、ドレイン端子と、ウェル端子とを含む、請求項8から11のいずれか1項に記載の方法。
    【請求項13】
    前記MOSパラメータは、フューズ素子から活性シリコンへのリーク電流、ソースからウェルへのリーク電流、ドレインからウェルへのリーク電流、ソースからドレインへのリーク電流、およびドレインからソースへのチャネルオン電流のうちの1つである、請求項8から12のいずれか1項に記載の方法。
    【請求項14】
    前記MOSフューズは、フィールドプログラマブルゲートアレイ(「FPGA」)に取入れられる、請求項8から13のいずれか1項に記載の方法。
    【請求項15】
    前記MOSフューズは、シリアルナンバーのビット、前記FPGAの選択された内部機能を無効にするセキュリティコード、ビットストリーム暗号鍵、または、ユーザが定義した値を記憶するようにプログラムされる、請求項8から14のいずれか1項に記載の方法。

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    INTEGRATED CIRCUIT WITH MOSFET FUSE ELEMENT
    FIELD OF THE INVENTION

    This invention relates generally to integrated circuits, and more particularly to programming a one-time-programmable logic memory cell having a metal-oxide-semiconductor ("MOS") fuse.

    BACKGROUND OF THE INVENTION

    Many integrated circuits ("ICs") are made up of millions of interconnected devices, such as transistors, resistors, capacitors, and diodes, on a single chip of semiconductor substrate. It is generally desirable that ICs operate as fast as possible, and consume as little power as possible. Semiconductor ICs often include one or more types of memory, such as CMOS memory, antifuse memory, and efuse memory. One-time-programmable ("OTP") memory elements are used in ICs to provide non-volatile memory ("NVM"). Data in NVM are not lost when the IC is turned off. NVM allows an IC manufacturer to store lot number and security data on the IC, for example, and is useful in many other applications. One type of NVM is commonly called an E-fuse. E-fuses are usually integrated into semiconductor ICs by using a stripe

    (commonly also called a "link") of conducting material (metal, poly-silicon, etc.) between two pads, generally referred to as anode and cathode. Applying a fuse current (IFUSE) to the E-fuse destroys the link, thus changing the resistance of the E-fuse. This is commonly referred to as "programming" the E-fuse. The fuse state (i.e., whether it has been programmed) can be read using a sense circuit, which is common in the art of electronic memories. Fig. 1 is a plan view of an E-fuse 100. The E-fuse 100 has a fuse link 102 between an anode 104 and a cathode 106. The anode, fuse link, and cathode are typically polysilicon or suicided polysilicon formed entirely on relatively thick field oxide or isolation oxide. Contacts (not shown) provide electrical terminals to the anode and cathode. The fuse link has a relatively small cross section, which results in Joule heating of the link during programming to convert the E-fuse to a high resistance state. The terms "anode" and "cathode" are used for purposes of convenient discussion. Whether a terminal of an E-fuse operates as an anode or a cathode depends upon how the programming current is applied.

    Programming of the E-fuse can be facilitated by the physical layout. For example, the cathode 106 is larger than the fuse link 102, which generates localized Joule heating in the fuse link during programming. During programming, a controlled level of current flows through the fuse link for a specified period. The programming current heats up the fuse link more than the adjacent areas due to current crowding and differences in heat dissipation, creating a temperature gradient. The temperature gradient and the carrier flux causes electro- and stress-migration to take place and drive material (e.g., suicide, dopant, and polysilicon) away from the fuse link. Programming generally converts the E-fuse from an original resistance to a programmed resistance. It is desirable for the programmed resistance to be much higher (typically many orders of magnitude higher) than the original resistance to allow reliable reading of the E-fuse using a sensing circuit. A first logic state (e.g., a logical "0") is typically assigned to an unprogrammed, low-resistance (typically about 200 Ohms) fuse state, and a second logic state (e.g., a logical "1 ") to the programmed, high-resistance (typically greater than 100,000 Ohms) fuse state. The change in resistance is sensed (read) by a sensing circuit to produce a data bit. E-fuse elements are particularly useful due to their simplicity, low manufacturing cost, and easy integration into CMOS ICs using conventional CMOS fabrication techniques. However, undesirable problems such as uncontrolled programming (i.e., overprogramming or underprogramming) or physical damage to adjacent structures can occur, resulting in leakage currents in nearby FETs. Other problems arise when ICs are scaled to smaller design geometries (node spacings) because the programming conditions for one design geometry might not be optimal for another design geometry, undesirably reducing programming yield or increasing programming time. It is desirable to provide E-fuse techniques that overcome the problems of the prior art.

    SUMMARY OF THE INVENTION

    At least one MOS parameter of a MOS fuse is characterized to provide at least one reference MOS parameter value. Then, the MOS fuse is programmed by applying a programming signal to the fuse terminals so that programming current flows through the fuse link. The fuse resistance is measured to provide a measured fuse resistance associated with a first logic value. A MOS parameter of the programmed MOS fuse is measured to provide a measured MOS parameter value. The measured MOS parameter value is compared to the reference MOS parameter value to determine a second logic value of the MOS fuse, and a bit value is output based on the comparison.

    BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

    Fig. 1 is a plan view of a prior art E-fuse.

    Fig. 2A is a plan view of a MOS fuse according to an embodiment Fig. 2B is a cross section of the MOS fuse of Fig. 2A taken along section line A- A.

    Fig. 2C is a cross section of the MOS fuse of Fig. 2A taken along section line B- B.

    FIG. 3 is a symbol of a MOS fuse according to an embodiment. Fig. 4 is a diagram of a sensing circuit for sensing the logic state of a MOS fuse according to an embodiment.

    FIG. 5 is a flow chart of a method of operating a MOS fuse according to an embodiment.

    FIG. 6 is a plan view of an FPGA according to an embodiment.

    DETAILED DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

    Fig. 2A is a plan view of a MOS fuse 200 according to an embodiment. The

    MOS fuse 200 includes a fuse link 202 extending between an anode 204 and a cathode 206. The fuse link 202 extends across an active region 208 of semiconductor material (e.g., silicon), unlike conventional E-fuses that are defined on thick oxide.

    In a particular embodiment, the anode, cathode, and fuse link are suicided polysilicon, and the fuse link is separated from the active region of the semiconductor material by a thin oxide layer, which in a particular embodiment is a gate oxide layer, which is a thin oxide layer formed over active silicon (e.g., a channel region of a MOSFET). In a particular embodiment, the thin oxide layer is less than 50 nm thick, and in a further embodiment is a gate oxide layer not more than 10 nm thick. In some embodiments, portions of the anode and cathode also overlie the active region, and are separated from the active region of semiconductor material by the thin oxide layer. Polysilicon deposition, photolithography, and silicidation are commonly used in conventional CMOS fabrication techniques to define gate structures of FETs, and embodiments of the invention are easily incorporated into CMOS ICs using standard processing. For purposes of convenient discussion, the anode-link-cathode structure will be referred to as a "fuse element", which will be used to describe this feature both before programming and after programming, when the fuse link is likely substantially gone, and the term "fuse resistance" will be used for purposes of discussion to indicate the resistance of (through) the fuse element. The active region 208 is formed in a well 210 formed in a semiconductor substrate, such as a silicon wafer. A well tap 212 provides an electrical connection to the well 210 through contacts 214, which allow the well to be biased at a selected potential or allow detection of well potential or current. Contacts 216, 218 similarly provide electrical connections to the anode 204 and cathode 206 for programming the fuse link and sensing the logic state of the fuse link.

    Source/drain ("S/D") regions 220, 222 are also formed in the active region 208. S/D diffusions (see Fig. 2C, ref. nums. 221 , 223) are formed in the S/D regions. S/D regions and diffusions are well known in the art of MOS FETs; however, the fuse link 202 of the MOS fuse 200 operates very differently than the gate of a MOS FET. While the MOS-fuse can be biased and operated in the same manner as a MOSFET, in which case anode or cathode terminals can act as gate (which may be tied together or only one of them may be biased), the fuse link is intended to be programmed. The anode and cathode terminal allow substantial direct current to flow through the fuse link 202 during programming. In a conventional MOSFET, direct current through the gate is generally undesirable, and conventional gates are biased to a single, common potential, and often have only a single gate terminal. Contacts 224, 226 provide electrical connections to the S/D regions 220, 222. In a particular embodiment, the anode 204, cathode 206, and fuse link 202 are defined from a polysilicon layer deposited on the silicon wafer using photolithographic techniques. Gate electrodes of FETs and other polysilicon features are typically also defined from the polysilicon layer when the MOS fuse 200 is incorporated in a CMOS IC. Optionally, a layer of silicide-form ing material, of which several are known, is deposited on the substrate and processed to form suicide on exposed silicon. Suicide forms on the exposed polysilicon of the anode, link, and cathode, and on the exposed silicon of the S/D regions 220, 222. Fig. 2B is a cross section of the MOS fuse of Fig. 2A taken along section line A- A. The well 210 is formed in a silicon substrate 230. The well can be P-type or N-type, depending on how the MOS fuse is intended to be operated (biased). The active area 208 underlies the fuse link 202 and portions 232, 234 of the anode and cathode. Remaining portions of the anode and cathode (see Fig. 2A, ref. nums. 204, 206 overlie thick oxide 236, which in a particular embodiment is formed from an oxide layer used in a shallow trench isolation application in other portions of a CMOS IC. A gate oxide layer 238 separates the polysilicon 240 of the anode-link-cathode structure from the silicon in the active area 208. A suicide layer 242 is shown above the remaining polysilicon layer 240, and is formed by depositing a silicide-forming layer and reacting the silicide-forming material with a portion of the polysilicon layer. Alternatively, the polysilicon is entirely suicided, and there is no remaining polysilicon layer, or a suicide layer is deposited over polysilicon without consuming polysilicon. Contacts 216, 218 electrically connect metal traces 244, 246 in a patterned metal layer (commonly referred to as the "M1 layer") in an IC. The metal traces 244, 246 are not shown in the plan view of Fig. 2A for clarity of illustration of underlying features. An oxide layer 248 is deposited on the substrate and processed to provide holes for the contacts and a surface for the metal traces, as is known in the art. Similar techniques are used to connect FETs and other devices in a CMOS IC. An IC typically has additional patterned metal layers (M2, M3, etc., not shown) that are interconnected with vias, and provide electrical connections from external pads to various internal nodes of the IC. Fig. 2C is a cross section of the MOS fuse of Fig. 2A taken along section line B- B. Metal traces 250, 252 are connected to the S/D regions 220, 222 through contacts 224, 226 extending through oxide layer 248. The S/D regions have been suicided 254, which is shown using a different reference numeral than suicide 242 in the fuse link because the suicide is formed from silicon in the active region 208. The polysilicon 240 and gate oxide 238 between the fuse link and active region 208 are also shown. S/D diffusions 221 , 223 are formed in the substrate 230. Other features, such as lightly-doped drain ("LDD") are optionally formed. Optional sidewall spacers 260, 262 are formed on the sidewalls of the fuse link polysilicon 240 prior to deposition of the suicide forming layer as part of a conventional CMOS process flow. They may be left on the sidewalls of the fuse link (poly sidewalls) as shown, or removed.

    The S/D contacts 224, 226, and well contact (see Fig. 2A, ref. num. 214) in cooperation with the other contacts of the MOS fuse, allow measurement of additional MOS fuse characteristics, such as anode or cathode current leakage to the active region 208, source-drain junction currents, or drain to source channel current. The MOS fuse is characterized before programming, such as by measuring the initial values of one or more selected parameters of the MOS fuse or by determining characteristic values from wafer electrical test, and the measured MOS parameter(s) of the MOS fuse is compared against the specification to determine whether the measured MOS parameter indicates a programmed or unprogrammed state.

    If the measured value(s) is essentially the same as the initial value(s), it indicates that the MOS fuse was not programmed. If the measured value(s) is significantly different from the initial value(s), it indicates that the MOS fuse was programmed. If the fuse link was incompletely programmed, or if programming of the fuse link caused physical damage that reduced the programmed resistance between the anode and cathode, the programming of that bit is invalid. In some cases, an improperly programmed bit might have an anode-cathode resistance sufficiently low that it falls below the resistance specification for a programmed bit. The additional measured values of the MOS fuse provide an indication as to the programming status (i.e., logic value) of the bit. The additional MOS fuse information can be used to detect and alarm an improperly programmed fuse, or can be used as a secondary indication of logic value (i.e., in an OR operation with fuse link resistance) to improve overall programming yield and programming reliability. For example, a MOS parameter(s) may be used to detect and indicate an improper programming condition applied by en end user, or to help identify optimized programming parameters. FIG. 3 is a symbol 300 of a MOS fuse according to an embodiment. The MOS fuse has five terminals: an anode 302, a cathode 304, a drain 306, a source 308 and a well tap 310. In some embodiments, the S/D regions (see Fig. 2A, ref.

    nums. 220, 222) are substantially the same, and whether one of the S/D regions operates as a source or as a drain depends upon bias conditions, as is known in the art of FETs. The fuse link 312 provides a low resistance (typically not more than about 200 Ohms) path between the anode 302 and cathode 304. After programming, it is desirable that the resistance between the anode and cathode is much greater, in some cases at least 10,000 Ohms. Bits (fuse links) with lower after-programming resistance are often referred to as "tail bits," and are often not used, their data being programmed into redundant bits. It is generally desirable to reduce the number of tail bits in a programmed fuse array. Gate oxide thickness is preferably thick enough so that proper programming conditions (i.e., controlled fuse link blowing) does not substantially increase leakage. For purposes of convenient discussion, the S, D, and B terminals of the MOS fuse 300 will be referred to as "MOS terminals" and the A and C terminals will be referred to as "fuse terminals". Fig. 4 is a diagram of a sensing circuit 400 for sensing the logic state of a MOS fuse 300 according to an embodiment. During programming, Read_A and Read_B are disabled. A high voltage (typically about 3 to 4 Volts) is applied to Vfs and M1 is turned on for a selected period commonly called a programming pulse Pgm, which in a particular embodiment is about 100 to 1000 micro seconds. The Pgm pulse allows programming current to flow from Vfs to the anode, through the fuse link, to the cathode, and through M1 to ground. Sense Block B is disabled during programming, and the MOS terminals S, B, D of the MOS fuse 300 are floating. For a READ operation, either a one-step or two-step READ is performed. If the MOS fuse 300 has been verified to have suitably high anode-cathode resistance, the Sense Block A is used to latch Dout_A by measuring the poly fuse link resistance, as in a conventional E-fuse. Pgm is OFF and Vfs is switched to ground or left floating. A Read A signal turns on M2, which allows sensing current lread to flow through M2, through the cathode-anode of the MOS fuse 300, and through M3 to ground. If the fuse resistance is high (i.e., the fuse link has been successfully programmed), the programmed bit causes the Sense Block A input (from lread) to be higher than if the bit was unprogrammed (i.e., if the fuse resistance was in a low, unprogrammed value (also referred to as pristine or as-fabricated fuse resistance). The Sense Block A detects whether the input value indicates high or low fuse resistance, and produces the corresponding digital logic output value Dout_A.

    The MOS fuse programming state (stored digital logic value) can also be read (sensed) using the MOS terminals S, B, D along with corresponding bias condition for C and A. Read_A is disabled, and Vfs is floated, and Read_B is asserted to activate Sense Block B. Sense Block B measures one or several MOS fuse parameters, such as fuse element-to-active silicon leakage current, source-to-well leakage, drain-to-well leakage current, source-to-drain leakage current (with C and A grounded), drain-to source channel on-current (with C and A biased), and compares the measured value(s) with stored initial values (e.g., measured values of the unprogrammed (pristine) MOS fuse or characteristic or expected pristine values). If the READ measured value(s) is within the expected range for the unprogrammed MOS fuse, a first logical data value (e.g., a data "0") is generated and latched at Dout_B. If the READ measured value indicates that the MOS fuse has been programmed (i.e., a sufficient change in one or more MOS fuse parameters measured at the one or more MOS terminals S, B, D has occurred), a second logical data value (e.g., a data "1 ") is generated and latched at Dout_B. The first or second READ techniques can be used alone in a READ operation, or both can be used in a dual-READ operation. In other words, the first READ technique is used to sense the fuse resistance, and a second READ technique is used to sense the programming state (stored digital logic value) of the MOS fuse using the MOS terminals S, B, D. The Dout_A value is compared to the Dout_ B value at a Bit Data Comparator. In a particular embodiment, if either Dout_A or Dout B indicates that the MOS fuse 300 has been programmed, the Bit Data Comparator generates a digital logic value (e.g., digital "1 ") corresponding to a programmed bit. In other words, the single MOS fuse 300 has redundant storage. In a further embodiment, the Bit Data Comparator generates a Sense_flag output if Dout_A is a different digital data value than Dout_B. For example, if a MOS fuse programming step fails to provide a sufficiently high fuse resistance to set Dout_A to a programmed value, but sensing the MOS terminals indicates that a programming step had been applied to the MOS fuse, then the Sense_flag would be asserted to indicate a discrepant programming step; however, the logic state of the MOS fuse would still be correctly indicated by Dout_B and the OR operation provided by the Bit Data Comparator. This reduces the number of fail bits, and also provides an indication of the efficiency of the programming operation. In other embodiments, other logic gates or functions, such as an AND operation, may be used in the Bit Data Comparator.

    FIG. 5 is a flow chart of a method 500 of operating a MOS fuse according to an embodiment. A MOS fuse having fuse terminals and MOS terminals is provided (step 502). At least one MOS parameter is characterized before programming (step 504). In a particular embodiment, one or more MOS parameters of the MOS fuse are measured, and the initial MOS parameter values are stored for future comparison. Examples of MOS parameters include fuse element-to-active silicon leakage current, source-to-well leakage, drain-to-well leakage current, source-to-drain leakage current, drain-to-source, and channel ON current. The MOS fuse is programmed (step 506) by applying a programming signal through the fuse terminals. Generally, the programming signal is a selected amount of current applied through the fuse element for a selected period of time sufficient to significantly increase the resistance between the fuse terminals after programming, typically by fusing the fuse link. In a particular embodiment, the programming signal is a three to four volt signal applied for about 0.1 msec to about 10 ms to a fuse element having an initial (as-fabricated) resistance of about 200 Ohms. After programming, the fuse element is desired to have a programmed resistance of at least 10,000 Ohms.

    After programming, the resistance between the fuse terminals is measured (step 508) and compared against a fuse resistance reference value to determine a first digital logic value (step 510) of the MOS fuse, i.e., to determine whether the fuse resistance indicates that the MOS fuse has been programmed. After programming, one or more MOS parameters of the MOS fuse are measured to provide at least one measured MOS parameter value (step 512), and the measured value(s) is compared against the MOS parameter reference value(s) to determine a second digital logic value (step 514) of the MOS fuse. It is generally expected that the first and second digital logic values are the same value (i.e., both are 0 or both are 1 ); however, in some cases the first digital logic value might be different than the second digital logic value. Alternatively, the MOS parameter(s) is read before the fuse resistance.

    The first digital logic value is compared to the second digital logic value (step 516). If either the first digital logic value or the second digital logic value is consistent with a programmed value (i.e., if either the fuse resistance or MOS parameter(s) indicate that the MOS fuse was subjected to a programming pulse), a programmed bit value (see Fig. 4, Dout) is output (step 518). In a further embodiment, if the first digital logic value is different than the second digital logic value, a sense flag is output (step 520), indicating that the fuse element might have been improperly programmed. In a particular embodiment, the sense flag is enabled if the first digital logic value is an invalid programmed value and the second digital logic value is a valid programmed value.

    FIG. 6 is a plan view of a field programmable gate array (FPGA) according to an embodiment. The FPGA includes CMOS portions in several of the functional blocks, such as in RAM and logic, and is fabricated using a CMOS fabrication process. MOS fuses programmed according to one or more embodiments of the invention are incorporated in any of several functional blocks of the IC, such as a memory block, logic block, I/O block, clock circuit, transceiver, or other functional block; within many functional blocks; or within a physical section or segment of the FPGA 600. MOS fuses programmed according to one or more embodiments of the invention are particularly desirable for non-reconfigurable, NV memory applications, such as serial numbers, storing security bits that disable selected internal functions of the FPGA, bit-stream encryption key storage, or to provide a user general-purpose one-time programmable NV user-defined bit storage. The FPGA architecture includes a large number of different programmable tiles including multi-gigabit transceivers (MGTs 601 ), configurable logic blocks (CLBs 602), random access memory blocks (BRAMs 603), input/output blocks (lOBs 604), configuration and clocking logic (CONFIG/CLOCKS 605), digital signal processing blocks (DSPs 606), specialized input/output blocks (I/O 607) (e.g., configuration ports and clock ports), and other programmable logic 608 such as digital clock managers, analog-to-digital converters, system monitoring logic, and so forth. Some FPGAs also include dedicated processor blocks (PROC 610). In some FPGAs, each programmable tile includes a programmable interconnect element (INT 61 1 ) having standardized connections to and from a corresponding interconnect element in each adjacent tile. Therefore, the programmable interconnect elements taken together implement the programmable interconnect structure for the illustrated FPGA. The programmable interconnect element (INT 61 1 ) also includes the connections to and from the programmable logic element within the same tile, as shown by the examples included at the top of Fig. 6. For example, a CLB 602 can include a configurable logic element (CLE 612) that can be programmed to implement user logic plus a single programmable interconnect element (INT 61 1 ). A BRAM 603 can include a BRAM logic element (BRL 613) in addition to one or more programmable interconnect elements. Typically, the number of interconnect elements included in a tile depends on the height of the tile. In the pictured embodiment, a BRAM tile has the same height as four CLBs, but other numbers (e.g., five) can also be used. A DSP tile 606 can include a DSP logic element (DSPL 614) in addition to an appropriate number of programmable interconnect elements. An IOB 604 can include, for example, two instances of an input/output logic element (IOL 615) in addition to one instance of the programmable interconnect element (INT 61 1 ). As will be clear to those of skill in the art, the actual I/O pads connected, for example, to the I/O logic element 615 are manufactured using metal layered above the various illustrated logic blocks, and typically are not confined to the area of the input/output logic element 615. In the pictured embodiment, a columnar area near the center of the die (shown shaded in Fig. 6) is used for configuration, clock, and other control logic.

    Some FPGAs utilizing the architecture illustrated in Fig. 6 include additional logic blocks that disrupt the regular columnar structure making up a large part of the FPGA. The additional logic blocks can be programmable blocks and/or dedicated logic. For example, the processor block PROC 610 shown in Fig. 6 spans several columns of CLBs and BRAMs.

    Note that Fig. 6 is intended to illustrate only an exemplary FPGA architecture. The numbers of logic blocks in a column, the relative widths of the columns, the number and order of columns, the types of logic blocks included in the columns, the relative sizes of the logic blocks, and the interconnect/logic implementations included at the top of Fig. 6 are purely exemplary. For example, in an actual

    FPGA more than one adjacent column of CLBs is typically included wherever the CLBs appear, to facilitate the efficient implementation of user logic. While the present invention has been described in connection with specific embodiments, variations of these embodiments will be obvious to those of ordinary skill in the art. For example, alternative layouts and cross-sections of MOS fuses could be alternatively used, and alternative sensing circuitry can be used. Therefore, the spirit and scope of the appended claims should not be limited to the foregoing description.

    --------------

    1 . A metal-oxide-semiconductor ("MOS") fuse comprising: a semiconductor substrate; a well in the semiconductor substrate; a well tap in the well; an active region in the well; a fuse element having an anode, a cathode, and a fuse link extending between the anode and the cathode, at least the fuse link being formed over a portion of the active region and being separated from the active region by an oxide layer; a drain region; and a source region, the fuse link separating the drain region from the source region.

    2. The MOS fuse of claim 1 wherein the oxide layer is a gate oxide layer having a thickness less than 50nm, preferably not greater than 10nm.

    3. The MOS fuse of claim 1 or 2 wherein the semiconductor substrate is a silicon substrate and the fuse element comprises silicon.

    4. The MOS fuse of any one of claims 1 -3 wherein the fuse element includes first suicide and the drain region and the source region include second suicide.

    5. The MOS fuse of any one of claims 1 -4 further comprising a first sidewall spacer on a first side of the fuse link between the fuse link and the drain region; and a second sidewall spacer on a second side of the fuse link between the fuse link and the source region.

    6. The MOS fuse of any one of claims 1 -5 wherein the MOS fuse is incorporated into a field programmable gate array having a field-effect transistor with a gate oxide layer, and wherein the oxide layer is the gate oxide layer.

    7. The MOS fuse of any one of claims 1 -6 wherein the source region and the drain region each are implanted regions formed during a source/drain implantation of the field programmable gate array.

    8. A method of operating a MOS fuse comprising: providing a MOS fuse having a fuse link extending between fuse terminals and at least one MOS terminal; characterizing the MOS fuse to provide at least one reference MOS parameter value; programming the MOS fuse by applying a programming signal to the fuse terminals so that programming current flows through the fuse link; measuring a fuse resistance of the MOS fuse to provide a measured fuse resistance; determining a first logic value according to the measured fuse resistance; measuring at least one MOS parameter of the MOS fuse to provide a measured MOS parameter value; determining a second logic value of the MOS fuse by comparing the measured MOS parameter value to the reference MOS parameter value; comparing the first logic value to the second logic value; and outputting a bit value based on the comparing the first logic value to the second logic value.

    9. The method of claim 8 further comprising a step, after the step of comparing the first logic value to the second logic value, if the first logic value is not a programmed logic value and the second logic value is the programmed logic value, outputting a sense flag.

    10. The method of claim 8 or 9 wherein the fuse terminals comprise an anode terminal and a cathode terminal.

    1 1 . The method of any one of claims 8-10 wherein the MOS fuse comprises a suicided fuse link between the fuse terminals and the programming signal is selected to fuse the suicided fuse link.

    12. The method of any one of claims 8-1 1 wherein the MOS terminals comprise a source terminal, a drain terminal, and a well terminal.

    13. The method of any one of claims 8-12 wherein the MOS parameter is one of a fuse element-to- active silicon leakage current, a source-to-well leakage current, a drain-to-well leakage current, a source-to-drain leakage current, and a drain-to-source channel ON current.

    14. The method of any one of claims 8-13 wherein the MOS fuse is incorporated in a field programmable gate array ("FPGA").

    15. The method of any one of claims 8-14 wherein the MOS fuse is programmed to store a bit of a serial number, a security code disabling a selected internal function of the FPGA, a bit-stream encryption key, or user-defined value.


    【特表2011-515836】
    WO2009/111187
    より引用

    PLL(PHASELOCKEDLOOP)回路内のチャージポンプリークに起因した制御電圧リプルを最小化する技術

    【発明の詳細な説明】
    【米国連邦法規集35編第119条による利益の主張】
    【0001】
    本明細書は、2008年11月12日に提出され、本願の譲受人に譲渡され、且つ参照によりその開示が明示的に組み込まれる、“TECHNIQUES FOR MINIMIZING CONTROL VOLTAGE RIPPLE AND NOISE DUE TO CHARGE PUMP LEAKAGE IN PHASE LOCKED LOOP CIRCUITS”と表題されたUS仮特許出願番号61/114,041に対する優先権を主張する。
    【特許同時係属出願の参照】
    【0002】
    特許出願された本明細書は、本願の譲受人によって譲渡され、且つ以下参照によって明示的に組み込まれ、代理人整理番号08S1050U2を有し、本願と共に同時出願され、“TECHNIQUES FOR MINIMIZING CONTROL VOLTAGE RIPPLE AND NOISE DUE TO CHARGE PUMP LEAKAGE IN PHASE LOCKED LOOP CIRCUITS”と表題された同時係属の米国特許出願に関連する。
    【技術分野】
    【0003】
    本開示は、一般的に電気回路分野に関し、より具体的には位相ロックループ回路に関する。
    【背景技術】
    【0004】
    図1は、チャージポンプに搭載される典型的な位相ロックループ(PLL)回路の概念図を示す。典型的なPLL回路100は、REF_CLKと記載されたリファレンスクロック信号とN分周の周波数分周器124からの分周された出力クロックとの間の位相比較を介して、位相エラーを検知する位相周波数検知器(PFD)104から成る。PFD104は、チャージポンプ106を駆動するUP、DOWN信号を生成し、出力する。チャージポンプ106は、検知した位相エラーに比例する電荷をループフィルタ116に供給する。ループフィルタ116は、電圧(または電流)制御発振器(VCO)122への供給とされる制御電圧Vctrl(または電流)を生成する。VCO122はVCO_CLKと記載されたVCO出力信号を生成する。その周波数は、制御電圧Vctrlに比例する。PDF104はリファレンスクロック信号REF_CLKによってクロック(clocked)されているということに留意すべきである。つまり、リファレンス周波数の間隔で位相比較が行われる。
    【0005】
    リファレンスクロック信号REF_CLKとは、外部のリファレンス発振器(図示せぬ)からのクロック信号の関数であり、外部リファレンス発振器の分数(fraction)となり得る。その分数は、外部リファレンス発振器とPFD104との間の経路に配置された周波数分周器(図示せぬ)によって得られる。
    【0006】
    ロック条件で、UP、及びDOWNパルスは実質的には同じデュレーションを有し、ループフィルタ116に正味の電荷が供給されない。それ故、制御電圧Vctrl(または電流)は、VCO出力信号VCO_CLKが一定周波数であることを保証する理想的には一定の値とされる。ループフィルタ116は、通常、VCO122の出力周波数を整える、フィルタを通過した制御電圧を生成するため電荷を蓄積する。
    【0007】
    ループフィルタ116はチャージポンプ106の出力と並列に、直列に組み合わせられた抵抗(RFILT)118とキャパシタ(CFILT)120を備えた第1次ループフィルタ装置を含むよう示される。ループフィルタ116は、単なる例示であり、他の構成を含み得る。例えば、通例であると、付加的なポールキャパシタ(図示せぬ)がチャージポンプ106の出力と並列に配置される。その付加的なポールキャパシタは、キャパシタ120の値の1/10となり得る。付加的なポールキャパシタは、PLL100のセッティング時間またはループ安定度に影響を与えないが、VCO122の出力信号における参照不要波(reference spur)の混入を改善する。
    【0008】
    チャージポンプ106は、電流源108及び114並びにスイッチ110及び112を含む。スイッチ110が閉じると、UPパルスをループフィルタ116に渡す。スイッチ112が閉じると、DOWNパルスをループフィルタ116に渡す。PFD104の出力は、VCO122の入力に供給する制御電圧Vctrl(または電流)を増減させるため、チャージポンプ106を制御する。
    【0009】
    図2は、図1のPLL回路100に関するリファレンスクロック信号REF_CLK、VCO出力信号VCO_CLK、UP、及びDOWNパルス、及び制御電圧Vctrl“リプル”に関する1組の波形200を示す。制御電圧Vctrlの波形は、オフ状態におけるチャージポンプでのリークによる電圧低下を示す。電圧低下は、UPまたはDOWNパルスの立ち下がり遷移した後に開始され、次のREF_CLKの立ち上がりエッジが始まるまで又はUPパルスの立ち上がり遷移し始まるまで低下し続ける制御電圧Vctrlのスロープ(減少)した波形に相当する。制御電圧Vctrlの波形はループフィルタ116のノードVctrlで測定される。電圧低下を補完するため、UPパルスは、拡長し、リークによる電荷損失を補完する。UPパルスの拡長された部分は、波形内の斜線に示す。したがって、制御電圧Vctrlは、DOWNパルスが立ち上がり遷移するまで徐々に増加する。DOWNパルスの期間中では、制御電圧Vctrlは一定のレベルで実質的に維持される。VCOの出力信号VCO_CLKの波形は、制御電圧Vctrl上の電圧低下または電圧リプルに起因するVCO122の出力周波数(VCO出力信号)の変調を表している。ロック条件の期間では、制御電圧Vctrlは、理想的に一定値、またはDC電圧とされる。このDC成分または平均値からのあらゆる周期的な偏差を、リプルと呼ぶ。
    【0010】
    現在のナノメータプロセスでは、“オフ”状態でのトランジスタのリーク電流が相当重要となり得る。PLL回路100内のチャージポンプ106は、UPまたはDOWNパルスがデュレーションとされる間、オン状態とされ、それ以外はオフ状態とされる電流源に基づくトランジスタを使用することによって広く実装される。しかし、オフ状態におけるこれらトランジスタのリーク電流は、ループフィルタ116上に蓄積される電荷を著しく変化させ得る。PLL回路100は、リークによるこの電荷の損失を補完することによってロック条件が維持されることを保証する必要がある。補完は、各々の位相比較が開始される時に更なる電荷と同等であって反対の量(equal and opposite amount)が注入されることによって達成される。リーク電流の電荷損失及び電荷の補完は、電圧制御発振器(VCO)に供給する制御電圧Vctrl上の電圧“リプル”を発生させ、タイムドメイン内の決定的なジッタ(jitter)又はVCO122におけるVCO出力信号VCO_CLK上の周波数ドメイン内の参照不要波として現れる。両者の影響は、目的とするアプリケーションに依存して好ましいものとはならないだろう。その悪影響は、同調レンジ(例えば、制限された制御電圧または電流レンジから周波数の広角レンジを生成すること)を最大とするための典型的な高電圧又は電流ゲインVCO設計を使用する低電圧設計において更に悪化される。
    【0011】
    リーク電流を減少させる1つの対策として、厚い酸化膜を有したトランジスタをチャージポンプに使用する。しかし、厚い酸化膜を有したトランジスタを使用するといった選択肢は、特定の集積回路プロセス技術において、利用可能とはされ得ず、または値の張った更なるマスクプロセス工程を必要とし得る。別の対策に、大容量のループキャパシタンスは、集積回路面積及びコスト上の不利益といった結果を招くあるリーク電流に関する電圧変化を最小とするよう使用される。
    【0012】
    それ故、オンチップの高価な厚い酸化膜を有したトランジスタまたは大容量のループキャパシタを用いずにチャージポンプのリーク電流を和らげる必要性がある。
    【0013】
    集積回路のコスト及び面積的な不利を最小とする位相ロックループにおいて、チャージポンプのリークの影響を低減する回路も必要とされる。
    【発明の概要】
    【0014】
    位相ロックループ回路を含む装置において、チャージポンプのリーク電流の影響を緩和するループフィルタのサンプリング間隔を適切に制御する技術を提供する。一態様において、装置は、電圧制御発振器(VCO)、位相比較動作を提供する位相周波数検知器(PFD)、好ましい動作周波数にVCOを固定(lock)するための制御電圧を提供するよう構成されたループフィルタ、及び少なくともUPパルスまたはDOWNパルスのうちいずれか1つに反応してループフィルタに出力信号を供給するよう構成されたチャージポンプを含む。その装置は、更にループフィルタの入力とチャージポンプの出力とが結合され、サンプリング間隔によって特徴付けられたサンプリングスイッチを含む。サンプリングスイッチ制御部は、位相比較動作に先だちサンプリングスイッチを閉じることで、そして位相比較動作が完了した際、サンプリングスイッチを開くことで、チャージポンプからのリーク電流の影響を低減するためサンプリング間隔の幅を適切に制御するよう構成されている。
    【0015】
    開示されたさまざまな他の態様及び実施例は、更に以下詳細で説明する。
    【0016】
    本サマリは、本開示の最大の限度及び範囲の代表例としては意図せず、また解釈すべきではない。これらのそして更なる付加的な態様は、特に添付した図面とともに用いてひとまとめにして考えた時、詳細な説明から直ちにより明白となるだろう。
    【図面の簡単な説明】
    【0017】
    【図1】図1は、チャージポンプを備える典型的な位相ロックループ(PLL)回路の一例としての概念図を示す。
    【図2】図2は、図1のPLL回路に関するリファレンスクロック、VCO出力信号、UP、及びDOWNパルス、及び制御電圧“リプル”に関する一組の波形例を示す。
    【図3】図3は、チャージポンプのリークの影響を低減するためループフィルタのサンプリング間隔を適切に制御するチャージポンプ位相ロックループ(PLL)回路を有する装置の一例としての概念図を示す。
    【図4】図4は、ループフィルタのためにサンプリング間隔を適切に制御する一工程例のフローチャートを示す。
    【図5】図5は、図3の装置に従ったリファレンスクロック、アドバンスリファレンスクロック、UP、及びDOWNパルス、スイッチ制御信号PHI1、PHI2、チャージポンプ出力電圧Vp、及びVCO制御電圧Vctrlに関する一組の波形を示す。
    【0018】
    理解を分かりやすくするため、素子を区別するため、適切に添え字が加えられうる場合を除いて、同一の参照符号が使用され、その場合、図面で共通とされる同一の素子を示し得る。図面内に描かれたイメージは、趣旨を例示するために簡素化され、スケールを示す必要性はない。
    【0019】
    添付した図面は、本開示の構成例を例示し、それ自体、均等に効果のある他の構成までに、許容しうる開示の範囲を限定して考えるべきではない。同様に、更なる詳細の説明がない他の構成に有益に組み合わせ得るいくつか構成の特徴を考慮する。
    【発明を実施するための形態】
    【0020】
    “典型的には”という用語は、以下“一例として、事例、または例示”という意味で使用される。“例えば”として以下記述されるあらゆる構成または設計は、別の実施例やその設計以上に望ましいまたは有利なものとして解釈する必要はない。
    【0021】
    図3は、チャージポンプのリーク電流の影響を低減するためループフィルタのサンプリング間隔を適切に制御するチャージポンプ位相ロックループ(PLL)回路301を有した装置300の概念図である。装置300は、チャージポンプPLL回路301、プログラマブル遅延302、及びサンプリングスイッチ制御部340を備える。プログラマブル遅延302は、リファレンスクロック信号の前進したバージョン(REF_CLK_ADVと記載される)を受け取る。リファレンスクロックの前進したバージョンを以後、“アドバンスリファレンスクロック”と呼ぶ。プログラマブル遅延302の出力は、PLL回路301への入力とされ、REF_CLKとして記載されたリファレンスクロックを表す。
    【0022】
    PLL回路301は、位相周波数検知部(PFD)304、チャージポンプ306、ループフィルタ320、電圧(または電流)制御発振器(VCO)330、及びN分周周波数分周器332を含む。動作において、PFD304は、リファレンスクロック信号REF_CLKとN分周周波数分周器332から分周された出力クロックとの位相比較によって位相エラーを検知する。PFD304は、チャージポンプ306を駆動するUP、及びDOWNパルスを発生し、出力する。
    【0023】
    アドバンスリファレンスクロック信号REF_CLK_ADV、及びアドバンス分周クロック信号DIV_CLK_ADV、及びUP、及びDOWNパルスはサンプリングスイッチ制御部340に送られる。PHI1及びPHI2と記載されたサンプリングスイッチ制御部の出力は、サンプリングスイッチ316及び317(共に開放状態で示す)を介してループフィルタ320のサンプリング間隔を同期させるよう構成される。サンプリングスイッチ316は、チャージポンプ306の出力とループフィルタ320の入力との間に位置される。一構成として、サンプリングスイッチ制御部340は、ステートマシーンである。
    【0024】
    図3に示す構成例において、サンプリングスイッチ317は、ユニティゲインアンプ318の出力とチャージポンプ306の出力との間に位置する。サンプリングスイッチ317とユニティゲインアンプ318の目的とするところは、寄生容量315(CPAR)の両端のチャージポンプ306の出力リークを低減するため、チャージポンプ306の出力電圧Vpをループフィルタの出力電圧Vctrlにプリチャージすることである。図5に示すように、サンプリングスイッチ316を閉じる前に、サンプリングスイッチ317を開放状態とする。サンプリングスイッチ317、ユニティゲインアンプ318、及びPHI2制御信号は付加的なものであり、またチャージポンプ306の出力をプリチャージすることの利点は、寄生容量315の値(CPAR)に依存する。
    【0025】
    チャージポンプ306は、サンプリングスイッチ316が閉じている際、検知した位相エラーに比例した電荷をループフィルタ320に注入する。ループフィルタ320は、VCO330への周波数制御入力とされる制御電圧Vctrl(又は電流)を生成する。VCO330は、VCO_CLKと記載され、その周波数が、制御電圧Vctrl(又は電流)に比例するVCO出力信号を生成する。
    【0026】
    PLL回路301は、ロック状態及びそのロック状態を達成するためのロック取得期間を有する。ロック状態において、UP、及びDOWNパルスは、実質同等のデュレーションであり、ループフィルタ320に正味の電荷は注入されない。それ故、制御電圧(又は電流)Vctrlは、理想的には、VCO330の出力信号VCO_CLKが一定の周波数とされることを保証する一定の値とされる。
    【0027】
    ループフィルタ320は、位相比較毎に(必要であれば)補正された電圧を供給する制御周波数を“設定する”制御電圧を生成するために、電荷を蓄積するキャパシタ(CFLIT)324と抵抗(RFLIT)322とを含みうる。PFD304は、リファレンスクロック信号REF_CLKによってクロックされていることに留意するべきである。つまり、位相比較がリファレンス周波数の間隔で生じる。
    【0028】
    装置300は、更に外部のリファレンス発振器(図示せぬ)を含み得る。アドバンスリファレンスクロック信号REF_CLK_ADVは、外部のリファレンス発振器(図示せぬ)からのクロック信号の関数とされ、外部のリファレンス発振器の分数(fraction)となり得る。その分数は、外部リファレンス発振器とプログラマブル遅延302との間の経路に配置された分周割(図示せぬ)によって得られ得る。
    【0029】
    ループフィルタ320は単なる例であって、別の構成や別の設計をも含みうる。例えば、通例、付加的なポールキャパシタ(図示せぬ)が、ループフィルタ320に追加される。付加的なポールキャパシタは、キャパシタ324の1/10の値とされ得る。その付加的なポールキャパシタは、PLL301の修正時間(settling time)またはループ安定度に影響を及ぼさないが、VCO330の出力信号における参照不要波を改善する。同様に、チャージポンプの構成も単なる例である。
    【0030】
    リークの視点からは、ループフィルタのサンプリング間隔に応じたサンプリング動作は、最小のデュレーションのサンプリング動作を有するべきである。つまり、ループフィルタ320はUPまたはDOWNパルスがアクティブ(オン状態)の時のみチャージポンプに接続され、それ以外は非接続とされる。ロック状態で、そのUP、及びDOWNパルスは最小のデュレーションを有する。つまり、最小パルス幅は、デッドゾーンを生じさせないよう、両パルス間は常に一定に維持される。そのため、PFD304は、とても小さな位相エラーの影響を受けることはない。しかし、ロック取得期間中では、サンプリングスイッチ316によるサンプリング動作のデュレーションの最小制約を規定するためにも、UP、及びDOWNパルスは、とても長くなり得る(リファレンスサイクルにおける広い部分)。UP、及びDOWNパルスがアクティブ(オン状態)とされたままで、仮にサンプリングスイッチ316がオフ状態とされると、誤り電荷の一部が“消失”し、効果的なループゲインが減少する。その結果、ループ原動力は、変化し、安定度問題が生じる。
    【0031】
    本明細書で説明する装置300は、通信回路を含む様々な電気回路に使用され得る。例えば、装置300は、(1)周波数をアップコンバートするために使用される局部発振器(LO)信号を発生させるための送信サブシステム、(2)周波数をダウンコンバートするために使用されるLO信号を発生させるための受信サブシステム、(3)フリップフロップ及びラッチのような同期回路のために使用されるクロック信号を発生させるためのデジタルサブシステム、及び(4)他の回路及びサブシステム、に使用され得る。
    【0032】
    図4は、チャージポンプ306内のあらゆる電圧リーク経路に接続されるループフィルタ320の時間を最小にするため、ループフィルタ320のループフィルタサンプリング間隔の適切な制御のプロセス400の一例のフローチャートを示す。プロセス400は、ハードウェアステートマシーンまたはハードウェアロジック関数に実装され得る。サンプリング間隔は、サンプリングスイッチ制御部340によって制御される。典型的な実施例において、プロセス400の通り、スイッチ制御部340を介して、開閉するよう同期された2つのサンプリングスイッチ316及び317が示される。
    【0033】
    プロセス400は、ブロック402でサンプリングスイッチ制御部340にアドバンスリファレンスクロック信号REF_CLK_ADVを送る(send)ことから始まる。ブロック404で、アドバンスリファレンスクロック信号REF_CLK_ADVは、PFD304にリファレンスクロック信号REF_CLKを発生させるプログラマブル遅延302によって遅延される。ブロック406で、PFD304は、UP、及びDOWNパルスをチャージポンプ306及びサンプリングスイッチ制御部340に送る。N分周周波数分周器332は、アドバンス分周クロックDIV_CLK_ADVをサンプリングスイッチ制御部340に送る。ブロック407で、スイッチ制御部340は、チャージポンプ306の出力をプリチャージさせるため、DIV_CLK_ADVとREF_CLK_ADV信号との組み合わせを利用してPHI2プリチャージパルスを発生させ、サンプリングスイッチ317(PHI2 HIGH)を閉じる。
    【0034】
    ブロック408において、位相比較(又は次のサイクル)が始まるかどうかの判定(determination)がなされる。仮に、判定がノーであれば、プロセス400はブロック408の開始時に戻る。仮に、ブロック408において判定がイエスであれば、ループフィルタのサンプリング間隔の開始に対応するブロック410でサンプリングスイッチ317は開放状態(PHI2 LOW)、サンプリングスイッチ316は短絡状態(PHI1 HIGH)とされる。ブロック412において、検知されたUP、及びDOWNパルスの両者の立ち下がり遷移(falling transitions)が検知されたかどうかので判定(determination)がなされる。仮に、判定が、ノーであると、ブロック412はブロック412の始まりに戻る。しかし、仮に、判定が、イエスであれば、ループフィルタのサンプリング間隔の終点に対応するブロック414でサンプリングスイッチ316は開放状態とされる。ブロック414はブロック402に戻る。
    【0035】
    プロセス400は、UP、及びDOWNパルスの長さに基づきループフィルタのサンプリング間隔(サンプリングスイッチ316は閉じているデュレーション)の幅を適切に制御する。つまり、ループフィルタのサンプリング間隔は、長いUP/DOWNパルス(ロック取得期間の期間)に対応するよう、及び最小長のUP/DOWNパルス(ロック状態で)に対応するように自動的に調整がなされる。
    【0036】
    PLL回路300へのリファレンスクロック信号REF_CLKは、プログラム可能な量(amount)で遅延される。サンプリングスイッチ制御部340は、アドバンスリファレンスクロック信号REF_CLK_ADV又はアドバンス分周クロック信号DIV_CLK_ADVがオン状態とされると、クロックされる。その場合、サンプリングスイッチ316は、位相比較を行う瞬間の直前に閉じている。次いで、サンプリングスイッチ制御部340はUP、及びDOWNパルスの立ち下がり遷移が生じるまで待機する。一旦これら両者の事象を検知すると、サンプリングスイッチ316は開放状態とされる。このようにして、プロセス400によって、ループフィルタ320がチャージポンプ306内のあらゆる電圧リーク経路に接続される時間を最小にしつつ、それと同時にループフィルタ320上に実質の全誤り電荷がサンプリングされることが保証される。アドバンスリファレンスクロック信号REF_CLK_ADV、又はアドバンス分周クロック信号DIV_CLK_ADV(どちらが最初に生じたとしても)がオン状態とされる次の位相比較を行うまで一旦サンプリングスイッチ316が開放状態とされると、結果として生じる制御電圧Vctrlは一定値を保持する。
    【0037】
    ユニティゲインアンプ318のフィートバックパスとサンプリングスイッチ317とは、REF_CLKとDIV_CLKとの間の位相比較の前における、チャージポンプ306の出力をプリチャージするために利用される。サンプリングスイッチ316(PHI1 HIGH)が次の位相比較を行う瞬間で閉じた際の、CFILTとCPARとの間でのチャージシェアを防止するよう、仮にCPARをチャージポンプの出力上に配置した場合、そのフィートバック回路が必要となる。
    【0038】
    図5は、図3における装置300に関する、リファレンスクロック信号REF_CLK、アドバンスリファレンスクロック信号REF_CLK_ADV、UP、及びDOWNパルス、PHI1とPHI2とを制御するスイッチ、チャージポンプ306の出力電圧Vp、及び制御電圧Vctrlの一組の波形500を示す。
    【0039】
    スイッチ制御PHI1は、アドバンスリファレンスクロック信号REF_CLK_ADVまたはアドバンス分周クロック信号REF_CLK_ADV(どちらが先でもよい)の立ち上がり遷移に対応する立ち上がり遷移を有する同期サンプリングスイッチ制御である。更にはUP、及びDOWNパルスの立ち下がり遷移とスイッチ制御PHI1とが一致する。動作時、サンプリングスイッチ制御部340は、アドバンスリファレンスクロック信号REF_CLK_ADVまたはアドバンス分周クロックのいずれかのオン状態(どちらが先でもよい)に基づき、サンプリングスイッチ316をオン(閉じた)状態にスイッチする(スイッチ制御PHI1の立ち上がり遷移に対応する)。更には、サンプリングスイッチ制御部340は、UP、及びDOWNパルスの立ち下がり遷移に応じて同期するサンプリングスイッチ316をオフ(開放)状態にスイッチングする(スイッチ制御PHI1の立ち下がり遷移に対応する)。従って、サンプリングスイッチ316は、PFD304によって位相比較動作が開始される直前にオンに切り替えられ、一旦位相比較動作が完了すると、オフに切り替えられる。
    【0040】
    スイッチ制御PHI2は、PHI1信号の立ち上がり遷移に対応して立ち下がり遷移を有する同期サンプリングスイッチ制御である。PHI2のパルスデュレーションは、PHI1がlowとされる期間と同じくらいの長さとなり得るし、又チャージポンプ306の出力ノードをVpにプリチャージするために必要とされるくらい短くなり得る。動作において、サンプリングスイッチ制御部340は、アドバンスリファレンスクロック信号REF_CLK_ADV及びアドバンス分周クロックのオフ状態に基づき、サンプリングスイッチ317をオン(閉じた)状態にスイッチングする(スイッチ制御PHI2の立ち上がり遷移に対応する)。更には、サンプリングスイッチ制御部340は、サンプリングスイッチ316(PHI1 HIGH)の立ち上がり遷移に応じて同期するサンプリングスイッチ317をオフ(開放)状態にスイッチングする(スイッチ制御PHI2の立ち下がり遷移に対応する)。従って、サンプリングスイッチ317は、チャージポンプ306の出力をVpにプリチャージするための位相比較動作に先立ちオン状態に切り替えられ、一旦、位相比較動作が開始(PHI1の立ち上がり遷移)されるとオフ状態に切り替わる。
    【0041】
    動作状態において、チャージポンプのリークからスロープ状の減少(電圧対時間)を示す制御電圧Vctrlの電圧低下は、オン状態にするアドバンスリファレンスクロック信号REF_CLK_ADVの立ち上がり遷移とUP、及びDOWNパルスの立ち上がり遷移との間のデュレーションに原則制限される。スロープ状の増加を示す制御電圧Vctrlは、DOWNパルスの立ち上がり遷移まで上昇する。その後、制御電圧Vctrlは、オン状態への、アドバンスリファレンスクロック信号REF_CLK_ADVによる次の立ち上がり遷移まで原則一定値とされる。図5の例図においては、ループフィルタキャパシタ324上に蓄積された電荷を除去しようと、チャージポンプのリーク電流によって試みがなされることを仮定している。チャージポンプリーク電流の極性が反転する場合にはケースで別の分析が使用され得る。つまり、リーク電流により、ループフィルタ320上に追加の電荷を加算しようとする。
    【0042】
    図面に記載された装置300は、プロセス400及びタイミングチャート500を利用するPLL300内のチャージポンプリークの影響を緩和する。加えて、装置300はチャージポンプ306の出力を、位相比較する瞬間以外の全ての時間でループフィルタ320とVCO330から切り離す。電源電圧ノイズがチャージポンプ306(Vddノード)で生じる実例では、その電源電圧ノイズは、PHI1のアクティブデューティサイクル(PHI1のクロック周期のうちhighの部分のパーセンテージ)によって更に緩和されるだろう。
    【0043】
    本明細書で説明する装置300は、さまざまなシステム及びアプリケーションにて使用され得る。例えば、装置300は、セルラーシステム、直交周波数分割多重アクセス(OFDMA)システム、多入力多出力(MIMO)システム、無線ローカルエリアネットワーク(WLANs)などに使用されうる。そのセルラーシステムは、符号分割多重アクセス(CDMA)システム、移動体通信用グローバルシステム(GSM(登録商標))、などを含む。CDMAシステムは、IS−95、IS−2000、IS−856、及びワイドバンド−CDMA(W−CDMA)システムを含む。装置300は、基地局と同様に無線装置内に搭載され得る。GSMシステム又はIEEE802.11システムのように、異なった時間で送信と受信とを行う時分割多重(TDD)システムについては、PLL回路301を備えた1つの装置300で送信及び受信の経路を共に使用され得る。CDMAシステムのように、異なる周波数を同じ時間で送信及び受信する周波数分割(FDD)システムに関しては、PLL回路301を備える一方の装置300で送信経路のために使用され、他方で受信経路として使用されうる。
    【0044】
    以下説明した装置300は、さまざまな構成において実装され得る。例えば、装置300又は/及びPLL回路301の全部又は多数の回路ブロックは、集積回路(IC)、RF集積回路(RFIC)、特定用途向けの集積回路(ASIC)、などの中に実装され得る。装置300は、1つ以上のICでの組み合わせ、個別の構成などもまた実装し得る。装置300はまた、相補型金属酸化膜半導体(CMOS)、バイポーラ接合トランジスタ、バイポーラ−CMOS(BiCMOS)、シリコンゲルマニウム(SiGe)、ガリウム砒素(GaAs)、などのようなさまざまなICプロセス技術で製造され得る。
    【0045】
    開示された実施例で前述された記述内容は、いかなる当業者に本発明を作成または使用させることを可能とするために提供される。これら実施例に対するさまざまな変形例は、当業者にとって容易に明白とされ、またここで定義された総括的な定義は、発明の精神及び範囲から逸脱することなく、別の実施例に適用し得る。従って、本発明は、ここで示した実施例に限定されることを意図したものではなく、またここで開示した原理及び新規の特徴と一致する最大の広域範囲が与えられる。

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    【特許請求の範囲】
    【請求項1】
    電圧制御発振器(VCO)と、
    位相比較動作を提供する位相周波数検知部(PFD)と、
    所望の動作周波数に前記VCOをロックするための制御電圧を生成するループフィルタと、
    少なくともUPパルス及びDOWNパルスのうち1つに応じて前記ループフィルタに出力信号を生成するチャージポンプと、
    前記ループフィルタの入力及び前記チャージポンプの出力に結合され、サンプリング間隔によって特徴付けられたサンプリングスイッチと、
    前記位相比較動作に先立ち前記サンプリングスイッチを閉じ、前記位相比較動作が完了した時に前記サンプリングスイッチを開くことで、前記チャージポンプからのリーク電流の影響を低減するよう前記サンプリング間隔の幅を適切に制御するサンプリングスイッチ制御部と
    を具備する装置。
    【請求項2】
    前記サンプリングスイッチ制御部は、前記チャージポンプへのUP、及びDOWNパルス両者の幅に基づいたデュレーションの間、前記サンプリング間隔の前記幅を適切に制御するよう、更に構成される請求項1の装置。
    【請求項3】
    前記サンプリングスイッチ制御部は、ロック取得期間中、前記UP及び前記DOWNパルスのうちいずれが最長の幅であるか応じ、前記チャージポンプへの前記UP、及びDOWNパルスのそれぞれの最長の関数(function)として、前記サンプリング間隔の前記幅を適切に制御するよう、更に構成される請求項1の装置。
    【請求項4】
    前記サンプリングスイッチ制御部は、ロック状態で前記UPパルス及び前記DOWNパルスのうちいずれが最長の幅であるか応じ、前記UP、及びDOWNパルスのそれぞれの最大長の関数として前記サンプリング間隔の前記幅を適切に制御するよう、更に構成される請求項3の装置。
    【請求項5】
    前記サンプリングスイッチ制御部は、前記UP、及びDOWNパルスの立ち下がり遷移が生じたことを更に検知するよう動作可能とされ、前記UP、及びDOWNパルスの両者の前記立ち上がり遷移を検知すると、前記サンプリングスイッチを開くように、更に制御するよう動作可能とされる請求項1の装置。
    【請求項6】
    前記サンプリングスイッチ制御部は、位相比較動作に先立ち、前記チャージポンプの出力ノードを前記ループフィルタに存在する前記制御電圧に更にプリチャージするよう、動作可能とされる請求項1の装置。
    【請求項7】
    前記PFDは、更に前記UP及びDOWNパルスを生成するよう構成され、更に、プログラマブル遅延を具備し、
    前記サンプリングスイッチ制御部及び前記プログラマブル遅延はアドバンス分周クロック信号のみならずアドバンスリファレンスクロック信号を受信し、前記プログラマブル遅延は、前記位相比較動作を始めるためのリファレンスクロック信号を生成するための前記アドバンスリファレンスクロック信号を遅延させるよう構成され、
    前記サンプリングスイッチ制御部は、前記PFDによる前記位相比較動作の直前で前記サンプリングスイッチを閉じるよう制御するように構成され、前記位相比較動作の直後に開くよう構成され、これにより、前記ループフィルタが前記チャージポンプにおける電圧(potential)リーク経路に接続されるデュレーションを最小化しつつ、同時に前記ループフィルタ上にすべての誤り電荷をサンプリングすることを保証する請求項5の装置。
    【請求項8】
    前記ループフィルタから前記VCOへの結果として得られる制御電圧は、前記アドバンスリファレンスクロック信号または前記アドバンス分周クロック(いずれが先に生じてもよい)がオン状態とされる次のサイクルまで、一旦前記サンプリングスイッチが開くと、一定を維持する請求項7の装置。
    【請求項9】
    電圧制御発振器(VCO)と、
    所望の動作周波数に前記VCOをロックするよう制御電圧を生成するループフィルタと、
    UPパルス、及びDOWNパルスの少なくとも1つに応じて前記ループフィルタに出力信号を生成するチャージポンプと、
    前記ループフィルタの入力及び前記チャージポンプの出力に結合され、サンプリング間隔によって特徴付けられたサンプリングスイッチと、
    初めて生じる前記UP及び前記DOWNパルスに起因して、前記UP及び前記DOWNパルスが共にオフ状態に戻った(return)後、前記サンプリングスイッチを開くことで、また前記UPパルス、又は前記DOWNパルスのオン状態に先だち、前記サンプリングスイッチを閉じることで、前記チャージポンプからのリーク電流の影響を和らげるよう前記サンプリング間隔の幅を適切に制御するサンプリングスイッチ制御部と
    を具備する集積回路。
    【請求項10】
    前記サンプリングスイッチ制御部は、前記チャージポンプへの前記UP及び前記DOWNパルスの両者の長さに基づいたデュレーションの間、前記サンプリング間隔の前記幅を適切に制御するよう、更に構成される請求項9の集積回路。
    【請求項11】
    前記サンプリングスイッチ制御部は、前記UPパルス及び前記DOWNパルスのうちいずれが最長の幅であるかに応じて、ロック取得期間中に前記チャージポンプへの前記UPパルス及び前記DOWNパルスいずれの最長(longest length)の関数(function)として前記サンプリング間隔の前記幅を適切に制御するよう、更に構成される請求項9の集積回路。
    【請求項12】
    前記サンプリングスイッチ制御部は、ロック状態で、前記UPパルス、及び前記DOWNパルスのうちいずれが最長の幅であるかに応じて、前記UP及び前記DOWNパルスのそれぞれの最大長(maximum length)の関数として前記サンプリング間隔の前記幅を適切に制御するよう、更に構成される請求項11の集積回路。
    【請求項13】
    前記サンプリングスイッチ制御部は、前記UP及び前記DOWNパルスの立ち下がり遷移が生じたことを検知するよう更に構成され、前記UP及び前記DOWNパルスの両者の前記立ち上がり遷移を検知すると、前記サンプリングスイッチを開くよう制御するように、更に構成される請求項9の集積回路。
    【請求項14】
    前記サンプリングスイッチ制御部は、位相比較動作に先だって、前記チャージポンプの出力ノードを、前記ループフィルタに存在する前記制御電圧にまでプリチャージするよう、更に構成される請求項9の集積回路。
    【請求項15】
    前記位相比較動作及び前記UP及び前記DOWNパルスの生成を行う位相周波数検知部(PFD)及びプログラマブル遅延を更に備え、
    前記サンプリングスイッチ制御部及び前記プログラマブル遅延は、アドバンス分周クロック信号のみならずアドバンスリファレンスクロック信号を受信(receive)し、
    前記プログラマブル遅延は、前記アドバンスリファレンスクロック信号を遅延させ、前記位相比較動作を開始するためのリファレンスクロック信号を生成し、
    前記サンプリングスイッチ制御部は、前記PFDによる前記位相比較動作の直前で前記サンプリングスイッチを閉じるよう制御し、また前記位相比較動作の直後に前記前記サンプリングスイッチを開くよう制御し、これにより、前記ループフィルタが前記チャージポンプにおける電圧(potential)リーク経路に接続されるデュレーションを最小化しつつ、同時に前記ループフィルタ上にすべての誤り電荷をサンプリングすることを保証する請求項13の装置。
    【請求項16】
    前記ループフィルタから前記VCOへの前記制御電圧は、一旦前記サンプリングスイッチが開くと、前記アドバンスリファレンスクロック信号または前記アドバンス分周クロック(どちらが先に生じてもよい)がオン状態とされる次のサイクルまで、一定とされるよう更に構成される請求項15の装置。
    【請求項17】
    ループフィルタと、
    UPパルス及びDOWNパルスのうち少なくとも1つに応じて前記ループフィルタに出力信号を供給するチャージポンプと、
    前記ループフィルタと前記チャージポンプとの間に結合され、サンプリング間隔によって特徴付けられたサンプリングスイッチと、
    を含む位相ロックループ(PLL)回路を備えて動作するよう構成される装置であって、
    前記装置は、前記UPまたは前記DOWNパルスのいずれかオン状態とされる前に、前記UPパルス及び前記DOWNパルスのうちいずれが始めに発生したかに起因して、前記サンプリングスイッチを閉じ、
    前記UP及び前記DOWNパルスの両者がオフ状態へと戻った後、前記サンプリングスイッチを開くことで、前記チャージポンプからのリーク電流の影響を和らげるよう前記サンプリング間隔の幅を適切に制御するサンプリングスイッチ制御部を備える装置。
    【請求項18】
    前記サンプリングスイッチ制御部は、前記チャージポンプへのUP及びDOWNパルスの両者の長さに基づいたデュレーションの間、前記サンプリング間隔の前記幅を適切に制御するよう、更に構成された請求項17の装置。
    【請求項19】
    前記サンプリングスイッチ制御部は、前記UPパルス、及び前記DOWNパルスのうちいずれが最長の幅であるかに応じて、ロック取得期間中に前記チャージポンプへの前記UP及び前記DOWNパルスのそれぞれの最大長(longest length)の関数(function)として前記サンプリング間隔の前記幅を適切に制御するよう、更に構成される請求項17の装置。
    【請求項20】
    前記サンプリングスイッチ制御部は、前記PLL回路のロック状態で、前記UPパルス及び前記DOWNパルスのうちいずれが最長の幅であるかに応じて、前記UP及び前記DOWNパルスいずれの最大長(maximum length)の関数(function)として前記サンプリング間隔の前記幅を適切に制御するよう、更に構成される請求項19の装置。
    【請求項21】
    前記サンプリングスイッチ制御部は、前記UP及び前記DOWNパルスの立ち下がり遷移が生じることを検知するよう構成され、前記UP及び前記DOWNパルスの両者の前記立ち上がり遷移を検知すると、前記サンプリングスイッチを開くよう制御するように、更に構成される請求項17の装置。
    【請求項22】
    前記サンプリングスイッチ制御部は、位相比較動作に先だち、前記チャージポンプの出力ノードを、前記ループフィルタに存在する前記制御電圧にプリチャージするよう、更に構成される請求項17の装置。
    【請求項23】
    前記PLL回路は、位相比較動作を提供し、前記UP及び前記DOWNパルスを生成する位相周波数検知部(PFD)を更に含み、
    前記装置は、更にプログラマブル遅延で動作可能とするよう更に構成され、
    前記サンプリングスイッチ制御部及び前記プログラマブル遅延はアドバンス分周クロック信号のみならずアドバンスリファレンスクロック信号を受信し、
    前記プログラマブル遅延は、前記位相比較動作を開始するためのリファレンスクロック信号を生成するよう前記アドバンスリファレンスクロック信号を遅延させるよう構成され、
    前記サンプリングスイッチ制御部は、前記PFDによる前記位相比較動作の直前で前記サンプリングスイッチを閉じるよう制御し、また前記位相比較動作の直後に前記サンプリングスイッチを開くよう制御するよう更に構成され、
    これにより、前記ループフィルタが前記チャージポンプにおける電圧(potential)リーク経路に接続されるデュレーションを最小化しつつ、同時に前記ループフィルタ上にすべての誤り電荷をサンプリングすることを保証する請求項21の装置。
    【請求項24】
    前記ループフィルタから前記VCOへの前記制御電圧は、一旦前記サンプリングスイッチが開くと、前記アドバンスリファレンスクロック信号または前記アドバンス分周クロック(どちらが先に生じてもよい)がオン状態とされる次のサイクルまで、一定とされるよう更に構成される請求項23の装置。
    【請求項25】
    ループフィルタと、
    UPパルス及びDOWNパルスのうち少なくとも1つに応じて前記ループフィルタに出力信号を生成するチャージポンプと、
    前記ループフィルタと前記チャージポンプとの間に結合され、サンプリング間隔で特徴付けられたサンプリングスイッチと、
    を具備し、サンプリングスイッチ制御部で動作するよう適合された位相ロック(PLL)ループ回路であって、
    それによって、前記サンプリングスイッチ制御部は、前記UPパルス及び前記DOWNパルスのうちいずれが始めに生じたかに応じて、前記UP及び前記DOWNパルスがオン状態とされる前に前記サンプリングスイッチを閉じることによって、
    また前記UP及び前記DOWNパルスの両者がオフ状態へと戻ったあと、前記サンプリングスイッチを開けることによって、
    前記チャージポンプからのリーク電流の影響を和らげるよう前記サンプリング間隔の幅を適切に制御する位相ロック(PLL)ループ回路。
    【請求項26】
    位相比較動作を提供し、前記UP及び前記DOWNパルスを生成し、プログラマブル遅延で動作するよう適合された位相周波数検知部(PFD)を更に具備し、
    それによって、前記サンプリングスイッチ制御部及び前記プログラマブル遅延は、アドバンスリファレンスクロック信号を受信し、
    前記プログラマブル遅延は、前記位相比較動作を開始するリファレンスクロック信号を生成するための前記アドバンスリファレンスクロック信号を遅延させるよう構成され、
    それによって、前記サンプリングスイッチ制御部は、前記PFDによる前記位相比較動作の直前で前記サンプリングスイッチを閉じ、前記位相比較動作の直後に前記サンプリングスイッチを開き、
    これにより、前記ループフィルタが、前記チャージポンプにおける電圧(potential)リーク経路に接続されるデュレーションを最小化しつつ、同時に前記ループフィルタ上にすべての誤り電荷をサンプリングすることを保証する請求項21のPLL回路。
    【請求項27】
    前記ループフィルタから前記VCOへの前記制御電圧は、一旦前記サンプリングスイッチが開くと、前記アドバンスリファレンスクロック信号または前記アドバンス分周クロック信号(どちらが先に生じてもよい)がオン状態とされる次のサイクルまで、一定とされるよう更に構成される請求項23のPLL回路。
    【請求項28】
    位相ロックループ(PLL)回路と、
    前記UPパルスまたは前記DOWNパルスのうちいずれが初めに発生したかに応じて、前記PLL回路の位相周波数検知部(PFD)からチャージポンプへのUPまたはDOWNパルスがオン状態とされる前に、サンプリングスイッチを閉じる手段と、
    前記UP及び前記DOWNパルスの両者が、前記チャージポンプからのリーク電流の影響を和らげるよう、前記サンプリングスイッチによるサンプリング間隔の幅を制御するためオフ状態に戻った後、前記サンプリングスイッチを開く手段と
    を具備する装置。
    【請求項29】
    前記チャージポンプへの前記UP及び前記DOWNパルスの両者の長さに基づいたデュレーションの間、前記サンプリング間隔の前記幅を適切に制御する手段を、更に具備する請求項28の装置。
    【請求項30】
    前記UPパルス及び前記DOWNパルスのうちいずれが最長の幅であるかに応じて、ロック取得期間中にチャージポンプへの前記UP及び前記DOWNパルスのそれぞれの最長(longest length)の関数(function)として前記サンプリング間隔の前記幅を適切に制御する手段を、更に具備する請求項28の装置。
    【請求項31】
    前記PLL回路のロック状態で、前記UPパルス、及び前記DOWNパルスのうちいずれが最長の幅であるかに応じて、前記UP及び前記DOWNパルスのそれぞれの最大長(maximum length)の関数(function)として前記サンプリング間隔の前記幅を適切に制御する手段を、更に具備する請求項30の装置。
    【請求項32】
    前記UP、及び前記DOWNパルスの立ち下がり遷移が生じることを検知する手段と、
    前記UP及び前記DOWNパルスの両者の前記立ち上がり遷移の検知に応じて、前記サンプリングスイッチを開くよう制御する手段と
    を更に具備する請求項28の装置。
    【請求項33】
    位相比較動作に先立ち、前記チャージポンプの出力ノードを前記ループフィルタに存在する前記制御電圧にまでプリチャージする手段を、更に具備する請求項28の装置。
    【請求項34】
    前記PFDによる位相比較動作の直前で前記サンプリングスイッチを閉じ、前記位相比較動作の直後に前記サンプリングスイッチを開く手段を更に具備し、
    これにより、前記ループフィルタが、前記チャージポンプにおける電圧(potential)リーク経路に接続されるデュレーションを最小化しつつ、同時に前記PLL回路の前記ループフィルタ上にすべての誤り電荷をサンプリングすることを保証する請求項32の装置。
    【請求項35】
    一旦前記サンプリングスイッチが開くと、前記アドバンスリファレンスクロック信号または前記アドバンス分周クロック(どちらが先に生じてもよい)がオン状態とされる次のサイクルまで、前記ループフィルタから前記VCOまでの前記制御電圧を一定に保持する手段、を更に具備する請求項34の装置。
    【請求項36】
    位相ロックループ(PLL)回路内のチャージポンプからのリーク電流の影響を和らげる方法であって、
    前記PLL回路の位相周波数検知部(PFD)から前記チャージポンプへのUPまたはDOWNパルスがオン状態とされる前に、前記UPパルスまたは前記DOWNパルスのうちいずれが初めに発生したかに応じて、サンプリングスイッチを閉じることと、
    前記PLL回路内の前記チャージポンプからの前記リーク電流の影響を和らげるよう前記サンプリングスイッチのサンプリング間隔の幅を制御するためオフ状態に戻った後、前記UP及び前記DOWNパルスの両者が前記サンプリングスイッチを開くことと
    を具備する方法。
    【請求項37】
    前記チャージポンプへのUP及びDOWNパルスの両者の長さに基づいたデュレーションの間、前記サンプリング間隔の前記幅を適切に制御することを更に具備する請求項36の装置。
    【請求項38】
    前記UPパルス、及び前記DOWNパルスのうちいずれが最長の幅であるかに応じて、ロック取得期間中に前記チャージポンプに対する前記UP及び前記DOWNパルスのそれぞれの最長の関数として前記サンプリング間隔の前記幅を適切に制御することを、更に具備する請求項36の方法。
    【請求項39】
    前記PLL回路のロック状態で、前記UPパルス及び前記DOWNパルスのうちいずれが最長の幅であるかに応じて、前記UP及び前記DOWNパルスのそれぞれの最大長(maximum length)の関数として前記サンプリング間隔の前記幅を適切に制御することを、更に具備する請求項38の方法。
    【請求項40】
    前記UP及び前記DOWNパルスの立ち下がり遷移が生じたことを検知することと、
    前記UP及び前記DOWNパルスの両者の前記立ち上がり遷移の検知に応じて、前記サンプリングスイッチを開くよう制御することと
    を更に具備する請求項35の方法。
    【請求項41】
    PFDの位相比較動作に先立ち、前記ループフィルタに存在する前記制御電圧にまで前記チャージポンプの出力ノードをプリチャージすること、を更に具備する請求項36の方法。
    【請求項42】
    前記PFDによる位相比較動作の直前で前記サンプリングスイッチを閉じるよう制御することと、
    前記位相比較動作の直後に前記サンプリングスイッチを開くよう制御することと
    を更に具備し、
    これにより、前記ループフィルタが、前記チャージポンプにおける電圧リーク経路に接続されるデュレーションを最小化しつつ、同時に前記PLL回路の前記ループフィルタ上にすべての誤り電荷をサンプリングすることを保証する請求項40の方法。
    【請求項43】
    一旦前記サンプリングスイッチが開くと、前記アドバンスリファレンスクロック信号または前記アドバンス分周クロック(どちらが先に生じてもよい)がオン状態とされる次のサイクルまで、前記ループフィルタから前記VCOまでの前記制御電圧を一定に保持する手段、を更に具備する請求項42の方法。

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    ES FOR MINIMIZING CONTROL VOLTAGE RIPPLE DUE TO CHARGE PUMP LEAKAGE IN PHASE LOCKED LOOP CIRCUITS

    RELATED APPLICATIONS CLAIM OF PRIORITY UNDER 35 U.S.C. §119

    [0001] The present Application for Patent claims priority to Provisional U.S. Application Serial No. 61/114,041, entitled "TECHNIQUES FOR MINIMIZING CONTROL VOLTAGE RIPPLE AND NOISE DUE TO CHARGE PUMP LEAKAGE IN PHASE LOCKED LOOP CIRCUITS," filed November 12, 2008, assigned to the assignee hereof, and expressly incorporated herein by reference.

    REFERENCE TO CO-PENDING APPLICATION FOR PATENT

    [0002] The present Application for Patent is related to the following co-pending U.S. Patent Application entitled, "TECHNIQUES FOR MINIMIZING CONTROL VOLTAGE NOISE DUE TO CHARGE PUMP LEAKAGE IN PHASE LOCKED LOOP CIRCUITS", having Attorney Docket No. 081050U2, filed concurrently herewith, assigned to the assignee hereof, and expressly incorporated by reference herein.

    TECHNICAL FIELD

    [0003] The present disclosure relates generally to the field of electronic circuits, and more specifically to phase lock loop circuits.

    BACKGROUND

    [0004] FIG. 1 shows a schematic diagram of a typical phase lock loop (PLL) circuit employing a charge pump. A typical PLL circuit 100 consists of a phase frequency detector (PFD) 104 which detects a phase error, via a phase comparison, between a reference clock signal, denoted as REF CLK, and a divided output clock from a divide-by-N divider 124. The PFD 104 generates and outputs UP and DOWN signals which drive a charge pump 106. The charge pump 106 injects a charge proportional to the detected phase error into a loop filter 116. The loop filter 116 then generates a control voltage Vctrl (or current) that is an input to a voltage (or current) controlled oscillator (VCO) 122. The VCO

    122 generates a VCO output signal, denoted as VCO CLK, whose frequency is proportional to the control voltage Vctri. It should be noted that the PFD 104 is clocked by the reference clock signal REF CLK; i.e. the phase comparisons occur at the reference frequency interval.

    [0005] The reference clock signal REF CLK is a function of a clock signal from an external reference oscillator (not shown) and may be a fraction of the external reference oscillator, the fraction being derived by a divider (not shown) in a path between the external reference oscillator and the PFD 104.

    [0006] In a locked condition, the UP and DOWN pulses are of substantially equal duration and no net charge is injected into the loop filter 116. Hence the control voltage Vctri (or current) is ideally at a constant value which ensures that the VCO output signal VCO CLK is at a constant frequency. The loop filter 116 typically accumulates a charge to produce a filtered control voltage that adjusts the VCO 122 output frequency.

    [0007] The loop filter 116 is shown to include a first order loop filter implementation that comprises a series combination of a resistor (RFILT) 118 and a capacitor (CFILT) 120 in parallel with the charge pump 106 output. The loop filter 116 is only exemplary and may also include other components. For example, commonly an extra pole capacitor (not shown) is placed in parallel with the charge pump 106 output. The extra pole capacitor may be 1/10 the value of capacitor 120. The extra pole capacitor does not affect PLL 100 settling time or loop stability, but improves reference spur rejection in the VCO 122 output signal.

    [0008] The charge pump 106 includes current sources 108 and 114 and switches 110 and

    112. The switch 110 when closed passes the UP pulse to the loop filter 116. The switch

    112 passes the DOWN pulse to the loop filter 116 when closed. The output of the PFD 104 controls the charge pump 106 so as to increase or decrease the control voltage Vctri (or current) to the VCO 122 input.

    [0009] FIG. 2 shows a set of waveforms 200 for a reference clock signal REF CLK, a

    VCO output signal VCO CLK, UP and DOWN pulses, and a control voltage Vctri "ripple" associated with the PLL circuit 100 of FIG. 1. The waveform of the control voltage Vctri illustrates a voltage droop due to the charge pump leakage in an OFF state. The voltage droop corresponds to a sloped (decreasing) waveform of the control voltage Vctri which begins after a falling transition of the UP or DOWN pulses and continues to droop until a beginning of the next REF CLK rising edge or beginning of a rising transition of the UP pulse. The waveform of the control voltage Vctrl is measured at a node Vctri of the loop filter 116. In order to compensate for the voltage droop, the UP pulse is extended to compensate for the charge lost due to the leakage. The extended portion of the UP pulse is shown hatched in the waveform. Thus, the control voltage Vctri gradually increases until the rising transition of the DOWN pulse. During the interval of the DOWN pulse, the control voltage Vctri remains substantially at a constant level. The waveform of the VCO output signal VCO CLK represents the modulation of the output frequency (VCO output signal) of the VCO 122 due to the voltage droop or voltage ripple on the control voltage Vctri. During a lock condition, the control voltage Vctri is ideally a constant or DC voltage. Any periodic deviation from this DC or average value is said to be a ripple. [0010] In current nanometer processes, the leakage current of a transistor in the "off state can be quite significant. The charge pump 106 within PLL 100 is typically implemented using transistor based current sources that are turned on for the duration of the UP or DOWN pulses and are turned off otherwise. However the leakage current of these transistors in the OFF state can significantly alter the charge accumulated onto the loop filter 116. The PLL circuit 100 has to ensure that the locked condition is maintained by compensating for this charge loss due to leakage. The compensation is accomplished by the injection of an equal and opposite amount of extra charge at the beginning of each phase comparison. The leakage current charge loss and compensation charge introduces voltage "ripple" on the control voltage Vctri to the voltage controlled oscillator (VCO) which manifests as deterministic jitter in the time domain or reference spurs in the frequency domain on the VCO output signal VCO CLK of the VCO 122. Both effects can be undesirable depending on the target application. The undesirable effects are further exacerbated in low voltage designs that typically use high voltage or current gain VCO architectures to maximize the tuning range (i.e. to generate a wide range of frequencies from a limited control voltage or current range).

    [0011] In one solution to lower the leakage current, thick-oxide transistors are employed in the charge pump. However, the option of using thick-oxide transistors may not be available in a particular integrated circuit process technology or may require the use of costly extra mask process steps. In another solution, a large loop capacitance is used to minimize voltage change for a given leakage current which results in an integrated circuit area and cost penalty.

    [0012] There is therefore a need to mitigate charge pump leakage current without the expense of thick oxide transistors or a large loop capacitor on-chip.

    [0013] There is also a need for a circuit that reduces the effect of a charge pump leakage in a phase lock loop with the minimum integrated circuit cost and area penalty.

    SUMMARY

    [0014] Techniques to adaptively control the loop filter sampling interval to mitigate the effects of charge pump leakage current in an apparatus including a phase lock loop circuit are provided. In one aspect, the apparatus includes a voltage controlled oscillator (VCO), a phase frequency detector (PFD) providing a phase comparison operation, a loop filter configured to provide a control voltage to lock the VCO to a desired operating frequency, and a charge pump configured to provide an output signal to the loop filter in response to at least one of an UP pulse and a DOWN pulse. The apparatus further includes a sampling switch, coupled between an input of the loop filter, an output of the charge pump, and characterized by a sampling interval. A sampling switch controller is configured to adaptively control the width of the sampling interval in order to mitigate the effects of leakage current from the charge pump by closing the sampling switch in advance of the phase comparison operation and opening the sampling switch when the phase comparison operation is completed.

    [0015] Various other aspects and embodiments of the disclosure are described in further detail below.

    [0016] The summary is neither intended nor should it be construed as being representative of the full extent and scope of the present disclosure, which these and additional aspects will become more readily apparent from the detailed description, particularly when taken together with the appended drawings.

    BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

    [0017] FIG. 1 shows an example schematic diagram of a typical phase lock loop (PLL) circuit employing a charge pump.

    [0018] FIG. 2 shows an example set of waveforms for a reference clock, a VCO output signal, UP and DOWN pulses, and a control voltage "ripple" associated with the PLL circuit of FIG. 1.

    [0019] FIG. 3 shows an example schematic diagram of an apparatus having charge-pump phase lock loop (PLL) circuit with adaptive control of a loop filter sampling interval to mitigate the effects of charge pump leakage.

    [0020] FIG. 4 shows a flowchart of an example process for adaptive control of a sampling interval for the loop filter.

    [0021] FIG. 5 shows a set of waveforms for a reference clock, an advanced reference clock,

    UP and DOWN pulses, switch control signals PHIl and PHI2, charge pump output voltage

    Vp, and VCO control voltage Vctrl according to the apparatus of FIG. 3.

    [0022] To facilitate understanding, identical reference numerals have been used, where possible to designate identical elements that are common to the figures, except that suffixes may be added, when appropriate, to differentiate such elements. The images in the drawings are simplified for illustrative purposes and are not necessarily depicted to scale.

    [0023] The appended drawings illustrate exemplary configurations of the disclosure and, as such, should not be considered as limiting the scope of the disclosure that may admit to other equally effective configurations. Correspondingly, it has been contemplated that features of some configurations may be beneficially incorporated in other configurations without further recitation.

    DETAILED DESCRIPTION

    [0024] The word "exemplary" is used herein to mean "serving as an example, instance, or illustration." Any configuration or design described herein as "exemplary" is not necessarily to be construed as preferred or advantageous over other embodiments or designs.

    [0025] FIG. 3 shows a schematic diagram of an apparatus 300 having a charge-pump phase lock loop (PLL) circuit 301 with adaptive control of a loop filter sampling interval to mitigate the effects of a charge pump leakage current. The apparatus 300 includes a charge-pump PLL circuit 301, a programmable delay 302 and a sampling switch controller 340. The programmable delay 302 receives an advanced version of a reference clock signal, denoted as REF CLK ADV. The advanced version of the reference clock signal is hereinafter referred to as an "advanced reference clock signal." An output of the programmable delay 302 represents the reference clock signal, denoted as REF CLK, which is an input into the PLL circuit 301.

    [0026] The PLL circuit 301 includes a phase frequency detector (PFD) 304, a charge pump 306, a loop filter 320, a voltage (or current) controlled oscillator (VCO) 330 and a divide -by-N divider 332. In operation, the PFD 304 detects a phase error, via a phase comparison, between the reference clock signal REF CLK and a divided output clock from the divide-by-N divider 332. The PFD 304 generates and outputs UP and DOWN pulses which drive the charge pump 306.

    [0027] The advanced reference clock signal REF CLK ADV, and advanced divider clock signal DIV CLK ADV, and the UP and DOWN pulses are sent to a sampling switch controller 340. The outputs of sampling switch controller, denoted as PHIl and PHI2, are configured to synchronize a sampling interval of the loop filter 320 via sampling switches 316 and 317 (both depicted in an open state). The sampling switch 316 is positioned between the charge pump 306 output and the loop filter 320 input. In one configuration, the sampling switch controller 340 is a state machine.

    [0028] In the example configuration shown in Fig. 3, a sampling switch 317 is positioned between a unity gain amplifier 318 output and the charge pump 306 output. The purpose of the sampling switch 317 and unity gain amplifier 318 is to pre-charge the charge pump 306 output voltage, Vp, to the loop filter output voltage, Vctri, to mitigate charge pump 306 output leakage across parasitic capacitor 315 (CPAR). Prior to closing sampling switch 316; sampling switch 317 is opened as shown in Fig. 5. The sampling switch 317, unity gain amplifier 318 and PHI2 control signal are optional and the benefit of pre-charging the charge pump 306 output is dependent on the value of the parasitic capacitor 315 (CPAR). [0029] The charge pump 306 injects a charge proportional to a detected phase error into the loop filter 320 when the sampling switch 316 is closed. The loop filter 320 then generates a control voltage Vctri (or current) that is a frequency control input to the VCO 330. The VCO 330 generates a VCO output signal, denoted as VCO CLK, whose frequency is proportional to the control voltage Vctri (or current).

    [0030] The PLL circuit 301 has a locked condition and a lock acquisition phase to achieve the locked condition. In the locked condition, the UP and DOWN pulses are of substantially equal duration and no net charge is injected into the loop filter 320. Hence the control voltage (or current) Vctri is ideally at a constant value which ensures that the VCO 330 output signal VCO CLK is at a constant frequency.

    [0031] The loop filter 320 may include a capacitor (CFILT) 324 and a resistor (RFILT) 322 which accumulates charge to produce a control voltage that "sets" a control frequency which provides a correction voltage (if needed) at every phase comparison. It should be noted that the PFD 304 is clocked by the reference clock signal REF CLK, i.e. the phase comparisons occur at reference frequency intervals.

    [0032] The apparatus 300 may further include an external reference oscillator (not shown). The advanced reference clock signal REF CLK ADV is a function of a clock signal from the external reference oscillator (not shown) and may be a fraction of the external reference oscillator, the fraction being derived by a divider (not shown) in a path between the external reference oscillator and the programmable delay 302.

    [0033] The loop filter 320 is only exemplary and may also include other components and other designs. For example, commonly an extra pole capacitor (not shown) is added in the loop filter 320. The extra pole capacitor may be 1/10 the value of capacitor 324. The extra pole capacitor does not affect PLL 301 settling time or loop stability, but improves reference spur rejection in the VCO 330 output signal. Likewise, the charge pump configuration is only exemplary.

    [0034] From a leakage perspective, a sampling operation corresponding to the loop filter sampling interval should have of a minimum duration, i.e. the loop filter 320 is connected to the charge pump only when the UP or DOWN pulses are active (ON) and disconnected otherwise. In the locked condition, the UP and DOWN pulses are of minimum duration, i.e. a minimum pulse width is always maintained for both pulses to avoid an appearance of a dead-zone whereby the PFD 304 does not respond to very small phase errors. However, during a lock acquisition phase, the UP and DOWN pulses can be very long (a significant fraction of the reference cycle) which also sets a minimum constraint on a duration of the sampling operation by the sampling switch 316. If sampling switch 316 is turned off while the UP and DOWN pulses are still active (ON), some of the error charge is "lost" and the effective loop gain is reduced. Thereby, loop dynamics are changed and stability issues may arise.

    [0035] The apparatus 300 described herein may be used for various electronics circuits including communication circuits. For example, the apparatus 300 may be used in (1) a transmitter subsystem to generate a local oscillator (LO) signal used for frequency upconversion, (2) a receiver subsystem to generate an LO signal used for frequency downconversion, (3) a digital subsystem to generate clock signals used for synchronous circuits such as flip-flops and latches, and (4) other circuits and subsystems. [0036] FIG. 4 shows a flowchart of an example process 400 for adaptive control of a loop filter sampling interval of loop filter 320 to minimize the time the loop filter 320 is connected to any potential leakage paths in a charge pump 306. The process 400 may be implemented in a hardware state machine or hardware logic function. The sampling interval is controlled by a sampling switch controller 340. In the exemplary embodiment, there are shown two sampling switches 316 and 317 which are synchronized to open and close, via the switch controller 340, in accordance with the process 400. [0037] The process 400 begins with sending an advanced reference clock signal REF CLK ADV to the sampling switch controller 340 of block 402. At block 404, the advanced reference clock signal REF CLK AD V is delayed by a programmable delay 302 to generate the reference clock signal REF CLK to PFD 304. At block 406, the PFD 304 sends UP and DOWN pulses to the charge pump 306 and to the sampling switch controller 340. Divide by N Divider 332 sends advanced divider clock DIV CLK ADV to the sampling switch controller 340. At block 407, the switch controller 340 closes sampling switch 317 (PHI2 HIGH) to pre-charge the charge pump 306 output utilizing a combination of DIV CLK AD V and REF CLK ADV signals to generate PHI2 pre-charge pulses. [0038] At block 408, a determination is made whether the phase comparison (or next cycle) is to begin. If the determination is NO, the process 400 loops to the beginning of block 408. However, if the determination at block 408 is YES, the sampling switch 317 is opened (PHI2 LOW) and sampling switch 316 is closed (PHIl HIGH) at block 410 which corresponds to the beginning of the loop filter sampling interval. At block 412, a determination is made whether falling transitions of both UP and DOWN pulses have been detected. If the determination is NO, block 412 loops back to the beginning of block 412. However, if the determination is YES, the sampling switch 316 is opened at block 414 which corresponds to the end of the loop filter sampling interval. Block 414 loops back to block 402.

    [0039] The process 400 adaptively controls the width of the loop filter sampling interval (duration the sampling switch 316 is closed) based on a length of the UP and DOWN pulses, i.e. the loop filter sampling interval is automatically adjusted to accommodate for long UP/DOWN pulses (during the lock acquisition phase) and to accommodate for a minimum length UP/DOWN pulses (in the locked condition).

    [0040] The reference clock signal REF CLK to the PLL circuit 300 is delayed by a programmable amount. The sampling switch controller 340 is clocked when the advanced reference clock signal REF CLK ADV or advanced divider clock signal DIV CLK ADV is turned ON where the sampling switch 316 is closed just before the phase comparison instant. The sampling switch controller 340 then waits for the falling transitions of the UP and DOWN pulses to occur - once both these events are detected, the sampling switch 316 is opened. Thus, process 400 ensures that substantially all the error charge has been sampled onto the loop filter 320 while simultaneously minimizing the time for which the loop filter 320 is connected to any potential leakage paths in the charge pump 306. A resultant control voltage Vctrl remains constant once the sampling switch 316 is opened until the next phase comparison where the advanced reference clock REF CLK ADV or the advanced divider clock DIV CLK ADV (whichever occurs first) is turned ON. [0041] The feedback path of unity gain amplifier 318 and sampling switch 317 is utilized to pre-charge the charge pump 306 output prior to phase comparisons between REF CLK and DIV CLK. The feedback circuit is required if CPAR 315 is present on the charge pump output to prevent charge sharing between CFILT and CPAR when the sampling switch 316 (PHIl HIGH) is closed at the next phase comparison instant.

    [0042] FIG. 5 shows a set of waveforms 500 for a reference clock signal REF CLK, an advanced reference clock signal REF CLK ADV, UP and DOWN pulses, switch controls PHIl and PHI2, a charge pump 306 output voltage Vp, and a control voltage Vctri associated with the apparatus 300 of FIG. 3.

    [0043] The switch control PHIl is a synchronized sampling switch control that has a rising transition that corresponds to the rising transition of the advanced reference clock signal REF CLK ADV or the advanced divider clock signal DIV CLK ADV (whichever occurs first) Moreover, the falling transitions of the UP and DOWN pulses and the switch control PHIl coincide. In operation, the sampling switch controller 340 switches ON (closes) the sampling switch 316 (corresponding to the rising transition of the switch control PHIl) based on the advanced reference clock signal REF CLK ADV or the advanced divider clock signal DIV CLK AD V being ON (whichever occurs first). Furthermore, the sampling switch controller 340 switches OFF (opens) the sampling switch 316 (corresponding to the falling transition of the switch control PHIl) which is synchronized to correspond to the falling transition of the UP and DOWN pulses. Thus, the sampling switch 316 is turned ON just before the phase comparison operation by the PFD 304 takes place and turned OFF once the phase comparison operation is completed. [0044] The switch control PHI2 is a synchronized sampling switch control that has a falling transition that corresponds to the rising transition of the PHIl signal. The PHI2 pulse duration can be as long as the PHIl low period or as short as required to pre-charge the charge pump 306 output node, Vp. In operation, the sampling switch controller 340 switches ON (closes) the sampling switch 317 (corresponding to the rising transition of the switch control PHI2) based on the advanced reference clock signal REF CLK ADV and advanced divider clock signal DIV CLK ADV being OFF. Furthermore, the sampling switch controller 340 switches OFF (opens) the sampling switch 317 (corresponding to the falling transition of the switch control PHI2) which is synchronized to correspond to the rising transition of sampling switch 316 (PHIl HIGH). Thus, the sampling switch 317 is turned ON prior to the phase comparison operation to pre-charge charge pump 306 output, Vp, and turned OFF once the phase comparison operation has started (PHIl rising transition).

    [0045] In operation, a voltage droop in the control voltage Vctri, represented by the decreasing slope (voltage vs. time) from the charge pump leakage, is essentially limited to the duration between a rising transition of the advanced reference clock signal REF CLK ADV to an ON state and rising transitions of the UP or DOWN pulse. Then, the control voltage Vctri, represented by the increasing slope, rises until a rising transition of the DOWN pulse. Thereafter, the control voltage Vctri is essentially constant until the next rising transition of the advanced reference clock signal REF CLK ADV to an ON state. In the illustrated example of FIG. 5, assume that the charge pump leakage current tries to remove charge stored on the loop filter capacitor 324. Another analysis can be done for the case when the charge pump leakage current polarity is reversed, i.e. the leakage current tries to add extra charge onto the loop filter 320.

    [0046] The apparatus 300 described therein mitigates the effect of charge pump leakage in a PLL 300 utilizing process 400 and timing diagram 500. Additionally, the apparatus 300 decouples the charge pump 306 output from the loop filter 320 and VCO 330 at all times other than the phase comparison instant. In instances where there is power supply noise present at the charge pump 306 (Vdd node), the power supply noise will be further mitigated by the PHIl active duty cycle (portion of the PHIl clock period that is high in %).

    [0047] The apparatus 300 described herein may be used for various systems and applications. For example, the apparatus 300 may be used for wireless communication systems such as cellular systems, orthogonal frequency division multiple access (OFDMA) systems, multiple-input multiple-output (MIMO) systems, wireless local area networks (WLANs), and so on. The cellular systems include Code Division Multiple Access (CDMA) systems, Global System for Mobile Communications (GSM) systems, and so on. The CDMA systems include IS-95, IS-2000, IS-856, and Wideband-CDMA (W-CDMA) systems. The apparatus 300 may be embedded in a wireless device as well as a base station. For a time division duplexed (TDD) system that transmits and receives at different times, such as a GSM system or an IEEE 802.11 system, one apparatus 300 with the PLL circuit 301 may be used for both the transmit and receive paths. For a frequency division duplexed (FDD) system that transmits and receives at the same time on different frequency bands, such as a CDMA system, one apparatus 300 with the PLL circuit 301 may be used for the transmit path and another may be used for the receive path. \

    [0048] The apparatus 300 described herein may be implemented in various configurations. For example, all or many of the circuit blocks for the apparatus 300 and/or PLL circuit 301 may be implemented within an integrated circuit (IC), an RF integrated circuit (RFIC), an application specific integrated circuit (ASIC), and so on. The apparatus 300 may also be implemented with a combination of one or more ICs, discrete components, and so on. The apparatus 300 may also be fabricated with various IC process technologies such as complementary metal oxide semiconductor (CMOS), bipolar junction transistor (BJT), bipolar-CMOS (BiCMOS), silicon germanium (SiGe), gallium arsenide (GaAs), and so on. [0049] The previous description of the disclosed embodiments is provided to enable any person skilled in the art to make or use the present invention. Various modifications to these embodiments will be readily apparent to those skilled in the art, and the generic principles defined herein may be applied to other embodiments without departing from the spirit or scope of the invention. Thus, the present invention is not intended to be limited to the embodiments shown herein but is to be accorded the widest scope consistent with the principles and novel features disclosed herein.

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    WHAT IS CLAIMED IS:

    1. An apparatus comprising: a voltage controlled oscillator (VCO); a phase frequency detector (PFD) to provide a phase comparison operation; a loop filter to generate a control voltage to lock the VCO to a desired operating frequency; a charge pump to generate an output signal to the loop filter in response to at least one of an UP pulse and a DOWN pulse; a sampling switch, coupled to an input of the loop filter and an output of the charge pump, and characterized by a sampling interval; and a sampling switch controller to adaptively control a width of the sampling interval to mitigate effects of leakage current from the charge pump by closing the sampling switch in advance of the phase comparison operation and opening the sampling switch when the phase comparison operation is completed.

    2. The apparatus of claim 1, wherein the sampling switch controller is further configured to adaptively control the width of the sampling interval for a duration based on a length of both UP and DOWN pulses to the charge pump.

    3. The apparatus of claim 1, wherein the sampling switch controller is further configured to adaptively control the width of the sampling interval as a function of a longest length of either the UP and DOWN pulses, depending on which of the UP pulse and the DOWN pulse is longest, to the charge pump during a lock acquisition phase.

    4. The apparatus of claim 3, wherein the sampling switch controller is further configured to adaptively control the width of the sampling interval as a function of a maximum length of either the UP and DOWN pulses, depending on which of the UP pulse and the DOWN pulse is longest, in a locked condition.

    5. The apparatus of claim 1, wherein the sampling switch controller is further operable to detect for falling transitions of the UP and DOWN pulses to occur; and in response to detecting the falling transitions of both the UP and DOWN pulses, control the sampling switch to open.

    6. The apparatus of claim 1, wherein the sampling switch controller is further operable to pre-charge the charge pump output node to the control voltage present at the loop filter prior to phase comparison operation.

    7. The apparatus of claim 5, wherein the PFD is further configured to produce the UP and DOWN pulses; and further comprising a programmable delay wherein the sampling switch controller and the programmable delay receive an advanced reference clock signal as well as an advanced divider clock signal, the programmable delay being configured to delay the advanced reference clock signal to produce a reference clock signal to initiate the phase comparison operation; and the sampling switch controller being configured to control the sampling switch to close just before the phase comparison operation by the PFD and to open just after the phase comparison operation thereby ensuring that all error charge has been sampled onto the loop filter while simultaneously minimizing a duration for which the loop filter is connected to potential leakage paths in the charge pump.

    8. The apparatus of claim 7, wherein a resultant control voltage from the loop filter to the VCO remains constant once the sampling switch is opened until a next cycle where the advanced reference clock signal or the advanced divider clock (whichever occurs first) is turned ON.

    9. An integrated circuit comprising: a voltage controlled oscillator (VCO); a loop filter to generate a control voltage to lock the VCO to a desired operating frequency; a charge pump to generate an output signal to the loop filter in response to at least one of an UP pulse and a DOWN pulse; a sampling switch, coupled to an input of the loop filter and an output of the charge pump, and characterized by a sampling interval; and a sampling switch controller to adaptively control a width of the sampling interval to mitigate effects of leakage current from the charge pump by closing the sampling switch in advance of an ON state of the UP pulse or the DOWN pulse, depending on which of the UP pulse and DOWN pulse occurs first, and opening the sampling switch after both the UP and DOWN pulses have returned to an OFF state.

    10. The integrated circuit of claim 9, wherein the sampling switch controller is further configured to adaptively control the width of the sampling interval for a duration based on a length of both the UP and DOWN pulses to the charge pump.

    11. The integrated circuit of claim 9, wherein the sampling switch controller is further configured to adaptively control the width of the sampling interval as a function of a longest length of either the UP and DOWN pulses, depending on which of the UP pulse and the DOWN pulse is longest, to the charge pump during a lock acquisition phase.

    12. The integrated circuit of claim 11, wherein the sampling switch controller is further configured to adaptively control the width of the sampling interval as a function of a maximum length of either the UP and DOWN pulses, depending on which of the UP pulse and the DOWN pulse is longest, in a locked condition.

    13. The integrated circuit of claim 9, wherein the sampling switch controller is further configured to detect for falling transitions of the UP and DOWN pulses to occur; and in response to detecting the falling transitions of both the UP and DOWN pulses, control the sampling switch to open.

    14. The integrated circuit of claim 9, wherein the sampling switch controller is further configured to pre-charge the charge pump output node to the control voltage present at the loop filter prior to a phase comparison operation.

    15. The integrated circuit of claim 13, further comprising a phase frequency detector (PFD) to perform the phase comparison operation and produce the UP and DOWN pulses; and a programmable delay wherein the sampling switch controller and the programmable delay receive an advanced reference clock signal as well as an advanced divider clock signal, the programmable delay delaying the advanced reference clock signal to produce a reference clock signal to initiate the phase comparison operation; the sampling switch controller controlling the sampling switch to close just before the phase comparison operation by the PFD and to open just after the phase comparison operation thereby ensuring that all error charge has been sampled onto the loop filter while simultaneously minimizing a duration for which the loop filter is connected to potential leakage paths in the charge pump.

    16. The integrated circuit of claim 15, wherein the control voltage from the loop filter to the VCO is further configured to remain constant once the sampling switch is opened until a next cycle where the advanced reference clock signal or the advanced divider clock (whichever occurs first) is turned ON.

    17. A device configured to operate with a phase lock loop (PLL) circuit having a loop filter , a charge pump to provide an output signal to the loop filter in response to at least one of an UP pulse and a DOWN pulse, and a sampling switch coupled between the loop filter and the charge pump and characterized by a sampling interval, the device comprising a sampling switch controller to adaptively control a width of the sampling interval to mitigate effects of leakage current from the charge pump by: closing the sampling switch in advance of an ON state of the UP or DOWN pulse, depending on which of the UP pulse and the DOWN pulse occurs first; and opening the sampling switch after both the UP and DOWN pulses have returned to an OFF state.

    18. The device of claim 17, wherein the sampling switch controller is further configured to adaptively control the width of the sampling interval for a duration based on a length of both UP and DOWN pulses to the charge pump.

    19. The device of claim 17, wherein the sampling switch controller is further configured to adaptively control the width of the sampling interval as a function of a longest length of either the UP and DOWN pulses, depending on which of the UP pulse and the DOWN pulse is longest, to the charge pump during a lock acquisition phase.

    20. The device of claim 19, wherein the sampling switch controller is further configured to adaptively control the width of the sampling interval as a function of a maximum length of either the UP and DOWN pulses, depending on which of the UP pulse and the DOWN pulse is longest, in a locked condition of the PLL circuit.

    21. The device of claim 17, wherein the sampling switch controller is further configured to detect for falling transitions of the UP and DOWN pulses to occur; and in response to detecting the falling transitions of both the UP and DOWN pulses, control the sampling switch to open.

    22. The device of claim 17, wherein the sampling switch controller is further configured to pre-charge the charge pump output node to the control voltage present at the loop filter prior to phase comparison operation.

    23. The device of claim 21, wherein the PLL circuit further includes a phase frequency detector (PFD) to provide a phase comparison operation and produce the UP and DOWN pulses, and wherein the device is further configured to operate with a programmable delay wherein the sampling switch controller and the programmable delay receive an advanced reference clock signal as well as an advanced divider clock signal, the programmable delay being configured to delay the advanced reference clock signal to produce a reference clock signal to initiate the phase comparison operation, the sampling switch controller further being configured to control the sampling switch to close just before the phase comparison operation by the PFD and to open just after the phase comparison operation thereby ensuring that all error charge has been sampled onto the loop filter while simultaneously minimizing a duration for which the loop filter is connected to potential leakage paths in the charge pump.

    24. The device of claim 23, wherein the control voltage from the loop filter to the VCO is further configured to remain constant once the sampling switch is opened until a next cycle where the advanced reference clock signal or the advanced divider clock (whichever occurs first) is turned ON.

    25. A phase lock loop (PLL) circuit adapted to operate with a sampling switch controller, the PLL circuit comprising a loop filter, a charge pump to generate an output signal to the loop filter in response to at least one of an UP pulse and a DOWN pulse, and a sampling switch coupled between the loop filter and the charge pump and characterized by a sampling interval, whereby the sampling switch controller adaptively controls a width of the sampling interval to mitigate effects of leakage current from the charge pump by closing the sampling switch in advance of an ON state of the UP or DOWN pulse, depending on which of the UP pulse and the DOWN pulse occurs first, and opening the sampling switchafter both the UP and DOWN pulses have returned to an OFF state.

    26. The PLL circuit of claim 21, wherein the PLL circuit further includes: a phase frequency detector (PFD) to provide a phase comparison operation and produce the UP and DOWN pulses, and adapted to operate with a programmable delay, whereby the sampling switch controller and the programmable delay receive an advanced reference clock signal, the programmable delay being configured to delay the advanced reference clock signal to produce a reference clock signal to initiate the phase comparison operation, and whereby the sampling switch controller closes the sampling switch just before the phase comparison operation by the PFD and opens the sampling switch just after the phase comparison operation thereby ensuring that all error charge has been sampled onto the loop filter while simultaneously minimizing a duration for which the loop filter is connected to potential leakage paths in the charge pump.

    27. The PLL circuit of claim 23, wherein the control voltage from the loop filter to the VCO is further configured to remain constant once the sampling switch is opened until a next cycle where the advanced reference clock signal or the advanced divider clock signal (whichever occurs first) is turned ON.

    28. An apparatus comprising: a phase lock loop (PLL) circuit; means for closing a sampling switch in advance of an ON state of an UP or DOWN pulse to a charge pump from a phase frequency detector (PFD) of the PLL circuit depending on which of the UP pulse and the DOWN pulse occurs first; and means for opening the sampling switch after both the UP and DOWN pulses have returned to an OFF state to control a width of a sampling interval of the sampling switch to mitigate effects of leakage current from the charge pump.

    29. The apparatus of claim 28, further comprising means for adaptively controlling the width of the sampling interval for a duration based on a length of both UP and DOWN pulses to the charge pump.

    30. The apparatus of claim 28, further comprising means for adaptively controlling the width of the sampling interval as a function of a longest length of either the UP and DOWN pulses, depending on which of the UP pulse and the DOWN pulse is longest, to the charge pump during a lock acquisition phase.

    31. The apparatus of claim 30, further comprising means for adaptively controlling the width of the sampling interval as a function of a maximum length of either the UP and DOWN pulses, depending on which of the UP pulse and the DOWN pulse is longest, in a locked condition of the PLL circuit.

    32. The apparatus of claim 28, further comprising means for detecting for falling transitions of the UP and DOWN pulses to occur; and means for, in response to detecting the falling transitions of both the UP and DOWN pulses, controlling the sampling switch to open.

    33. The apparatus of claim 28, further comprising means for pre-charging the charge pump output node to the control voltage present at the loop filter prior to a phase comparison operation.

    34. The apparatus of claim 32, further comprising means for controlling the sampling switch to close just before a phase comparison operation by the PFD and to open just after the phase comparison operation thereby ensuring that all error charge has been sampled onto a loop filter of the PLL circuit while simultaneously minimizing a duration for which the loop filter is connected to potential leakage paths in the charge pump.

    35. The apparatus of claim 34, further comprising means for holding the control voltage from the loop filter to the VCO constant once the sampling switch is opened until a next cycle where the advanced reference clock signal or the advanced divider clock (whichever occurs first) is turned ON.

    36. A method for mitigating the effects of leakage current from a charge pump of a phase lock loop (PLL) circuit, the method comprising: closing a sampling switch in advance of an ON state of an UP or DOWN pulse to the charge pump from a phase frequency detector (PFD) of the PLL circuit depending on which of the UP pulse and the DOWN pulse occurs first; and open the sampling switch after both the UP and DOWN pulses have returned to an OFF state to control a width of a sampling interval of the sampling switch to mitigate the effects of the leakage current from the charge pump of the PLL circuit.

    37. The method of claim 36, further comprising controlling the width of the sampling interval for a duration based on a length of both UP and DOWN pulses to the charge pump.

    38. The method of claim 36, further comprising controlling the width of the sampling interval as a function of a longest length of either the UP and DOWN pulses, depending on which of the UP pulse and the DOWN pulse is longest, to the charge pump during a lock acquisition phase.

    39. The method of claim 38, further comprising controlling the width of the sampling interval as a function of a maximum length of either the UP and DOWN pulses, depending on which of the UP pulse and the DOWN pulse is longest, in a locked condition of the PLL circuit.

    40. The method of claim 35, further comprising detecting for falling transitions of the UP and DOWN pulses to occur; and in response to the detecting of the falling transitions of both the UP and DOWN pulses, controlling the sampling switch to open.

    41. The method of claim 36, further comprising pre-charging the charge pump output node to the control voltage present at the loop filter prior to PFD phase comparison operation.

    42. The method of claim 40, further comprising controlling the sampling switch to close just before a phase comparison operation by the PFD and to open just after the phase comparison operation thereby ensuring that all error charge has been sampled onto a loop filter of the PLL circuit while simultaneously minimizing a duration for which the loop filter is connected to potential leakage paths in the charge pump.

    43. The method of claim 42, further comprising holding the control voltage from the loop filter to the VCO constant once the sampling switch is opened until a next cycle where the advanced reference clock signal or the advanced divider clock (whichever occurs first) is turned ON.


    【特表2012-509024】
    WO2010/056912
    より引用
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